一种正交性测试方法和装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体行业光刻技术领域，具体而言，涉及一种正交性测试方法和装置。
【背景技术】
[0002]光刻技术是指在基底表面上印刷具有特征的构图，这种基地可以包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(液晶显示器等)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。
[0003]在光刻技术中，极地纺织在精密移动平台的基地平台上，通过处于光刻设备内的曝光装置，在特征构图投射到基底表面的指定位置。为保证图形投射位置的精确定位，需要标定一些列参数，其中移动平台的正交性标定尤其重要。
[0004]对于直写式光刻机，为了确定由此而导致的实际曝光位置与正确曝光位置的偏差参数，需要精确标定作精密移动平台X轴和Y轴的正交性。现有技术中多是通过相机实时采集图片，配合人工智能识别技术来实现精密移动平台正交性的标定，此时平台所反馈的位置坐标读书即为定位标记的位置坐标。现有的测量方法计算较为繁琐，且不能同时测量出多组数据，增加了额外计算的步骤，因此计算时间较长。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供正交性测试方法和装置，以改善上述的问题。
[0006]第一方面，本发明实施例提供的一种正交性测试方法，应用于正交性测试装置，所述正交性测试装置包括标定单元、图像采集单元和处理单元，所述标定单元固定安装在所测量的二维可移动平台上，所述图像采集单元与所述处理单元电连接，所述标定单元包括均匀排列的标定图形，所述方法包括:
[0007]所述二维可移动平台分别移动所述标定单元的第一标定图形、第二标定图形和第三标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域中的预定位置，所述第一标定图形、所述第二标定图形和所述第三标定图形围成标定角；
[0008]所述处理单元分别获取所述第一标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第一测量位置坐标、所述第二标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第二测量位置坐标和所述第三标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第三测量位置坐标，所述第一测量位置坐标、所述第二测量位置坐标和所述第三测量位置坐标围成移动角；
[0009]所述处理单元根据所述标定角和所述移动角得出所述二维可移动平台的正交性角度。
[0010]结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第一种可能实施方式，其中，所述第一标定图形位于所述标定单元的第m行、第η列，所述第二标定单元位于所述标定单元的第m行，所述第三标定图形位于所述标定单元的第η列，所述第一标定图形、所述第二标定图形和所述第三标定单元围成的所述标定角为直角。
[0011]结合第一方面的第一种可能实施方式，本发明实施例还提供了第一方面的第二种可能实施方式，其中，所述第一标定图形位于所述标定单元的第I行、第I列，所述第二标定图形位于所述标定单元的第m行、第I列的，所述第三标定图形位于所述标定单元的第m行、第η列，所述方法具体包括:
[0012]所述二维可移动平台移动所述标定单元的所述第一标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域；
[0013]所述处理单元采集所述二维可移动平台的所述第一测量位置坐标Al I (XII，Yl I);
[0014]所述二维可移动平台移动所述标定单元的所述第二标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域；
[0015]所述处理单元采集所述述二维可移动平台的所述第二测量位置坐标Amn(Xmn，Ymn)；
[0016]所述二维可移动平台移动所述第三标定图形至图像采集单元的所述图像采集区域；
[0017]所述处理单元采集所述二维可移动平台的所述第三测量位置坐标Aml(Xml，Yml);
[0018]所述处理单元根据所述二维可移动平台的所述第一测量位置坐标Al I (XII，Yl I)、所述第二测量位置坐标Amn (Xmn，Ymn)和所述第三测量位置坐标Aml (Xml1Yml)和移动角的计算公式 cos Θ= {[ (Xll-Xml) '2+(Yl 1-Yml) '2] + [ (Xml-Xmn) '2+(Yml-Ymn) '2]-[ (XI 1-Xmn)~2+(Yll-Ymn)'2]}/{2*sqrt[(Xll-Xml)'2+(Yll-Yml)'2]*sqrt[(Xml-Xmn)'2+(Yml-Ymn)~2]}，根据所述移动角得出所述二维可移动平台的正交性角度。
[0019]结合第一方面的第二种可能实施方式，本发明实施例还提供了第一方面的第三种可能实施方式，其中，所述标定单元的所述标定图形按等间距d排列，所述方法还包括:
[0020]所述处理单元根据所述第一测量位置坐标AllUl，Y1)和所述第二测量位置坐标为Amn(Xm, Yn)计算出横轴涨缩值Sx = sqrt[ (Xll-Xml) ~2+(Yl1-Yml) ~2]/[ (n_l)*d]。
[0021]结合第一方面的第三种可能实施方式，本发明实施例还提供了第一方面的第四种可能实施方式，其中，所述标定单元的所述标定图形按等间距d排列，所述方法还包括:所述处理单元根据所述第一测量位置坐标Al I (XI，Yl)和所述第二测量位置坐标为Amn (Xm, Yn)计算出横轴涨缩值Sy = sqrt[(Xl1-Xml )~2+(Yl1-Yml )~2]/[(m-l)*d]。
[0022]第二方面，本发明实施例提供了一种正交性测试装置，其中，所述装置包括标定单元、图像采集单元和处理单元，所述标定单元固定安装在所测量的二维可移动平台上，所述图像采集单元与所述处理单元电连接，所述标定单元包括均勾排列的标定图形；
[0023]所述二维可移动平台用于分别移动所述标定单元的第一标定图形、第二标定图形和第三标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域中的预定位置，所述第一标定图形、所述第二标定图形和所述第三标定图形围成标定角；
[0024]所述处理单元用于分别获取所述第一标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第一测量位置坐标、所述第二标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第二测量位置坐标和所述第三标定图形在所述预定位置时所述二维可移动平台的第三测量位置坐标，所述第一测量位置坐标、所述第二测量位置坐标和所述第三测量位置坐标围成移动角；
[0025]所述处理单元还用于根据所述标定角和所述移动角得出所述二维可移动平台的正交性角度。
[0026]结合第二方面，本发明实施例还提供了第一方面的第一种可能实施方式，其中，所述二维可移动平台分别移动所述标定单元的所述第一标定图形、所述第二标定图形和所述第三标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域，所述第一标定图形位于所述标定单元的第m行、第η列，所述第二标定单元位于所述标定单元的第m行，所述第三标定图形位于所述标定单元的第η列，所述第一标定图形、所述第二标定图形和所述第三标定单元围成的所述标定角为直角。
[0027]结合第二方面的第一种可能实施方式，本发明实施例还提供了第二方面的第二种可能实施方式，其中，所述第一标定图形位于所述标定单元的第I行、第I列，所述第二标定图形位于所述标定单元的第m行、第I列的，所述第三标定图形位于所述标定单元的第m行、第η列；
[0028]所述二维可移动平台具体用于移动所述标定单元的所述第一标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域；
[0029]所述处理单元用于采集所述二维可移动平台的所述第一测量位置坐标Α11(Χ11，Yll);
[0030]所述二维可移动平台用于移动所述标定单元的所述第二标定图形至所述图像采集单元的图像采集区域；
[0031]所述处理单元采集用于所述述二维可移动平台的所述第二测量位置坐标Amn(Xmn1Ymn)；
[0032]所述二维可移动平台用于移动所述第三标定图形至图像采集单元的所述图像采集区域；
[0033]所述处理单元采集用于所述二维可移动平台的所述第三测量位置坐标AmlUml，Yml)；
[0034]所述处理单元用于根据所述二维可移动平台的所述第一测量位置坐标Α11(Χ11，Yl I)、所述第二测量位置坐标Amn(Xmn，Ymn)和所述第三测量位置坐标Aml (Xml, Yml)和移动角的计算公式cosΘ= {[ (Xll-Xm