一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路的制作方法

本技术涉及纳米压印的测量和检测相关领域，具体是一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路。

背景技术：

1、随着产业化应用的展开，纳米压印的在线检测和测量，最近越来越提出了更多的要求，对于检测精度和速度，要求能够实现在线实时检测，并达到可靠的检测率，目前，国内尚未见有纳米压印检测和测量设备，国外以美国德州大学奥斯汀分校和西班牙icn2研究所等为主，提供检测和测量设备。

2、在要测量被测物的某一点上的纳米结构，需要不断通过运动机构调整角度θ，耗费大量时间，但是，如果固定角度θ，又无法保证测量精度和数据完整性，容易导致测量效率低。

技术实现思路

1、因此，为了解决上述不足，本实用新型在此提供一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路。

2、本实用新型是这样实现的，构造一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，该装置包括外框，所述外框底端设有用于一用于放置待测样品的放置区域，且外框内右端设有一光源，所述放置区域上端区域设有一转换机构用于将一束所述光源分割成两束不同入射角的光，并将两束不同入射角的光反射至放置在放置区域内的待测样品表面，所述外框内位于放置区域的左上方设有一用于接收测量光线的凸透镜，且凸透镜可将光线传导至位于其左上方的ccd相机。

3、优选的，所述转换机构包括分光镜，所述光源的左下角设有一分光镜。

4、优选的，所述放置区域的上方左右两端分别设有用于反射光线的第一反射镜和第二反射镜。

5、优选的，所述放置区域上方区域且位于第一反射镜和第二反射镜两者中间区域的左右两端设有第一凹面镜和第二凹面镜。

6、优选的，所述外框左上端设有ccd相机。

7、本实用新型具有如下优点：本实用新型通过改进在此提供一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，与同类型设备相比，具有如下改进：

8、本实用新型所述一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，采用一个分光镜和两个凹面镜，将一束光线变为两束光线，并且确保入射到同一个点，两束光线都会反射到ccd相机中，从而实现静止状态下的变角度测量，实现了不同角度两束光入射到同一个点，由于没有了运动机构，大大提高了系统的稳定性和耐用性。

技术特征：

1.一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，其特征在于：还包括外框（1），所述外框（1）底端设有用于一用于放置待测样品的放置区域（6），且外框（1）内右端设有一光源（2），所述放置区域（6）上端区域设有一转换机构用于将一束所述光源（2）分割成两束不同入射角的光，并将两束不同入射角的光反射至放置在放置区域（6）内的待测样品表面，所述外框（1）内位于放置区域（6）的左上方设有一用于接收测量光线的凸透镜（9），且凸透镜（9）可将光线传导至位于其左上方的ccd相机（10）。

2.根据权利要求1所述一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，其特征在于：所述转换机构包括分光镜（3），所述光源（2）的左下角设有一分光镜（3）。

3.根据权利要求2所述一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，其特征在于：所述放置区域（6）的上方左右两端分别设有用于反射光线的第一反射镜（4）和第二反射镜（8）。

4.根据权利要求1所述一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，其特征在于：所述放置区域（6）上方区域且位于第一反射镜（4）和第二反射镜（8）两者中间区域的左右两端设有第一凹面镜（5）和第二凹面镜（7）。

5.根据权利要求1所述一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，其特征在于：所述外框（1）左上端设有ccd相机（10）。

技术总结
本技术公开了一种用于测量衬底压印后结构尺寸的测量光路，包括外框，所述外框底端设有用于一用于放置待测样品的放置区域，且外框内右端设有一光源，采用一个分光镜和两个凹面镜，将一束光线变为两束光线，并且确保入射到同一个点，两束光线都会反射到CCD相机中，从而实现静止状态下的变角度测量，实现了不同角度两束光入射到同一个点，由于没有了运动机构，大大提高了系统的稳定性和耐用性。

技术研发人员：高恩阳
受保护的技术使用者：同晟智能设备（深圳）有限公司
技术研发日：20230817
技术公布日：2024/3/12