触控显示面板及显示装置的制作方法

1.本发明涉及显示技术领域，特别是涉及触控显示面板及显示装置。


背景技术：

2.目前，从市场趋势来看，具有触控功能的显示面板已是显示面板的主流需求。oled触控显示面板成为了手机、平板电脑等电子设备青睐的对象。
3.其中，在oled触控显示面板中，由于其oled器件的结构特点，对外界环境光的反射率较高，为降低整体反射率，通常在盖板与oled触控显示面板之间使用偏光层。但在，偏光层的使用会对oled触控显示面板中触控功能层造成腐蚀，腐蚀达到一定程度时还会造成触控功能失效。


技术实现要素：

4.基于此，有必要针对触控层容易被腐蚀失效的问题，提供一种触控显示面板及显示装置。
5.一种触控模组，所述触控模组包括：
6.金属触控层；
7.金属牺牲层，设于所述金属触控层的一侧；
8.偏光层，设于所述金属牺牲层背向所述金属触控层的一侧，并且所述金属牺牲层在所述金属触控层上的正投影与所述偏光层在所述金属触控层上的正投影不交叠；或者，所述金属牺牲层的至少部分设于所述金属触控层与所述偏光层之间，所述金属牺牲层在所述金属触控层上的正投影与所述偏光层在所述金属触控层上的正投影至少部分交叠；
9.其中，所述金属牺牲层中金属的活动性大于所述金属触控层中至少一种金属的活动性。
10.上述触控模组中，将金属牺牲层阻挡于偏光层与金属触控层之间腐蚀性物质的扩散路径上，相较于金属触控层，金属牺牲层可先接触到偏光层散发出的腐蚀性物质。同时，金属牺牲层中金属的活动性大于金属触控层中至少一种金属的活动性，也就是说金属牺牲层中的金属更加活跃，可与偏光层散发出的腐蚀性物质(例如碘离子或者钾离子)先发生化学反应，消耗掉偏光层散发的腐蚀性物质，防止腐蚀性物质腐蚀金属触控层，提高金属触控层的可靠性。
11.在其中一个实施例中，所述金属触控层包括铝层及两层钛层，所述铝层设于所述两层钛层之间，朝向所述偏光层所在一侧的所述钛层上覆盖有所述金属牺牲层；
12.其中，所述金属牺牲层中金属的活动性大于钛的金属活动性，或者所述金属牺牲层中金属的活动性大于铝的金属活动性。
13.在其中一个实施例中，所述金属牺牲层包括铝、钠和镁中的至少一项。
14.在其中一个实施例中，所述金属牺牲层包括钠和镁中的至少一项的情况下，所述金属牺牲层还包括掺杂物，以使所述金属牺牲层中钠或者镁的浓度低于预设浓度。
15.在其中一个实施例中，所述触控模组具有显示区域及围绕所述显示区域的非显示区域；所述金属触控层包括位于所述显示显示区域的触控电极、及位于所述非显示区域且与所述触控电极连接的触控走线；
16.所述金属牺牲层覆盖所述触控电极和所述触控走线中至少一者。
17.在其中一个实施例中，所述金属牺牲层还包括阻挡部，所述阻挡部在所述金属触控层上的正投影与所述偏光层在所述金属触控层上的正投影不交叠，并且所述阻挡部向所述金属牺牲层背离所述金属触控层的一侧凸出设置；
18.显示区域可选地，所述阻挡部的凸出高度为10um-100um；
19.可选地，所述阻挡部在所述触控模组的厚度方向上的截面的形状为梯形、三角形、t形或者半圆形；
20.可选地，所述阻挡部在所述金属触控层上的正投影与所述偏光层的边缘在所述金属触控层上的正投影存在间隙。
21.在其中一个实施例中，所述阻挡部在所述金属触控层上的正投影为环形结构，所述偏光层在所述金属触控层上的正投影位于所述环形结构的内侧壁围合成的区域内。
22.在其中一个实施例中，所述阻挡部设置有多个，多个所述阻挡部沿所述显示区域至所述非显示区域的方向间隔排布。
23.一种触控显示面板，包括显示基板及上述触控模组，所述触控模组设于所述显示基板的出光侧。
24.一种显示装置，包括上述触控显示面板。
附图说明
25.图1为现有技术中触控显示面板的截面示意图；
26.图2为本发明一实施例中触控显示面板的局部结构示意图；
27.图3为图2所示触控显示面板经过纵向触控走线的截面示意图；
28.图4为图2所示触控显示面板经过横向触控走线的截面示意图；
29.图5为图4所示触控显示面板中的俯视图；
30.图6为本发明另一实施例中触控显示面板具有多个阻挡部的截面示意图；
31.图7为图6所示触控显示面板的俯视图。
32.附图标记说明：100、触控显示面板；10、显示基板；30、触控模组；32、显示区域；34、非显示区域；50、金属触控层；52、铝层；54、钛层；55、触控电极；56、触控走线；60、偏光层；70、金属牺牲层；72、第一金属牺牲层；74、阻挡部；80、盖板。
具体实施方式
33.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
34.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时
针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
35.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
36.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
37.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
38.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
39.正如背景技术所述，偏光层的使用会对触控层造成腐蚀，发明人经过研究发现，出现这种问题的根本原因在于，偏光层包括腐蚀性物质，此腐蚀性物质指的是遇水呈酸性的物质。在高温高湿环境下偏光层中的腐蚀性物质溢出散发，在水的催化作用下会与金属触控层中的金属发生化学反应，腐蚀金属触控层，造成金属触控层失效。
40.本公开实施例的偏光层可为碘系偏光层，对于碘系偏光层的制作方法包括：将pva(聚乙烯醇)膜浸入在碘离子溶液中，以使得碘离子扩散至pva膜中，微热后拉伸，pva膜变长的同时，也变得又窄又薄。pva分子本来是任意角度无规则性分布的，受力拉伸后就逐渐一致地偏转于作用力的方向，附着在pva上具有二色性的碘分子也跟随者有方向性，从而制成具有偏光作用的偏光层。
41.换句话说，碘系偏光层是经过碘染料染色得到的，并基于含晶体的光学二向色性具备偏光性能。经过染色后，碘元素以碘离子的形态存在于偏光层中，碘离子具有腐蚀性，前述提到的腐蚀性物质可包括碘元素。当然，前述提到的腐蚀性物质也可包括钾元素，对于腐蚀性物质的具体类型在此不做限定。
42.进一步地，如图1所示，在高温高湿环境下偏光层中的腐蚀性物质溢出散发，大部分腐蚀性物质从偏光层的侧面向非显示区的触控走线散发，另外当偏光层内部出现裂纹时，偏光层中的腐蚀性物质也会穿过偏光层向显示区域的触控电极散发，因此腐蚀性物质与金属触控层接触后，在水的催化作用下会与金属触控层中的金属发生化学反应，腐蚀金
属触控层，造成金属触控层失效。
43.本发明一实施例中，为了防止偏光层中的物质对金属触控层造成腐蚀，提供了一种触控显示面板100。
44.参阅图2-图3，本发明一实施例提供了的触控显示面板100，包括显示基板10和触控模组30，显示基板10用于显示图像，触控模组30设于显示基板10的出光侧，用于感应触控动作，如此使触控显示面板100兼具显示和触控功能。
45.显示基板10包括驱动基板、显示器件及封装层，显示器件设于驱动基板上，驱动基板用于向显示器件输入驱动电流，以控制显示器件发光；封装层封装显示器件，以保护显示器件中的发光材料。具体地，显示器件可以包括第一电极、第二电极及有机发光层，有机发光层位于第一电极和第二电极之间。其中，第一电极和第二电极中的一者为可以为阴极，第一电极和第二电极中的另一者可以为阳极，具体根据需求对应设置第一电极和第二电极的极性，在此不做限定。有机发光层位于阴极和阳极之间，从阴极注入的电子与从阳极注入的空穴在有机发光层中彼此结合以形成激子，当激子释放能量时便会发射光线，实现显示面板的显示功能。
46.触控模组30包括金属触控层50、偏光层60及金属牺牲层70，金属触控层50设置于显示基板10上作为触控传感器，用于感应触控动作。金属牺牲层70设于金属触控层50的一侧，偏光层60设于金属牺牲层70背向金属触控层50的一侧，用于调整出射光线，提高出光性能。
47.其中，如图4所示，金属牺牲层70在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影不交叠。如此，金属牺牲层70可以阻挡腐蚀性物质从偏光层的侧面向非显示区的触控走线扩散。
48.或者，如图3所示，金属牺牲层70的至少部分设于金属触控层50与偏光层60之间，金属牺牲层70在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影至少部分交叠。比如，金属牺牲层70的一部分在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影交叠，金属牺牲层70的另一部分在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影不交叠。再比如，金属牺牲层70在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影交叠。如此，金属牺牲层70可以阻挡腐蚀性物质穿过偏光层60向显示区域的触控电极扩散。
49.相较于金属触控层50，金属牺牲层70可先接触到偏光层60扩散出的腐蚀性物质，并且由于金属牺牲层70中金属的活动性大于金属触控层50中至少一种金属的活动性，也就是说金属牺牲层70中的金属更加活跃，可与偏光层60扩散出的腐蚀性物质(例如碘离子或者钾离子)先发生化学反应，消耗掉偏光层60散发的腐蚀性物质，防止腐蚀性物质腐蚀金属触控层50。因此，可以通过金属牺牲层70将偏光层60中腐蚀性性物质阻挡于扩散路径上，提高金属触控层50的可靠性。
50.进一步地，金属触控层50具有铝层52及两层钛层54，铝层52设于两层钛层54之间，朝向偏光层60所在一侧的钛层54上覆盖金属牺牲层70，且金属牺牲层70中金属的活动性大于钛的金属活动性，或者金属牺牲层70中金属的活动性大于铝的金属活动性。
51.这样，通过在铝层52的正反面均覆盖钛层54的方式保护铝层52，以防止铝层52被破坏。但是，钛层54仅覆盖铝层52的正反面，铝层52的侧面还是处于暴露的状态，为了防止
呈气态的水汽及偏光层60散发的腐蚀性物质扩散到铝层52侧面与铝层52发生反应，在靠近偏光层60的钛层54上设置一层金属牺牲层70，通过金属牺牲层70反应消耗偏光层60扩散出的腐蚀性物质，这样便可减小扩散到铝层52侧面的腐蚀性物质，进而防止金属触控层50被腐蚀。
52.可选地，金属牺牲层70包括铝、钠和镁中的至少一项，铝、钠、镁的金属活动性相比钛较强，且相比金属触控层50，金属牺牲层70更靠近偏光层60，可优先与偏光层60散发出的腐蚀性物质反应。防止金属触控层50被腐蚀性物质腐蚀。
53.具体地，金属牺牲层70包括钠和镁中的至少一项的情况下，金属牺牲层70还包括掺杂物，以使金属牺牲层70中钠或者镁的浓度低于预设浓度。对于钠和镁而言，自身的活动性很高，容易发生自燃等情况，为了避免出现这种情况，在金属牺牲层70中掺杂一些其他材料，使钠或者镁的浓度降低，满足防自燃的需求。例如，掺杂物为有机物。
54.一些实施例中，触控模组30具有显示区域32及围绕显示区域32的非显示区域34，金属触控层50包括位于显示区域32的触控电极55、及位于非显示区域34且与触控电极55连接的触控走线56，触控走线56用于将触控电极55与控制电路连通，实现触控电极与控制电路的信号传输。并且，金属牺牲层70覆盖触控电极55和触控走线56中的至少一者。比如，可以在触控电极55朝向偏光层60所在一侧的表面设置金属牺牲层70，消耗偏光层60朝向触控电极55扩散的腐蚀性物质，以防止触控电极55被腐蚀；也可以在触控走线56朝向偏光层60所在一侧的表面设置金属牺牲层70，消耗偏光层60朝向触控走线56扩散的腐蚀性物质，可有效防止触控走线56被腐蚀；还可以在触控电极55及触控走线56两者朝向偏光层60所在一侧的表面均设置金属牺牲层70，消耗偏光层60朝向触控走线56及触控电极55扩散的腐蚀性物质，防止触控电极55及触控走线56被腐蚀失效。
55.参阅图4，进一步地，金属牺牲层70还包括阻挡部74，阻挡部74在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影不交叠，并且阻挡部74向金属牺牲层70背离金属触控层50的一侧凸出设置。也就是说，阻挡部74向偏光层60所在一侧凸出设置，以更加接近偏光层60，且位于偏光层60的外周侧，可使偏光层60中散发出的腐蚀性物质被阻挡部74阻挡后，与阻挡部74充分接触并发生化学反应。如此，优先通过凸出的阻挡部74消耗腐蚀性物质，防止腐蚀性物质扩散到底部的金属触控层50中，避免金属触控层50被腐蚀性物质腐蚀。
56.可选地，阻挡部74的凸出高度为10um-100um，以有效阻挡并消耗偏光层60散发的腐蚀性物质。还可选地，阻挡部74在金属触控层50上的正投影与偏光层60的边缘在金属触控层50上的正投影存在间隙，为阻挡部74与偏光层60的边缘之间预留一定的间隙，通过预留的间隙暂存从偏光层60散发出的腐蚀性物质，使腐蚀性物质可以与阻挡部74更加充分地接触反应，进而提高金属触控层50的抗腐蚀性能。还可选地，阻挡部74在触控模组30的厚度方向上的截面的形状为梯形、三角形、t形或者半圆形。
57.参阅图5，具体到一实施例中，阻挡部74在金属触控层50上的正投影为环形结构，偏光层60在金属触控层50上的正投影位于环形结构的内侧壁围合成的区域内，如此通过阻挡部74有效阻挡从偏光层60外周侧散发出的腐蚀性物质，将腐蚀性物质通过阻挡部74集中在环形结构的范围内集中消耗，并且通过阻挡部74阻挡腐蚀性物质向金属触控层50的外侧边缘扩散，使阻挡部74可优先接触消耗腐蚀性物质，避免腐蚀性物质腐蚀金属触控层50。可
以理解地，其他一些实施例中，阻挡部74也可为断续状的多个凸起，设置在各个触控走线56的顶面上方，对于阻挡部74设置的方式在此不做限定。
58.参阅图6-图7，进一步地，阻挡部74设置有多个，多个阻挡部74沿触控模组30的显示区域32至非显示区域34的方向间隔排布，如此设置多个阻挡部74，多个阻挡部74可依次阻挡消耗偏光层60向自身外周侧散发的腐蚀性物质，对腐蚀性物质的消耗量更大，能够扩散到达金属触控层50的腐蚀性物质更少，抗腐蚀效果更佳。
59.一些实施例中，触控显示面板100还包括盖板80，盖板80盖设与偏光层60背向显示基板10的一侧，以通过盖板80保护触控显示面板100。
60.上述触控模组30中，在金属触控层50朝向偏光层60所在的一侧表面上设置金属牺牲层70，使金属牺牲层70覆盖金属触控层50且与偏光层60相邻，金属牺牲层70中金属的活动性相比金属触控层50中的至少一种金属的活动性较高，金属牺牲层70更加活泼可优先与偏光层60散发的腐蚀性物质发生反应，消耗腐蚀性物质，防止金属触控层50被腐蚀。并且，金属牺牲层70包括阻挡部74，阻挡部74向偏光层60所在的一侧凸起，使阻挡部74更靠近偏光层60，可以将偏光层60外周侧散发的腐蚀性物质阻挡在偏光层60周围，然后通过阻挡部74反应消耗腐蚀性物质，减小流动至金属触控层50处的腐蚀性物质的含量，有效避免金属触控层50被腐蚀。
61.本发明一实施例中，还提供一种上述触控模组30，触控模组30包括金属触控层50、偏光层60及金属牺牲层70，金属触控层50设置于显示基板10上作为触控传感器，用于感应触控动作。金属牺牲层70设于金属触控层50的一侧，偏光层60设于金属牺牲层70背向金属触控层50的一侧，用于调整出射光线，提高出光性能。并且，金属牺牲层70在金属触控层50上的正投影与偏光在金属触控层50上的正投影不交叠，或者金属牺牲层70的至少部分设于金属触控层50与偏光层60之间，金属牺牲层70在金属触控层50上的正投影与偏光层60在金属触控层50上的正投影至少部分交叠。
62.如此，将金属牺牲层70阻挡于偏光层60与金属触控层50之间腐蚀性物质的扩散路径上，相较于金属触控层50，金属牺牲层70可先接触到偏光层60散发出的腐蚀性物质。同时，金属牺牲层70中金属的活动性大于金属触控层50中至少一种金属的活动性，也就是说金属牺牲层70中的金属更加活跃，可与偏光层60散发出的腐蚀性物质(例如碘离子或者钾离子)先发生化学反应，消耗掉偏光层60散发的腐蚀性物质，防止腐蚀性物质腐蚀金属触控层50，金属触控层50提高金属触控层50的可靠性。
63.本发明一实施例中，还提供一种显示装置，包括上述触控显示面板100。该显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、车载设备、可穿戴设备或物联网设备等任何具有显示功能的产品或部件。
64.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
65.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。