专利名称：含有对抗性环境的过程容器内部温度测定仪的制作方法
技术领域：
本发明就一般而论，是关于充气容器或管道中的温度测量问题。更详细点说，它是关于含有高温计的系统的改进，这种高温计是专门用于测量反应室里提高后的温度的。一个以烃基燃料部分氧化而气化的方法，生产合成体气的发生器，就是这类反应室的一例。
一个气化过程可能包括气体、液体或固体烃基的气化。其中含不同浓度的不可气化的灰分物质。这种气化反应是在高温和高压的反应容器内部进行，该反应容器是由内部连续多层地敷以耐火材料的内衬。根据烃基原料的组成成分，各种热态气体在这样过程中产生，正常情况下都含有(由反应)带来的不能转化的碳的颗粒，参加反应的烃燃料，熔化的灰分和/或不熔化的高熔点灰分物质。在这样过程中使用的反应室的内部耐火墙，常会生成一层熔化了的灰渣，垂直地顺墙流下，直奔底部出口。
在如上述的气化过程中，具有一套可靠的反应室温度测定装置是很重要的。温度测量的可靠性多方面地影响气化过程的运行，包括对反应的控制、过程运行安全、耐火衬的毁坏率、以及熔化灰分的粘度控制，控制粘度的目的是保证有适当的灰渣通过反应器底部排除。
考虑到温度测定，曾使用过辐射高温计来测量诸如气化反应器及其相类设备的热表面和热态大气空间。辐射测高温技术包括热态环境发散出的热辐射的测定和由辐射定律有关的知识和关于要测量的表面和/或气体的辐射特性的知识或合理假设推论出其温度。
用以测量固体辐射的探测器是十分精密的而且需要与对抗性的大气环境绝缘，此大气的温度正是需用它测定的。正常情况下，这种绝缘是用瞄准璃窗口的形式同时还用一个气体清洗孔口通入容器外壳和其耐火衬的办法来实现的。这种办法为探测器提供了一个清洁的光学瞄准线，直通容器的内部。
上述绝缘方法的一个缺点在于不论何时只要被测的大气中含有熔化了的颗粒时，清洗过的观察孔就会被阻塞。在这种条件下，熔化的颗粒就可能被与其相邻的清洗观察孔的清洗气体冷却器冷却而冻结。因而光学瞄准通道就会逐渐地被积累的物料所堵塞。
关于解决这个问题的以前的一个专利是要在高温计与高温反应器之间维持一开式瞄准线，此专利是美国专利No.4，411533。这个发明包括一个由观察孔的壁面和顶部组成整体的顶棚架，以便把熔化的物料从孔口的顶部引开，和一个由观察孔的底部组成整体的倾斜的荫避通道，以便把熔化的物料从孔口的底部疏放走。
上述系统在实线中可能会遇到几个困难。当生产出来的反应气体携带高浓度的熔化颗粒时，大量的熔化物料从容器内部的纵向墙壁上流淌下来，覆盖住从瞄准孔为把物料引开而伸长棚架的容量。此外，如果熔化的物料与用以做伸长棚架的耐火材料有化学侵蚀作用时，此棚架就被侵害以至磨损掉。
但是，主要困难还在于清洗气体，清洗气体是保护瞄准孔的光学窗口与反应室内部的高温气体隔离的，而此清洗气体同时也冷却伸长的棚架。其结果使此棚架就成了冷却了的点，而此冷却点增加了对接触到它的熔化物料的冻结，以致于有足够的冷冻物料积聚，而使整个观察孔被堵塞。
另一个以前的专利，为美国专利No.4，400，097，此专利的作者们发明了一个含有一个高温计的辐射测量仪。高温计以一个伸长了的、穿过容器的耐火衬的测量管道从气化器式反应器接受辐射。测量管道提供了一个防止气体从容器中漏泄的安全室。安全室是一个密封的有两个光学窗口的小间。光学窗口是为防止灰尘和氮气清洗流的凝结液进入光学管内。在第二个外部光学管里流动的蒸汽是用以维持一清洁的开孔通进反应器。此外，还有第三个抗热窗孔用来防止蒸汽回流进内光学管和凝结在安全室的窗口上。
上述以前的两项专利的共同的另一弱点是，最靠近反应室的观察孔为一简单地钻通了容器的耐火衬的孔。这类孔眼很容易被热和机械应力所强制而弄歪或毁坏。这些应力可能在周密设计的反应室内占优势。由于热膨胀差的结果，某一耐火层可能与另外的耐火层错开，这样就可能部分地或全部地堵塞观察通道。反应室内迅速变化着的温度能使孔口边缘周围的耐火衬裂开，当这耐火衬一片片地脱落，孔口就扩大，瞄准通道变得难以清洗和清除堵塞物。
总之，以前的技术所提供的仪器易发生问题，或被积聚的在瞄准孔口周围的冻结的物料堵塞瞄准通道或被最靠近反应室的耐火材料的孔口部分的错开或毁坏而堵塞瞄准通道。
为了克服上述障碍而获得可靠的温度测量，提供一套新颖的系统的改进，此系统使用的为反应容器内的高温测量用的高温计。
本发明的一个目的是提供一个改进了的温度监视系统在其中的对抗性环境里使用高温计。
另一目的是提供一个改进了的光学引进口通向有粗糙的颗粒的环境，以获得要求有洁净的瞄准通道的光学测量设备，以便取得测量的精确性和可靠性。
进一步的目的，是提供一个耐久的光学引进口通到对抗性的环境中，而不会被此环境毁坏或弄歪。
再进一步的目的是提供周期性地清洗高温计瞄准通道的装置，此瞄准通道常被堵塞。
简单地说，本发明是关于测量含有携带固体的热态气体温度的装置。这些热态气体是装在以耐火材料加衬的反应室或管道中的。特别要说明的是反应室，其中有携入固体的熔化体片，总要在反应室或管道的壁面上形成熔化物质层。
这种仪器有一个高温计，诸如红外线比例高温计，通过一镶着两块观察玻璃的带边缘的筒子瞄向反应室或管道、一个瞄准线的开口安全阀，和一耐火金属的瞄准管。为了安放此瞄准管，就在容器或管道的单层或多层耐火材料衬层钻通一个孔。所钻的孔与一端联在容器或管道上的法兰盘孔口同轴心。此瞄准管插入联接孔口，使其最前端与加衬的容器或管道内表面取平。孔口的在耐火衬中的尺寸应与瞄准管和耐火衬之间留一小的环形缝隙。
另外，还提出一套清洗瞄准玻璃、阀门和瞄准管的内表面和外表面的装置并附有适当的清洗气体，或清洗用的各种配合气体，如氮气或由产品合成气体中分出一小股，加以冷却或清洗后的合成气体，瞄准玻璃的带边卷筒片、阀门、瞄准管和清洗装置都一个挨一个地联接起来并联到上述的容器的孔口上，联接时应保证装有热态气体的容器的压力整体性。系统的所有的组成部件必须维持在精确的、以法兰盘环、高温计定线环与瞄准管中心环定位的一条光学定位线上。
除上述各元件的配合外，还提供一套控制系统，这套控制系统不仅监视清洗系统内部的流量和压力，而且提供一套装置动态地调节各清洗流量以及响应反应室或管道内各参数变化的脉冲量。本发明的一个基本方面，就是清洗气体的流率和脉冲可被控制得不仅能保持瞄准通道清洁，而且如果在反应室或管道内的一些困难的运行条件下瞄准通道被堵塞了，还可以让它重新打开。
同时还提供一套安全系统包括监视两块瞄准玻璃的完整性的装置以及在一些不期而遇的事件中，一块或两块瞄准玻璃故障时能采取补救措施的装置。
本发明的前述以及其它目的和优点将在下面联系着被要实现本发明的发明者们所完成的最佳模式来更充分地加以说明。联系到此模式还提供以图的形式的说明，它们是
图1 为说明所包括的各元件的组合的横剖面图;和图2 为在图1上沿2-2线截取的横剖面图;
如上面所指出的，在装有含固体的热态气体同时在其壁面上还有一层熔化了的物料的容器或管道内部的温度，可用一高温计来测量。在这种情况下，不仅高温计需要保护，而且联通到容器的瞄准通道也必须维持得笔直、清洁并清除所有的障碍物。因此，就要求有一个像图1所说明的各种元件组成的系统。
图1表示有耐火材料做内衬的容器或管道8的一部分。在此容器或管道内有熔化了的材料层24，它在耐火内衬的最里面的表面上形成。高温计1经系统的法兰盘孔口12和若干其它元件一起联接在容器8上，以接受由容器8的内部11通过瞄准孔15发射出来的辐射。该瞄准孔是由内部喷管12和同轴沿直线钻透耐火层9和10而得到的直线孔，穿过瞄准孔15，和最里层的耐火层表面25取平地插入一根瞄准管7，此管是用耐火金属，如具有很高重结晶温度的钼合金制成的。
瞄准孔7穿过容器的所有耐火衬，联接在一个瞄准管的中心环6上。此环同心地固定在容器的法兰盘孔口12上。瞄准管中心环6做成像一个中心有孔的油炸面饼圈一样，有一个很小的油炸面饼圈式的内部通道16，它与在旁边引入的小孔17也相通，小孔17是联接清洗气体源26用的，清洗气体如氮气通过管线37与小孔17相连。内部通道16也与由瞄准孔15和瞄准管7之间形成的环形空间14通过许多小孔27相通。这些小孔沿着中心环的周界等距分布。由清洗气体26、旁侧通入孔17，内部通道16，小孔27和环形空间14所形成的空间提供一通道叫做二次清洗气流。此气流提供了一套维持或连续或断续的清洗气流来清洗瞄准管7的外表面的装置。此二次清洗气流也卷成一惰性气体的保护层，用以在可能暴露在氧化的大气环境的地方的情况下保护钼合金的瞄准管7。清洗气体26供应压力维持在比容器8的内部11的压力高出10至1000psi(磅每平方英吋)，最好高出100至500psi为宜。其气流率被阀门43控制着。
联接着瞄准管中心环6的是阀门5。在紧急情况下此阀门十分快速地关闭。可以这样理解，阀门5是这样制作的，如果该阀在开启的位置，那么内部空间18中就没有堵塞容器11的内部与高温计1之间的光学瞄准通道，阀门5的启动器47的尺寸做成即使在容器的内部和外部之间存在着全压力差时也能关闭阀门。关闭阀门5可以用手动引发也可以由控制系统28引发，控制系统监督并控制着整个系统的功能。
阀门5的另一端联接到一次清洗环4上，一次清洗环本身则联接在双瞄准玻璃有边缘的筒片3上。双瞄准玻璃有边筒片具有两片高压瞄准玻璃21和22，用以传递从容器内部11至高温计1之间的热辐射，同时又维持容器8的压力的整体性。两片瞄准玻璃21和22，有边筒片3、一次清洗环4，阀门5和瞄准管中心环6都是既分别制造又能成为整体，以便能承受可能在容器8中产生的高压。瞄准玻璃21和22本身可用适当的材料制造，如石英或蓝宝石，它们都在适当的光谱域具有很高的透射性，而且具有必要的机械性能参数。
与瞄准管中心环6相似，一次清洗环4做成有中心孔的油炸面饼圈的形状，有一个更小一点的油炸面饼圈状的内部通道20与由旁边引入的小孔19相通，以便与清洗气体如氮气源29经管线36相联接，须注意，气源29可以做成与给瞄准管中心环6的供气源26相同，但这并不是必须的。清洗气体供应源29要维持气压比容器8的内部11的压力高出10至1000psi(磅每平方吋)，高出100至500psi是最为可取的。清洗气体的流率由阀门44来控制。
一次清洗环4的内部通道20也与沿油炸面饼圈状的清洗环4通过许多等距布置的小孔31所形成的圆筒形空间30相通着。这许多小孔围绕着清洗环沿其周界排列而与一次瞄准玻璃21有一定的角度。
由清洗气源29、旁路引入联接孔19，油炸面饼圈状的内部通道20、沿周界排列的许多小孔31、圆筒形空间30在一次清洗环内部4和阀门5的内部空间，瞄准管中心环6和瞄准管7所形成的空间，提供了清洗气体流动通道，叫做一次清洗流，此清洗流最少有两种功能;第一借助气体从小孔引流出，在瞄准玻璃21表面上的冲扫作用使一次瞄准玻璃的内表面保持冷态和光学清洗，然后这气体再流入一次清洗环4的空间30。第二，瞄准管7的内部和瞄准管的开口13被清洗而保持开启，并因流过光学通道的气体的清洗作用而免除了堵塞物，此光学通道由一次瞄准玻璃21的内表面开始连续经过圆筒空间30、阀门5的内部空间18、瞄准管中心环6的内部空间32、瞄准管7的内部一直到瞄准管的开口13。在这些空间里的清洗气流或是连续的或是间断的、后面还将作出解释。
清洗气体流出两个开口13和14进入容器内部11，而与反应气体混合。
具有双层瞄准玻璃的有边筒片3、一次清洗环4、阀门5和瞄准管中心环6各自的端部都以联接环型法兰盘装配件密接在一起，此装配件能自动地把各元件按同心轴线排列。瞄准管7也做成与上述各元件同心轴线排列。高温计1安装系统中的各元件上并以一个光学定位环2与它们保持精密的光学定位直线。光学定位环2也用一个联接环型法兰盘装配件装配，以与双瞄准玻璃的有边筒片6相接。高温计的光学定位直线，用转动光学定位环2上的调整螺旋来完成。
这样，从高温计1一直到容器8的内部11的光学瞄准通道就从高温计的镜头开始穿过光学定位环2、双瞄准玻璃有边筒片3的两片同心安放的高压瞄准玻璃21和22、一次清洗环4的内部圆筒形空间30、阀门5的内部空间18、瞄准管中心环6内部圆筒形空间32，瞄准管7的圆筒形的内腔一直到瞄准管的开口13。
除上述的这些元件的配套，清洗光学瞄准通道、瞄准管7的外部圆筒表面等清洗装置外，在这里提出权利要求的系统还提供一套在紧急清洗下，使高温计1、和瞄准玻璃21和22与容器8隔绝的安全装置。
简言之，这套安全系统包括一个监视两片瞄准玻璃的装置以及一个在发生不希望出现的事件时即一片或两片瞄准玻璃被破坏了的时候能采取补救措施的装置。
安全系统的基本元件是双瞄准玻璃有边筒片3。参照图1，可见一次瞄准玻璃21和二次瞄准玻璃22是以一个小的，密封的、不透气的空间33所分割。这个空间与通过管线35而联接到一个高压气源34的旁侧引入孔23相通。气源34可做成与气源29和/或26一样的，但这不是必需的。尽管一般而论从气源34出来的气体是惰性气体。气源34的压力是这样控制的，它总是容器8的内部11的压力高出10至500磅每平方吋，最好是高出100～200磅每平方吋。正常情况下，在管线35中没有气流，因为这条管线终端是在瞄准玻璃21和22之间的密封的不透气的空间33中，但是，一旦一片或两片瞄准玻璃发生故障时就开始漏气，流量敏感元件38就要检测管线35中大于零的流量，压力敏感元件39就要检测低于整定压力值的压力降。在这种情况下，敏感元件38和39就要通过信号线路40和41分别地发出信号去控制系统28。一旦从40或41的任一条线路或两条同时接受到信号，控制系统28便通过线路42关闭阀门5。
如果一片瞄准玻璃发生故障，安全系统也提供了一种功能来确定哪一片发生了故障。如一次瞄准玻璃发生了故障，那么就会像压力敏感元件39所检测的那样，管线35中的压力降低不超过气源34与容器内部11之间的压力差。但是，如果二次瞄准玻璃22发生故障、那么管线35中的压力将降低到容器内部11的压力水平之下。
需指出，甚至于一片或两片瞄准玻璃发生故障，容器8内部的东西也不会从容器中损失掉。如果给一种条件允许(事故)坚持数秒钟，其结果是会使孔口12和容器8遭到严重损坏。如果一次瞄准玻璃21发生故障，那么气体就会从压力高于容器8内部压力的气源经管线35，穿过故障的一瞄准玻璃21而进入清洗过的光学瞄准通道，并进入容器的内部11。这种流动情况只需很短的时间，在几分之一秒的时间里，就会使敏感元件38和39检测出故障而给出信号，控制系统28就去关闭阀门5。
另一方面，如果二次瞄准玻璃22发生故障，气体将从气源34穿过管线35，穿过故障的二次瞄准玻璃22，进入光学定位环2，冲出到大气中。敏感元件38和39检测出管线35中的变化启动控制系统28迅速关闭阀门5。
本发明的最重要的方面是一套装置可使各种清洗气流被控制着以便维持一个清洁的光学瞄准通道、通向装着热的、其中带着颗粒气体的容器、而且还有一层熔化物料从此容器的纵向墙壁上流下来流入瞄准管的开口中。
再参看图1，在其壁面25上有熔化物质24的容器中，而且其中的气体含有熔化的和固体的颗粒，而这些固体颗粒和熔化的物质总是要进入瞄准管的开口13而将它堵塞，从而把通向高温计1的光学瞄准通道遮住。一组元件包括清洗气源29，控制阀44、供气管线36、一次清洗环4和空间20、31、30、18、32和13叫做一次清洗气流。维持着从一次清洗气流的气源29来的气流为常量，则从一次瞄准玻璃的内表面到瞄准管开口13的光学瞄准通道可以保持清洁、除掉固体和熔化的颗粒。
在容器8装着带少量熔化的颗粒的情况下，一个定量的一次清气流是保持瞄准管开口13清洁而免除遮堵的全部需要。但是在某些情况下有高浓度的熔化颗粒和有相当严重的熔化物质层24在容器8的内壁25上，大量的物质积存在瞄准管开口13的顶部，又因冷的清洗气体在壁面25上造成冷点使其温度低于熔化物质的熔点温度区域时。在开始的时候，这种积存的增长还不至于严重遮盖瞄准管的开口13，因而并不明显地影响由高温计1上获得的温度读数，但是，当在某些情况下，这种积存物增长到某一点，它开始由于自身重量而弯曲并开始下落到瞄准管开口上，形成严重遮盖，从而戏剧性地影响着温度读数。
由这套元件组成的系统所提供的装置来弥补刚才描述的问题，包括两个方面第一，所积聚的物质可以再加热使它再变成熔化了的;第二，这些积聚物可以强制地或吹掉，用沿着光学瞄准通道以及穿过环形空间14，导向到积聚物上的高压清洗气体的大量冲击波使它离开其位置，而进入容器内部11。
清除堵塞物的详细过程如下当由于聚积物增长而发生堵塞时，此堵塞情况可根据高温计读数的稳定下降来检测。当这种情况出现时，控制系统28分别通过管线42和45去关闭阀门5和43这个动作同时阻止一次清洗气流，即光学瞄准通道的气流和二次清洗气流，即环形空间14的气流。它同时也瞬间地中断了温度读数。但是如果在同一容器上采用两套相同的系统时，那么就可使一套系统一直在测量着温度，而另一系统执行此冲击工序。还需注意，阀门5是关闭着的，而阀门44则是开着的，以便保护一次瞄准玻璃21，这时一次清洗气流是停止了的。
随着阀门5和43都关闭，两股清洗气流都停止，壁面25上的冷点消失了，积聚物质又开始熔化。与此同时，清洗气源26和29的压力上升以便用大量的清洗气体来填充供气管线36和37准备下一步使用。
过适当时间之后，正常情况下1至60分钟，最好是1至15分钟，控制系统28通过管线42、45和46迅速地启开阀门5、43和44，使这些阀门大开。这样大量的气流，正常情况下可维持1至60秒钟，但最好能维持5至15秒。在此期间高温计读数因阻塞消除而恢复到原来的数值。紧接着这段时间之后，控制系统28把阀门43和44调整到它们原来的开度、把气源26和29的压力降低到它们的正常水平。
可以理解，本发明虽然可以不脱离其精神和范围而做出许多变型和改动，但在附录的权利要求中所指出的那些限制应该确立。
权利要求
1.一种为使烃基混合物在反应器的反应室中进行反应所用的反应器，用以产生合成气体和特种物质，上述反应器具有内部壁面(8)、耐火衬(9、10)围绕着反应室和一个膛孔(15)穿过上述衬，从反应器壁上的引入孔和一个开口进入反应室，其特征为一个可移动的瞄准管组装在上述膛孔(15)里，以承担通往反应室的观察通路来接触从那里出来的辐射线，并包括一个用来确定其内部圆筒形瞄准通路的，伸长了的管件(7)，具有一个平面和内部开口端和一个外部开口端，被安放在上述膛孔(15)中，来确定第二个在上述管件(7)与上述膛孔(15)之间的环状清洗气体通路(14)；上述伸长的管件(7)纵向地定位在上述膛孔(15)里，在这里其内部开口端的平面放在与反应室壁面(25)共同的平面上；一个环状的配气管(6)接在上述伸长管件的上述外开口端，且具有一入口(17)与具有压力的清洗气源(26)相通，最少有一个放气口(27)与上述环形清洗气体通路(14)相通；一个切断阀(5)具有与上述配气管(6)相接的接入口，当阀门开启时，形成一条直线瞄准线的瞄准通道，穿过该阀门和伸长的管件，而且有一个外部端头；一个第二环形配气管(4)接在上述阀门(5)的上述外部端头上，具有一个与有压力的清洗源相通的入口，和最少有一个放气口(31)与由第二环形配气管所围成的轴向空间(30)相通，上述空间(30)与切断阀(5)的内空间直接相接，切断阀本身又与被管件(7)所确定的圆筒形气体通道相联接；一个有边筒片(3)装着两片同轴安装的瞄准玻璃(21、22)、接在第二环形配气管(4)上，而且与第二环形配气管(4)、切断阀(5)、第一环形配气管(6)、管件(7)、各个气源(26、29)、供气管线以及反应器相配合形成一气密的封闭体；上述有边筒片(3)含有一个小的、密封的气密的封闭体(33)在上述的两个同轴排列的瞄准玻璃(21、22)之间，在此上述封闭体有一入口(23)可与压力气源(34)相通；并有一个光学定位元件(2)联接在上述有边筒片(3)的活动端，提供一个衔接高温计并为它或任何其它的此类接受辐射的设备做光学定位的装置，目的是测定由反应器中的气体和颗粒物质发射出的热辐射。
2.如权利要求1所定义的仪器，其中，上述的管件(7)、上述的内部圆筒状的清洗气体通路和上述的环形清洗气体通路(14)在一个垂直于上述管件的纵轴的平面上，实质上具有相同的断面面积。
3.权利要求1或权利要求2所定义的仪器，所述管件(7)是用以耐高温和高重晶温度为特征的材料制作;而且其中上述的管件(7)具有在高温强度下，能够不软化弯曲地抵抗剪应力，这种剪应力在容器内部耐火衬的层间发生错位的时候可能加在此管件上;这里，上述管件(7)是能抵抗能够使管子发生绽裂和毁坏后果的热应力的。
4.权利要求1至3中任一条所定义的仪器，其中配套元件是这样联接的，当上述切断阀(5)在其正常开启的位置时，能够提供可移动的、笔直而不被堵塞的、从上述反应室的内表面到接触辐射的接受设备(1)的光学瞄准路径。
5.如权利要求1至4中任一条所定义的仪器，其中第一环形配气管(6)、第二环形配气管(4)和双瞄准玻璃的有边圆筒片(3)全都在压力高于反应室中压力的气源(26、29、34)。
6.由权利要求5定义的仪器，其中提供可以独立控制相应的清洗气流进入第一和第二环形配气管(4、6)的压力和流率。
7.权利要求6所定义的仪器、其中清洗气体是一种惰性气体。
8.权利要求6所定义的仪器，其中清洗气体是过程气体，如从反应器中引出的再循环气。
9.由权利要求5-8中任一条所定义的仪器，其中敏感元件(F、P)是为了检测在小的、封闭的、气密的封闭体(33)中的压力升高和/或有气流，此小封闭体(33)是在有边圆筒片(13)中的两片瞄准玻璃(21，22)之间的，而且这两个敏感元件会使切断阀门自动关闭。
10.由权利要求1至9中任一条所定义的仪器，其中在上述管件(7)和管件外部的环形空间(14)之中的圆筒形瞄准通路可以同时地和连续地清洗，以防止颗粒进入管件而遮堵瞄准通道。
11.由权利要求3所定义的仪器，其中，上述管件(7)是用钼合金做的。
全文摘要
一个利用高温计测量装有夹杂固体的气体的封闭容器或管道内部温度的仪器，利用一个光学通路的引入口，其中包括一个高强度的瞄准管(7)、一个安全阀(5)、一双瞄准玻璃(21、22)、各种清洗设备联接和光学定位(距)装置。一个动态的清洗系统，在正常运行时可保持光学瞄准通道清洁，而在容器或管道内部运行失常时该通道被堵塞也能进行清洗。光学通道入口装在容器或管道(8)的外壁上。
文档编号G01J5/00GK1064546SQ9110128
公开日1992年9月16日 申请日期1991年3月2日 优先权日1991年3月2日
发明者汤姆斯·费雷德里克·莱因格, 里查德·丹尼斯·咔里, 格斯·扎咔里欧 申请人:德士古发展公司