触摸板以及用于制造该触摸板的方法
【技术领域】
[0001]本公开涉及触摸板及用于制造该触摸板的方法。
【背景技术】
[0002]近来，触摸板已应用于不同的电子设备，所述触摸板通过用诸如手写笔或者手之类的输入装置对显示在显示装置上的图像进行触摸来执行输入功能。
[0003]触摸板可以代表性地分类为电阻式触摸板和电容式触摸板。在电阻式触摸板中，当向输入装置施加压力时，通过根据电极之间的连接而检测电阻的变化来检测触摸点的位置。在电容式触摸板中，当用户的手指触摸在电极之间的电容式触摸板上时，通过检测电容的变化来检测触摸点的位置。近来，当考虑到感测功率和制造方案的便利性时，在较小的模型中已注重电容式触摸板。
[0004]触摸板具有的问题在于，通过外部入射光或者入射至设在触摸板上的LCD中的光，可以看到连接电极的图案。
【发明内容】
[0005]技术问题
[0006]实施例提供了具有改进可见度的触摸板。
[0007]针对问题的解决方案
[0008]根据实施例，提供了一种触摸板，该触摸板包括:基板；传感器部，其在基板上并且连接电极连接该传感器部；以及基板上的光吸收层。该光吸收层更加靠近基板而不是连接电极。
[0009]根据实施例，提供了一种用于制造触摸板的方法。该方法包括:制备基板；在基板上形成传感器部和连接电极；以及在基板上形成光吸收层。该光吸收层更加靠近基板而不是连接电极。
[0010]本发明的有益效果
[0011]如上描述，根据实施例，光吸收层设于触摸板的连接电极下方。因此，可以防止通过入射穿过基板的光而看到连接电极。换言之，光吸收层可以使入射光的反射最小化。因此，可以改进连接电极的总体可见性。
【附图说明】
[0012]图1为示意性示出根据一个实施例的触摸板的平面图。
[0013]图2为示出根据一个实施例的触摸板的平面图。
[0014]图3为示出图2的部分A的放大图。
[0015]图4为沿着图3的B-B ’线截取的剖视图。
[0016]图5为不出根据一个实施例的触摸板的剖视图。
[0017]图6为示出根据另一个实施例的触摸板的平面图。
[0018]图7为沿着图6的C-C’线截取的剖视图。
[0019]图8为示出根据另一个实施例的触摸板的剖视图。
[0020]图9为示出根据比较例、第一实施例和第二实施例的作为波长的函数的反射率的曲线图。
[0021]图10为示出根据第一实施例的作为厚度的函数的原子含量的曲线图。
[0022]图11为示出根据第二实施例的作为厚度的函数的原子含量的曲线图。
【具体实施方式】
[0023]在下文对实施例的描述中，可以理解的是，当层(膜)、区域、图案或者结构被称为处在其它层(膜)、区域、图案或者结构“之上”或“之下”时，它可以“直接地”或者“间接地”处在其它层(膜)、区域、图案或者结构上，或者也可以存在一个或多个中间层。参考附图来描述这样的每层的位置。
[0024]为了方便或者清楚的目的，附图中示出的每个层(膜)、区域、图案或者结构的厚度和尺寸可以被扩大、省略或者示意性地绘制。另外，每个层(膜)、区域、图案或者结构的尺寸不完全地反映实际的尺寸。
[0025]下文中，参考附图来详细地描述实施例。
[0026]下文中，参考图1至5来详细地描述根据一个实施例的触摸板。图1为示意性示出根据一个实施例的触摸板的平面图。图2为示出根据一个实施例的触摸板的平面图。图3为示出图2的部分A的放大图。图4为沿着图3的B-B’线截取的剖视图。图5为示出根据一个实施例的触摸板的剖视图。
[0027]参考图1和图2，根据本实施例的触摸板包括基板100，在基板100中限定了检测输入装置(如手指)的位置的活动区域AA和提供于活动区域AA外围部分的非活动区域UA0
[0028]在这种情况下，活动区域AA可以在其中设置有可以感测输入装置的透明电极210。此外，非活动区域UA可以在其中设置有将透明电极210相互电连接的电线300。进一步，非活动区域UA可以在其中设置有连接到电线300的外部电路。非活动区域UA可以在其中设置有外虚拟层101，并且外虚拟层101可以具有标识102。
[0029]如果输入装置如手指触摸在触摸板上，则通过输入装置在触摸的部分中产生电容的变化，并且发生电容变化的触摸部分可以被检测为触摸点。
[0030]下文中，将更为详细地描述触摸板。
[0031]基板100可以包括各种材料以支持基板100上形成的光吸收层271、透明电极210、电线300以及电路板。例如，基板100可以包括玻璃基板或者塑料基板。
[0032]外虚拟层101形成在基板100的非活动区域UA中。外虚拟层101可以用具有预定颜色的材料所覆盖，以便不能从外部看到电线300和将电线300连接至外部电路的印刷电路板。外虚拟层101可以具有适合于其期望外观的颜色。例如，外虚拟层101可以包括黑色颜料以表现出黑色。此外，期望的标识102可以通过各种方法形成在外虚拟层101中。外虚拟层101可以通过沉积、打印或者湿法涂敷的方案来形成。
[0033]透明电极210可以形成在基板100上。透明电极210可以检测是否有诸如手指之类的输入装置触摸。
[0034]参考图2和图3，透明电极210可以包括第一电极212和第二电极214。
[0035]第一电极212包括:多个第一传感器部212a，用于检测是否有诸如手指之类的输入装置触摸；以及第一连接电极部212b，用于将第一传感器部212a相互连接。第一连接电极部212b在第一方向上(附图中X轴方向)将第一传感器部212a相互连接，以便第一电极212可以在第一方向上延伸。
[0036]类似地，第二电极214包括:多个第二传感器部214a，用于检测是否有诸如手指之类的输入装置触摸；以及第二连接电极部214b，用于将第二传感器部214a相互连接。第二连接电极部214b在第二方向上(附图中Y轴方向)将第二传感器部214a相互连接，以便第二电极214可以在第二方向上延伸。
[0037]绝缘层250可以位于第一和第二连接电极部212b和214b之间，以便防止它们之间的短路。绝缘层250可以包括透明的绝缘材料，以使第一连接电极212与第二连接电极214绝缘。
[0038]参考图3，基板100在其上形成有第一传感器部212a、第二传感器部214a和第二连接电极部214b，并且第二连接电极部214b在其上形成有绝缘层250。绝缘层250在其上形成有将第一传感器部212a相互连接的第一连接电极部212b。
[0039]同时参考图4，第一连接电极部212b可以包括至少两层。
[0040]详细地，第一连接电极部212b可以包括缓冲层212bl和212b3以及导电层212b2。缓冲层212bl和212b3可以包括第一缓冲层212bl和第二缓冲层212b3。第一缓冲层212bl和第二缓冲层212b3可以将导电层212b2夹在它们之间。当导电层212b2插入它们之间时，第一和第二缓冲层212bl和212b3得以定位。然而，实施例不限于此，而是缓冲层可以在一层结构中形成，以便缓冲层可以仅位于导电层212b2的上部或下部。
[0041]缓冲层212bl和212b3可以提高第一连接电极部212b和基板100之间的粘合强度，或者第一连接电极部212b和第一传感器部212a之间的粘合强度。缓冲层212bl和212b3可以包括导电金属。详细地，缓冲层212bl和212b3可以通过沉积诸如镍(Ni)、铬(Cr)、镍-铬(N1-Cr)、钛(Ti)、锡(Sn)或者钼(Mo)之类的材料来形成。
[0042]导电层212b2可以包括导电金属，该导电金属的电阻低于第一传感器部212a或者第二传感器部213a的电阻。导电层212b2可以包括诸如银、铜、金、钼和铝之类的表现出优良导电性的金属。由于导电层212b2对触摸屏的灵敏性直接产生影响，所以导电层212b2的沉积厚度和沉积金属可以调节，以便电阻可以被调节为0.1 Ω / □(平方)或者更小。
[0043]光吸收层271另外设置在基板100上。与第一连接电极部212b相比，光吸收层271布置得更靠近于基板100。换言之，光吸收层271比第一连接电极部212b更靠近基板100因此，光吸收层271被插在第一连接电极部212b与基板100之间。
[0044]因此，由于光吸收层271，可以防止由光反射造成的看到第一连接电极部212b。换言之，光吸收层271将入射到基板100中的入射光I反射，因而防止看到第一连接电极部
212bo
[0045]具体地，当用户使用根据本实施例的触摸板时，上面设置有传感器部212a、第一连接电极部212b和光吸收层271的基板100的表面的相对表面102可以被识别出。因此，通过入射进入相对表面102的入射光I，第一连接电极部212b受到很大的影响。根据本实施例，光吸收层271被插在基板100与第一连接电极部212b之间，以便减少第一连接电极部212b的可见性。
[0046]光吸收层271可以包括导电金属的氧化物、氮化物或者碳化物，或其混合物。在这种情况下，导电金属可以对应于构成缓冲层212bl和212b3的导电金属。因此，导电金属可以包括诸如镍、铬、镍-铬