专利名称：导电薄膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种导电薄膜。
背景技术：
电容触摸屏以其透明度高，多点触摸，寿命长等居多优点，近年来，越来越受到市场的青睐。目前，通常采用真空蒸镀或者磁控溅射方式将透明导电材料氧化铟锡(ITO)镀制在PET或者玻璃基板上形成导电薄膜以应用于电容触摸屏。然而，铟元素是一种稀土元素，在大自然中储量比较小，价格比较昂贵，从而使得导电薄膜的成本较高
实用新型内容
基于此，有必要提供一种成本较低的导电薄膜。一种导电薄膜，包括塑料薄膜基材及铺设于所述塑料薄膜基材上的金属网，所述金属网具有多个阵列排布的孔洞。在其中一个实施例中，所述孔洞为方形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线及多个相互平行的第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线垂直相交形成所述孔洞。在其中一个实施例中，所述孔洞为菱形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线及多个相互平行的第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线倾斜相交形成所述孔洞。在其中一个实施例中，所述金属网的孔洞为正六边形且呈蜂巢状。在其中一个实施例中，所述金属网的孔洞为三角形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线、多个相互平行的第二金属线及多个相互平行的第三金属线，第二金属线与第一金属线倾斜相交形成多个阵列排布的菱形孔，第三金属线与菱形孔的两个相对的端点相交从而将菱形孔分割形成所述三角形的孔洞。在其中一个实施例中，所述金属网的表面形成有抗氧化镀层。在其中一个实施例中，所述塑料薄膜基材的表面还形成具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层。在其中一个实施例中，所述金属网的网线宽度大于等于45nm且小于等于40000nmo在其中一个实施例中，所述金属网由铜线、银线、钥铝钥合金线或铜镍合金线形成。上述导电薄膜，通过在塑料薄膜基材表面铺设金属网，使用时可以根据需要将金属网再次曝光显影从而在塑料薄膜基材上形成图案感应层而应用于触控屏中，导电薄膜避免使用氧化铟锡，从而导电薄膜的成本较低。
图I为一实施方式的导电薄膜的结构示意图；图2为图I中导电薄膜的金属网的结构示意图；图3为另一实施方式中导电薄膜的金属网的结构示意图；图4为另一实施方式中导电薄膜的金属网的结构示意图；图5为另一实施方式中导电薄膜的金属网的结构示意图；图6为一实施方式的导电薄膜的制备方法的流程图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的首选实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1，一实施方式的导电薄膜10包括塑料薄膜基材110及铺设于塑料薄膜基材Iio上的金属网120。塑料薄膜基材110表面还形成有具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层(图未示)。其中，具有防眩或雾化功能的功能层，由具有防眩或雾化功能的涂料涂敷形成，涂料里面有金属氧化物颗粒；具有硬化功能的功能层由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成；具有增透功能的功能层为二氧化钛镀层、氟化镁镀层或氟化钙镀层。功能层可以选择性的设置于塑料薄膜基材110的一侧表面或两侧相对的表面。优选的，功能层形成于塑料薄膜基材110远离金属网110的一侧表面，即金属网110及功能层分别铺设于塑料薄膜基材110的两个相对的表面。需要说明的是，当塑料薄膜基材110的表面具有功能层时，金属网120形成于功能层的表面。请同时参阅图2，金属网120形成于塑料薄膜基材110的表面。金属网120具有多个阵列排布的孔洞121。本实施方式中，多个孔洞121的形状及大小均相同。本实施方式中，孔洞121为正方形。金属网120包括多个相互平行的第一金属线123及多个相互平行的第二金属线125，第一金属线123与第二金属线125垂直相交形成多个阵列排布的正方形的孔洞321。本实施方式中，金属网120的网线即第一金属线123及第二金属线125为铜线、银线、钥铝钥合金线或铜镍合金线。为了防止金属网120氧化，还可以在金属网120的表面形成抗氧化层。抗氧化层的材料为金、钼、镍或镍金合金等惰性金属。[0029]金属网120的厚度大于等于45nm且小于等于40000nm。金属网120的网线宽度D大于等于45nm且小于等于40000nm。需要说明的是，金属网120的网线的宽度D对触控屏10的分辨率会有影响，当金属网120的网线宽度D过大时，肉眼可以看到网线，从而会影响触控屏10的分辨率。优选的，金属网120的网线宽度大于等于45nm且小于等于5000nm。为了保证触控屏10对信号的敏感性，则金属网120的开口率K与导电薄膜10的透过率T1以及塑料薄膜基材的透过率T2之间存在如下关系=T1 = τ2*κ。由此可以根据导电薄膜10的设计光学透过率计算出满足条件的金属网120的开口率。以下以金属网120的孔洞121为正方形为例进行说明。金属网120的网线宽度为D，金属网120的孔洞121的开口宽度为L。金属网120可以看作由多个边长为D+L的晶胞组成，金属网120的开口率K =孔洞121的面积除以晶胞的面积。具体在本实施方式中，K=L2/(L+D)2。 上述导电薄膜10中，在塑料薄膜基材110表面铺设金属网120，使用时可以根据需要将金属网再次曝光显影从而在塑料薄膜基材110上形成图案感应层而应用于触控屏中，导电薄膜10避免使用氧化铟锡，从而导电薄膜10的成本较低；同时，金属网的透过率较高，且导电薄膜10的柔韧性较好；导电薄膜10的方块电阻较低，可以达到I欧姆/ 口 ；导电薄膜10的透过率可以通过控制金属网120的开口率及塑料薄膜基材110的透过率来控制，较为灵活。需要说明的是，金属网120的孔洞121不限于为图2所示的正方形，也可为多边形。请参阅图3，另一实施方式的导电薄膜的结构与导电薄膜10的结构大体相同，其不同在于金属网320的孔洞321为阵列排布的菱形。金属网320包括多个相互平行的第一金属线323及多个相互平行的第二金属线325,第一金属线323与第二金属线325相交且第一金属线323与第二金属线325相互倾斜形成多个阵列排布的菱形的孔洞321。请参阅图4，另一实施方式的导电薄膜的结构与导电薄膜10的结构大体相同，其不同在于金属网420的孔洞421为阵列排布的三角形。金属网420包括多个相互平行的第一金属线423、多个相互平行的第二金属线425及多个相互平行的第三金属线427，第二金属线425与第一金属线423倾斜相交形成多个阵列排布的菱形孔，第三金属线427与菱形孔的两个相对的端点相交从而将菱形孔分割成阵列分布的三角形的孔洞421。本实施方式中，孔洞421为正三角形，第二金属线423与第三金属线427与第一金属线421的夹角均为 60°。请参阅图5，另一实施方式的导电薄膜的结构与导电薄膜10的结构大体相同，其不同在于金属网520的孔洞521为呈蜂巢状排布的正六边形。请同时参阅图I、图2及图6，上述导电薄膜10的制备方法，包括以下步骤步骤S101、在塑料薄膜基材110表面形成金属层。金属层的厚度大于等于45nm且小于等于40000nm。塑料薄膜基材110的材料为聚对苯二甲酸类塑料(PET)或聚碳酸酯(PC)。塑料薄膜基材110的表面还可根据需要形成具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层(图未示)。功能层可以选择性的设置于塑料薄膜基材110的一侧表面或两侧相对的表面。其中，具有防眩或雾化功能的功能层，由具有防眩或雾化功能的涂料涂敷形成，涂料里面有金属氧化物颗粒；具有硬化功能的功能层由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成；具有增透功能的功能层为由蒸镀或磁控溅射形成的二氧化钛镀层、氟化镁镀层或氟化钙镀层。本实施方式中，金属层由真空蒸镀、化学气相沉积或溶胶凝胶形成。金属层的材料为铜、银、钥铝钥合金或铜镍合金。需要说明的是，当塑料薄膜基材110的表面具有功能层时，金属层形成于功能层的表面。为了防止金属层氧化，还可以在金属层的表面真空蒸镀或磁控溅射形成抗氧化层，抗氧化层的材料为金、钼、镍或镍金合金等惰性金属。
步骤S102、利用曝光显影方法将金属层加工出网格以形成金属网120以形成铺设于塑料薄膜基材110上的金属网120，金属网120具有多个阵列排布的孔洞121。本实施方式中，多个孔洞121的形状及大小均相同。金属网120的孔洞可以为阵列排布的正方形、菱形、三角形或正六边形。金属网120的网线宽度D大于等于45nm且小于等于40000nm。需要说明的是，金属网120的网线的宽度D对触控屏10的分辨率会有影响，当金属网120的网线宽度D过大时，肉眼可以看到网线，从而会影响触控屏10的分辨率。优选的，金属网120的网线宽度大于等于45nm且小于等于5000nm。金属网120的开口率K与导电薄膜110的透过率T1以及塑料薄膜基材的透过率T2之间存在如下关系k = T1A20上述导电薄膜10在塑料薄膜基材110表面铺设金属网120，使用时可以根据需要将金属网120再次曝光显影从而在塑料薄膜基材110上形成图案感应层而应用于触控屏中，导电薄膜10避免使用氧化铟锡，从而导电薄膜10的成本较低，且可以通过曝光显影的方法制备金属网120，工艺简单，效率较高。以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求1.一种导电薄膜，包括塑料薄膜基材，其特征在于，所述导电薄膜还包括铺设于所述塑料薄膜基材上的金属网，所述金属网具有多个阵列排布的孔洞。
2.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述孔洞为方形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线及多个相互平行的第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线垂直相交形成所述孔洞。
3.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述孔洞为菱形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线及多个相互平行的第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线倾斜相交形成所述孔洞。
4.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属网的孔洞为正六边形且呈蜂巢状。
5.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属网的孔洞为三角形，所述金属网包括多个相互平行的第一金属线、多个相互平行的第二金属线及多个相互平行的第三 金属线，第二金属线与第一金属线倾斜相交形成多个阵列排布的菱形孔，第三金属线与菱形孔的两个相对的端点相交从而将菱形孔分割形成所述三角形的孔洞。
6.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属网的表面形成有抗氧化镀层。
7.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述塑料薄膜基材的表面还形成具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层。
8.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属网的网线宽度大于等于45nm且小于等于40000nm。
9.根据权利要求I所述的导电薄膜，其特征在于，所述金属网由铜线、银线、钥铝钥合金线或铜镍合金线形成。
专利摘要一种导电薄膜，包括塑料薄膜基材及铺设于所述塑料薄膜基材上的金属网，所述金属网具有多个阵列排布的孔洞。上述导电薄膜通过在塑料薄膜基材表面铺设金属网，使用时可以根据需要将金属网再次曝光显影从而在塑料薄膜基材上形成图案感应层而应用于触控屏中，导电薄膜避免使用氧化铟锡，从而导电薄膜的成本较低。
文档编号G06F3/044GK202632794SQ20122016813
公开日2012年12月26日 申请日期2012年4月19日 优先权日2012年4月19日
发明者程志政, 蔡荣军 申请人:深圳欧菲光科技股份有限公司