一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的HPLC检测方法与流程

文档序号:35056550发布日期:2023-08-06 14:32阅读:53来源:国知局
一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的HPLC检测方法与流程

本发明涉及色谱法测试或分析,具体来说,涉及头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法。


背景技术:

1、头孢硫脒系第一代头孢菌素,其对革兰阳性菌及部分革兰阴性菌均有抗菌活性,对革兰阳性球菌的作用尤强。临床上主要用于敏感菌所引起呼吸系统、肝胆系统、五官、尿路感染及心内膜炎、败血症。本品通过抑制敏感菌的细胞壁合成产生作用,主要作用于细菌的中隔细胞壁,抑制细菌粘肽合成第三步,阻止粘肽的交叉联结,使完整的细胞壁无法形成,而产生杀菌作用;是一种繁殖期杀菌剂。

2、头孢硫脒化学结构如下所示:

3、

4、中国药典2020版中对头孢硫脒钠盐的质量控制包括酸碱度、澄清度与颜色、有关物质(杂质c、杂质d峰等)、残留溶剂、细菌内毒素等。

5、其中对头孢硫脒聚合物的有关物质的质量控制检测按照hplc法(中国药典通则0512)测定。色谱条件为:用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂(kromasil100-5c18,4.6mmx250mm,5μm或效能相当的色谱柱);以磷酸盐缓冲液(取无水磷酸氢二钠2.76g,枸橼酸1.29g,加水溶解并稀释成1000ml)-乙腈(86:14)为流动相;检测波长为254nm;进样体积10μl。具体测定方法为:精密量取供试品溶液、对照溶液与杂质c对照品溶液,分别注入液相色谱仪,记录色谱图至主成分峰保留时间的2.5倍。

6、质量控制限度为:杂质c峰面积不得大于对照溶液主峰面积的0.1倍(0.1%),其他单个杂质峰面积不得大于对照溶液主峰面积的0.5倍(0.5%),各杂质峰面积的和不得大于对照溶液主峰面积的1.5倍(1.5%),小于灵敏度溶液主峰面积0.5倍的峰忽略不计。

7、抗生素中的高分子杂质,统称为聚合物。大量研究表明引发头孢菌素过敏反应的过敏原是制剂中高分子聚合物杂质,通过控制聚合物杂质可控制过敏反应的发生。因此,头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的含量水平的高低直接决定了产品的质量及后续临床用药的安全。但是,现行的头孢硫脒及其制剂的国内外现行药典质量标准均未对其聚合物杂质进行控制,仅对笼统的有关物质进行质控,无法具体分离确定聚合物杂质的含量。

8、中国专利申请cn104910186a公开了一种头孢硫脒水合物晶型。该专利披露该晶型稳定性较好,初始点聚合物杂质含量低,且不随着贮存时间的延长而明显明显。该专利文献也披露头孢硫脒国家药品标准未将头孢硫脒高分子聚合物列为检定项目,国内的药学研究也主要集中在头孢硫脒的合成与纯化,头孢硫脒及其制剂的纯度、含量及相关杂质测定,以及其降解产物的检测等方面;大多从提高含量、降低杂质等方面来提高其稳定性,在聚合物含量的考察中其结果并不理想。该专利文献披露的聚合物含量测定方法参照“高效分子排阻色谱法测定头孢硫脒聚合物含量”一文(晏会根,高效分子排阻色谱法测定头孢硫脒聚合物含量(j),海峡药学,2010,22(3):62-64)。该方法具体为采用tskgel g2000swxl,规格为7.8mm×30cm,5μm色谱柱,以0.01mol/l醋酸钠溶液:乙腈(93:7)为流动相,流速0.5ml/min,检测波长为254nm;文献披露是在0.4-2.0mg/ml范围内供试品溶液浓度与峰面积的线性相关系数r为0.9989。

9、但是本发明人团队重现上述聚合物检测方法发现,该专利文献披露的分析方法供试品溶液浓度与峰面积的线性相关系数r相比本发明的方法较低,这可能是由于其分离度不够导致(文献未披露,本发明人团队的重复结果为3.4)。

10、基于以上现状,有必要建立一种新的用于头孢硫脒及其制剂的聚合物杂质含量的更准确更灵敏的检测分析方法,使杂质特别是聚合物杂质能得到有效控制,保证后续产品的质量,保障临床用药安全。


技术实现思路

1、本发明的目的在于建立一种用于头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的hplc的分析方法,该方法具有分离度好、简单快速、专属性强、灵敏度高,能够对头孢硫脒及其制剂的聚合物杂质进行更好质量控制,保证产品质量和用药安全。

2、为此,本发明采用的具体技术方案如下:

3、一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,包括步骤:使用高效液相色谱法(hplc)对头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质进行分离测定,其中所述聚合物杂质为头孢硫脒与7-aca、头孢硫脒β-内酰胺环水解物以及头孢硫脒β-内酰胺环水解脱羧物形成的二聚体、三聚体和多聚体,所述hplc以球状亲水硅胶为填充剂,并以缓冲盐-有机相溶液作为流动相;所述检测方法中色谱柱柱温为30-40℃。

4、优选地,所述流动相中的缓冲体系选自磷酸氢二钠-磷酸二氢钠、枸橼酸-枸橼酸钠、柠檬酸-柠檬酸钠、乙酸-乙酸钠缓冲体系。进一步优选地,所述流动相中的缓冲体系为60-65%%体积比的磷酸氢二钠溶液和35-40%体积比的磷酸二氢钠溶液组成的混合液。更优选地,所述流动相中的有机相选自乙腈、丙酮、甲醇或乙醇,其与缓冲盐溶液的比例为88-92:12-10。

5、优选地,所述填充剂为分子量适用范围1000-10000的球状蛋白色谱用亲水硅胶。

6、优选地,所述检测方法中的色谱柱柱温为35℃。

7、优选地,所述检测方法中的检测波长为254±5nm。

8、优选地,所述检测方法中流动相的流速为0.5-0.7ml/min。

9、最优选地,本发明采用岛津lc-20at色谱仪和tsk-gel sw色谱柱,以0.01mol/l磷酸盐缓冲液与乙腈90:10混合液为流动相,在流速0.6ml/min、柱温35℃、检测波长254nm条件下进行。

10、由于采用了上述杂质分析方法,使得本发明具有分离度好、简单快速、专属性强、灵敏度高、再现性好的特点,能够对头孢硫脒及其制剂的聚合物杂质进行更符合杂质实际情况的质量控制,保证整个产品的质量和临床用药安全。故该法可以作为头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的常规监测手段。

11、本发明的有益效果为:

12、本发明的建立的一种用于头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的hplc分析方法,该方法具有分离度好、简单快速、专属性强、灵敏度高、再现性好,能够对头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质在更好分离的前提下得到更准确的含量测定,从而以此方法得到的质量控制标准将更符合实际杂质含量情况,可以让厂家、检验机构、监管部门对药品进行更好的质量控制,保证产品质量和用药安全。

13、本发明人团队发现,通过本发明新的hplc分析方法控制的聚合物质量标准,在头孢硫脒及其制剂的制备、贮藏、运输、使用等过程中可以较为方便的实时、现场测试聚合物杂质含量,按此分析方法达标合格的制剂,与通过现有文献方法记载的聚合物杂质质控相比,再现性更高、重复性更好,更能确保由此检测合格的药品在使用过程中发生的过敏等不良反应的大大减少。



技术特征:

1.一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于包括步骤:使用高效液相色谱法(hplc)对头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质进行分离测定,其中所述聚合物杂质为头孢硫脒与7-aca、头孢硫脒β-内酰胺环水解物以及头孢硫脒β-内酰胺环水解脱羧物形成的二聚体、三聚体和多聚体,所述hplc以球状亲水硅胶为填充剂,并以缓冲盐-有机相溶液作为流动相;所述检测方法中色谱柱柱温为30-40℃。

2.根据权利要求1所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述流动相中的缓冲体系选自磷酸氢二钠-磷酸二氢钠、枸橼酸-枸橼酸钠、柠檬酸-柠檬酸钠、乙酸-乙酸钠缓冲体系。

3.根据权利要求2所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述流动相中的缓冲体系为60-65%体积比的磷酸氢二钠溶液和35-40%体积比的磷酸二氢钠溶液组成的混合液。

4.根据权利要求1-3任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述流动相中的有机相选自乙腈、丙酮、甲醇或乙醇,其与缓冲盐溶液的比例为88-92:12-10。

5.根据权利要求1-4任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述填充剂为分子量适用范围1000-10000的球状蛋白色谱用亲水硅胶。

6.根据权利要求1-5任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述检测方法中的色谱柱柱温为35℃。

7.根据权利要求1-6任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述检测方法中的检测波长为254±5nm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,所述检测方法中流动相的流速为0.5-0.7ml/min。

9.根据权利要求1-8任一项所述的头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的hplc检测方法,其特征在于,采用岛津lc-20at色谱仪和tsk-gel sw色谱柱,以0.01mol/l磷酸盐缓冲液与乙腈90:10混合液为流动相,在流速0.6ml/min、柱温35℃、检测波长254nm条件下进行。


技术总结
本发明公开了一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的HPLC检测方法,包括步骤:使用高效液相色谱法(HPLC)对头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质进行分离测定,其中聚合物杂质为头孢硫脒与7‑ACA、头孢硫脒β‑内酰胺环水解物以及头孢硫脒β‑内酰胺环水解脱羧物形成的二聚体、三聚体和多聚体,该方法以球状亲水硅胶为填充剂,并以缓冲盐‑有机相溶液作为流动相,色谱柱柱温为30‑40℃。该方法具有分离度好、简单快速、专属性强、灵敏度高、再现性好,能够对头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质在更好分离的前提下得到更准确的含量测定。

技术研发人员:刘爽,谈宗华,刘明莉,唐琴,张薇,郭彬,万婷婷,郑流茜,王晓,吴统选
受保护的技术使用者:天圣制药集团重庆药物研究院有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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