一种设计版图修改方法及系统与流程

【】本发明涉及光刻，特别涉及一种设计版图修改方法及系统。

背景技术

0、
背景技术：

1、光刻工艺进程质量直接影响着芯片器件的实际成品率、可靠性、器件性能、以及使用寿命等参数指标。通常芯片制造厂商会提供一系列设计规则给芯片设计过程，要求芯片设计结果不违背这些设计规则。设计规则是简单的规则集合，芯片设计版图中会存在一些图形，对其进行掩模优化时，其显影获得的轮廓容易出现断开或连接的现象，无法获得理想的轮廓。因此将这种设计图形又称为存在违例图形。

2、在芯片设计中存在违例图形时，需对这部分图形进行修改，使得修改后的设计图形能通过掩模优化获取符合制造要求的结果。通常做法是工程师依赖经验对存在违例图形进行手动调整，再对其进行掩模优化并验证，该过程通常会反复好几轮迭代直至最后修改结果符合要求，繁复且非常依赖于人的经验。此外芯片设计具有多层连接关系，在对某层版图进行修改的同时，不应破坏其与其他版图层之间的连接关系，这无疑又增加了该工作的难度。另外当芯片设计中存在大量光刻违例图形时，对其分别进行手动修改是项非常耗时的工作。

技术实现思路

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技术实现要素：

1、为了解决现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题，本发明提供一种设计版图修改方法及系统。

2、本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种设计版图修改方法，包括以下步骤：

3、获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；

4、若是，则获取违例的类型以及违例的位置；

5、基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；

6、基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；

7、将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。

8、优选地，违例的类型包括断开违例和连接违例，判断显影轮廓是否存在违例具体包括：

9、获取所有显影轮廓的轮廓信息

10、若同一显影轮廓的轮廓上两点的距离小于预设断开距离则判定两点之间存在断开违例；

11、若其中一显影轮廓的轮廓上其中一点与其相邻显影轮廓的轮廓上其中一点的距离小于预设连接距离则判定两点之间存在连接违例。

12、优选地，获取显影轮廓上存在断开违例的两个点的坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；

13、或，获取存在连接违例的显影轮廓上一点的坐标与其相邻显影轮廓上一点坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；

14、获取两个点对应的初始设计图形的两条边的位置，以将两条边作为违例所对应的初始设计图形的边。

15、优选地，所述预设算法为代价函数公式：

16、公式一：

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18、公式二：

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20、公式三：

21、

22、其中，公式一中，costcv为代价函数，cv为移动量，pinch_correction(p)为第p个断开违例对应的代价项，bridge_correction(b)为第b个连接违例对应的代价项；

23、公式二中，pinch_violation(p)为断开违例的长度与预设断开距离的偏差，p1和p2为断开违例的违例位置所对应的初始设计图形的边；

24、公式三中，bridge_violation(p)为连接违例的长度与预设连接距离的偏差，b1和b2为连接违例的违例位置所对应的初始设计图形的边。

25、优选地，基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：

26、所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设限制距离；

27、获取设计版图上辅助图形的轮廓信息；

28、获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；

29、基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后的预测位置信息；

30、基于预测位置信息判断移动后的边和邻近辅助图形之间的距离是否不小于预设限制距离；

31、若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。

32、优选地，所述移动方向包括违例所对应的初始设计图形的边朝靠近辅助图形一侧的方向进行移动，或朝远离辅助图形一侧的方向进行移动。

33、优选地，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：

34、所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设宽度距离；

35、获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；

36、基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；

37、判断预测设计图形内相距最近的两条边之间的距离是否不小于预设宽度距离；

38、若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。

39、优选地，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：

40、所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设空间距离；

41、获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；

42、基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；

43、判断相邻预测设计图形之间的距离是否不小于预设空间距离；

44、若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。

45、优选地，将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理具体包括：

46、将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行预设次数的迭代处理；

47、若迭代过程中的设计图形所对应的显影轮廓不存在违例，则直接输出最终设计图形；

48、若于预设次数的迭代过程中的初始迭代设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则迭代预设次数后输出最终设计图形，并将仍存在违例的设计图形进行删除或重新设计。

49、本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种设计版图修改系统，应用于上述的设计版图修改方法，所述系统包括：

50、识别模块：用于识别设计版图中的初始设计图形；

51、分析模块：用于判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；

52、处理模块：用于判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；

53、循环模块：用于将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形。

54、与现有技术相比，本发明所提供的一种设计版图修改方法及系统，具有如下的有益效果：

55、本发明实施例提供的一种设计版图修改方法，包括以下步骤：获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；若是，则获取违例的类型以及违例的位置；基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。本实施例中的无需依靠人工经验进行反复手动修改，通过全自动即可完成对设计版图的修改。解决了现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。