技术简介:
本发明提出了一种检验I型凹面光栅分度误差的新方法。现有的波面比较干涉仪只能半定量地测量衍射波面质量,并且需要频繁更换参考镜。新方法利用凹面光栅本身正负级光谱的衍射光束形成的干涉条纹来确定其分度精度,操作简便、成本低且无需更换参考镜。
关键词:I型凹面光栅,分度误差检验,干涉条纹测量
专利名称:I型凹面光栅分度误差的检验方法
本发明涉及一种Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,适用于检验凹面光栅的分度精度。
现有的检验凹面光栅分度误差的方法是采用波面比较干涉仪,此方法能半定量地测量衍射波面的质量,而无法判定影响衍射波面质量的Ⅰ型凹面光栅分度误差的性质和大小。并且采用此方法检验不同的Ⅰ型凹面光栅时,参考镜需调换。
本发明的任务是要提供一种新型的Ⅰ型凹面光栅分度误差的检验方法。它能够定量地检验Ⅰ型凹面光栅的分度误差。并且由于采用了通过检查凹面光栅本身正负级光谱的衍射光束形成的干涉条纹,以确定凹面光栅的分度精度,所以不存在更换参考镜问题。图1是本发明的原理图。
本发明的任务是以如下方式完成的参见图1从He-Ne激光器(1)射出的光束,经凹面反射镜(4)扩束,并经凹面反射镜(5)准直之后变为平行光束(7)和(7′),光束(7)直接射入凹面光栅(2),调节凹面光栅(2),使凹面光栅(2)的+M级光谱沿凹面光栅的表面中心处的法线方向衍射;平行光束(7′)经由平面反射镜(3)反射后,进入凹面光栅(2),调节平面反射镜(3),使凹面光栅(2)的-M级光谱也沿光栅表面中心处的法线方向衍射,+M级与-M级衍射光束在空间相会之后产生干涉条纹,干涉条纹的变形量△N(条纹数)与凹面光栅的分度误差△之间的关系如A式所示
△N= (2△)/(d) ·m (A)d-光栅的刻线间隔m-光谱级数本发明制作方便,操作容易,测量精度高,成本较低。
以下将结合附图对发明作进一步的详细描述。
参照图1一个有中心孔(8)的凹面反射镜(5)与另一个凹面反射镜(4)凹面相对地被固定,两凹面反射镜的焦点连线应与来自激光器(1)的光束(9)的中心线重合,且两凹面反射镜的焦点要重合,这样,来自激光器(1)的平行光束(9)通过凹面反射镜(5)的中心孔(8)射向凹面反射镜(4),经凹面反射镜(4)反射到凹面反射镜(5),由凹面反射镜(5)射出的光束(7)、(7′)即为平行光束。在平行光束(7)的前方装有被测工作台,被测的Ⅰ型凹面光栅(2)放置在被测工作台上,此工作台能三维转动,以便调整入射光束(7)入射到Ⅰ型凹面光栅的角度,使Ⅰ型凹面光栅(2)的+M级光谱沿它的表面中心处的法线方向衍射;在平行光束(7′)的前方装有平面反射镜(3),此平面反射镜(3)可作三维转动,用以调整入射光束(7′),使之经此平面反射镜而入射到Ⅰ型凹面光栅后,-M级光谱沿凹面光栅(2)表面中心处的法线方向衍射。这样,在+M级与-M级衍射光束的相会处(6)即有干涉条纹产生。在满足上述条件下,干涉条纹的变形量△N(条纹数)与凹面光栅的分度误差△之间的关系如A式所示。由A式可知,同一块Ⅰ型凹面光栅采用不同级的光谱检验时,干涉条纹变形量也不同(级数越大,干涉条纹变形量越大)。表1是对3块Ⅰ型凹面光栅采用不同光谱级数的测定记录。
表1
勘误表
权利要求1.一种I型凹面光栅分度误差检验方法,其特征在于该方法由凹面反射镜(4)、(5)和平面反射镜(3)构成。
2.如
权利要求1所述的Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,其特征在于凹面反射镜(4)的焦点与凹面反射镜(5)的焦点重合。
3.如
权利要求1所述的Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,其特征在于平面反射镜(3)可以三维转动。
4.如
权利要求1或2所述的Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,其特征在于被测工作台可以三维转动。
5.如
权利要求3所述的Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,其特征在于被测工作台可以三维转动。
专利摘要本发明公开了一种能定量检验I型凹面光栅分度误差的方法。它通过检验I型凹面光栅正负极光谱的衍射光束形成的干涉条纹,确定I型凹面光栅分度误差。
文档编号G01M11/02GK86107454SQ86107454
公开日1988年5月18日 申请日期1986年11月7日
发明者吴振华 申请人:北京光学仪器厂