一种foup清洗系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种FOUP清洗系统，包括FOUP清洗机、清洗架和固定装置，其中，所述FOUP清洗机通过所述固定装置固定设于所述清洗架内，所述固定装置位于所述FOUP清洗机的底部，所述FOUP（硅片存储盒）开口向上，所述FOUP顶部设有若干氮气填充口；通过本实用新型的使用，通过更改FOUP清洗架固定装置的位置，以及清洗架的尺寸的调整，满足了FOUP可以倒立设置的目的，这样的结构既可以清洗FOUP又不会有水残留在氮气填充口的部位，达到了最佳清洗效果，降低硅片被颗粒污染甚至报废的问题，提高了FOUP的使用寿命，提高了产品良率。
【专利说明】一种FOUP清洗系统
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种清洗架，尤其涉及一种FOUP清洗系统。
【背景技术】
[0002]在现有硅片存储盒(FOUP)清洗设备中，如图1所示，所使用到的清洗架3采用FOUPl正立放置模式。FOUP底部有氮气填充口 4，其中包含过滤嘴。现在采用的正立放置模式，固定装置2位于FOUP —侧，FOUP出口 5位于固定装置2之间，在清洗过程中，清洗用水无法彻底倒出F0UP，会有部分残留在氮气填充口的位置。由于清洗用水在清洗过程中会吸附颗粒状污染物。如果清洗用水残留会污染到氮气填充口内部过滤嘴的洁净度，导致氮气填充口无法彻底清洗干净，无法达到理想的清洗效果。
[0003]中国专利(CN 101651112 A )提供了一种FOUP开闭装置，其能够搬入F0UP，有效地活用FOUP盖体打开的区域的下方空间。设有载置台，该载置台具备移动机构和旋转机构，用于载置F0UP，具有包括晶片的交接口(和开闭并保持FOUP的盖体开闭机构的框体，通过在盖体开闭机构上安装而卸下FOUP的盖体，使FOUP的朝向向着交接口而旋转。由此，可以将FOUP的盖体保持在框体上，由于不需要将盖体保持在装载口的下方区域，所以可以有效地活用下方区域。
实用新型内容
[0004]有鉴于此，本实用新型提出一种FOUP清洗系统，以解决上述氮气填充口无法彻底清洗干净问题。
[0005]为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0006]一种FOUP清洗系统，包括FOUP清洗机、清洗架和固定装置，其中，所述FOUP清洗机通过所述固定装置固定设于所述清洗架内，所述固定装置位于所述FOUP清洗机的底部，所述FOUP清洗机的顶部设有若干氮气填充口。
[0007]上述FOUP清洗系统，其中，所述清洗架的尺寸与所述FOUP清洗机的尺寸相匹配。
[0008]上述FOUP清洗系统，其中，所述固定装置数量为两个。
[0009]上述FOUP清洗系统，其中，所述氮气填充口的数量为两个。
[0010]上述FOUP清洗系统，其中，所述固定装置底部设有FOUP出口。
[0011]本实用新型由于采用了上述技术，产生的积极效果是:
[0012]通过本实用新型的使用，通过更改FOUP清洗架固定装置的位置，以及清洗架的尺寸的调整，满足了 FOUP可以倒立设置的目的，这样的结构既可以清洗FOUP又不会有水残留在氮气填充口的部位，达到了最佳清洗效果，降低硅片被颗粒污染甚至报废的问题，提高了FOUP的使用寿命，提高了产品良率。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0014]图1为现有技术的FOUP清洗系统的结构示意图；
[0015]图2为本实用新型的FOUP清洗系统的结构示意图。
[0016]I硅片存储盒(F0UP)，2固定装置，3清洗架，4氮气填充口，5F0UP出口，6F0UP入口，7清洗通道，8清洗出口。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。
[0018]实施例，
[0019]请参见图2所示，本实用新型的一种FOUP清洗系统，包括FOUP清洗机1、清洗架3和固定装置2，其中，FOUP清洗机I通过固定装置2固定设于清洗架3内，固定装置2位于FOUP清洗机I的底部，FOUP清洗机I的顶部设有若干氮气填充口 4。
[0020]本实用新型在上述基础上海具有以下实施方式，请继续参见图2所示，
[0021]本实用新型的进一步实施例中，清洗架3的尺寸与FOUP清洗机I的尺寸相匹配，使FOUP清洗机I能与清洗架3内部配合，并安装于清洗架3内部。
[0022]本实用新型的进一步实施例中，固定装置2数量为两个，使FOUPl牢固的安装于清洗架3内。
[0023]本实用新型的进一步实施例中，氮气填充口 4的数量为两个。
[0024]本实用新型的进一步实施例中，固定装置2底部设有FOUP出口 5。
[0025]使用者可根据以下说明进一步的认识本实用新型的特性及功能，
[0026]在现有硅片存储盒(FOUP)清洗设备中，所使用到的清洗架一般都采用FOUPl正立放置的结构，里面的喷水方向为四面同时喷，氮气填充口 4的位置位于FOUPl的底部，由于FOUPl结构问题导致的底部有清洗用的水残留，FOUPl底部的氮气填充口 4，其中包含过滤嘴(未示出)，在清洗的过程中，清洗用的水无法彻底从FOUP出口 5处倒出，因而会有部分的清洗用水残留在氮气填充口 4的位置，从而影响到后续的使用。
[0027]其原理是由于清洗用水在清洗过程中会吸附颗粒状污染物，清洗用水残留会污染到氮气填充口 4内部过滤嘴的洁净度，很容易导致氮气填充口 4无法彻底清洗干净，无法达到理想的清洗效果；会导致在生产线使用过程中污染位于FOUPl内部的产品；然而由于硅片的价格昂贵，产品的品质极易被颗粒污染从而下降，甚至报废，所以如果不能够解决FOUP清洗的问题，不仅仅会降低FOUPl的使用寿命，更会增加生产线上产品受污染的风险，降低产品良率。
[0028]因此将FOUP放置模式更改为倒立放置模式，其主要结构为:F0UP清洗机I通过固定装置2固定设于清洗架3内，固定装置2位于FOUP清洗机I的底部，FOUP清洗机I的顶部设有若干氮气填充口 4。
[0029]通过该结构可以解决清洗用水残留的问题，也就解决了 FOUPl底部氮气填充口4无法清洗干净的问题；更改FOUP清洗架固定装置位置，以及调整清洗架3尺寸，以满足FOUPl可以倒立放置，使其开口部位向下，FOUP从FOUP清洗入口 6进入，通过清洗通道7，在清洗通道7内进行FOUP的清洗，最后FOUP通过清洗出口 8传输至FOUP出口 5，氮气填充口 4位置位于最上方，可以达到既能清洗FOUPl又不会有清洗用水残留在氮气填充口 4部位的问题，从而可以达到清洗的最佳效果。
[0030]综上所述，通过本实用新型的使用，通过更改FOUP清洗架固定装置的位置，以及清洗架的尺寸的调整，满足了 FOUP可以倒立设置的目的，这样的结构既可以清洗FOUP又不会有水残留在氮气填充口的部位，达到了最佳清洗效果，降低硅片被颗粒污染甚至报废的问题，提高了 FOUP的使用寿命，提高了产品良率。
[0031]以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。
【权利要求】
1.一种FOUP清洗系统，包括FOUP清洗机、清洗架和固定装置，其特征在于，所述FOUP清洗机通过所述固定装置固定设于所述清洗架内，所述固定装置位于所述FOUP清洗机的底部，所述FOUP清洗机的顶部设有若干氮气填充口。
2.根据权利要求1所述的FOUP清洗系统，其特征在于，所述清洗架的尺寸与所述FOUP清洗机的尺寸相匹配。
3.根据权利要求1所述的FOUP清洗系统，其特征在于，所述固定装置的数量为两个。
4.根据权利要求1所述的FOUP清洗系统，其特征在于，所述氮气填充口的数量为两个。
5.根据权利要求1所述的FOUP清洗系统，其特征在于，所述FOUP清洗机的底部设有FOUP 出 口。
【文档编号】H01L21/67GK204204808SQ201420198495
【公开日】2015年3月11日 申请日期:2014年4月22日 优先权日:2014年4月22日
【发明者】缪敏敏, 桂纯钦, 许青峰, 潘达文, 杨立华, 孙新光 申请人:上海华力微电子有限公司