一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法

文档序号:29504945发布日期:2022-04-06 18:22阅读:179来源:国知局
一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法

1.本发明属于材料与器件技术领域,具体涉及光电探测器件的制备方法。


背景技术:

2.氧化锌是n型透明导电薄膜材料,磷化亚铜是p型半导体材料,两者均具有光电导响应,可用于制备光探测器件。通过利用单一氧化锌或磷化亚铜因光照电阻变化实现光探测的器件,由于材料受本身电学性质以及气体表面吸附的影响,光电效应较差。本专利将两者结合,制备成pn结这种结构的器件,光电探测性能有所提升。器件制备中,为了获得性能较好的器件,本专利使用铝掺杂的氧化锌代替氧化锌本征半导体材料。所制备器件,能够探测可见光。


技术实现要素:

3.本发明针对现有研究不足,提出了一种基于氧化锌、磷化亚铜光电探测器的制备方法。首先在铜箔片表面生长磷化亚铜,然后,在磷化亚铜表面沉积铝掺杂n型氧化锌薄膜;最后在氧化锌表面沉积铝电极获得器件。
4.步骤(1).将次磷酸钠放入刚玉舟中,然后在刚玉舟表面覆盖1-5平方厘米,厚度为250-1000微米的铜箔;
5.步骤(2).将步骤(1)的刚玉舟放入刚玉管中,抽真空后,充入1个大气压的氩气,然后刚玉管两端密封;
6.步骤(3).将步骤(2)刚玉管通过管式炉加热至280~300℃,升温速率10℃/min;温度升至280~300℃后保温,保温时间为30~60min;然后自然冷却至室温,刚玉管抽真空去除管内残留气体,然后取出产物表面生长有磷化亚铜的铜箔;
7.步骤(4).将步骤(3)产物作为基底,通过磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌薄膜;磁控溅射设备真空度0.1-1.0pa,氧气流量1-5sccm,氩气流量20-50sccm,溅射电压300-450v,电流30-60ma,溅射时间20-40min,靶材为铝掺杂金属锌靶;制备的氧化锌薄膜厚度50-200nm;
8.步骤(5).在步骤(4)产物氧化锌薄膜表面,通过热蒸发法在n型氧化锌表面沉积铝电极;热蒸发设备真空度5
×
10-4
pa,沉积速度20nm/min。
9.作为优选,所述的铜箔厚度为600微米。
10.作为优选,铝掺杂金属锌靶材中铝掺杂量为3%。
11.作为优选,所述的刚玉管通过管式炉加热至280℃。
12.本专利中的铝电极也可以是银、金电极。
13.本专利中的铜基底也可以为硅基底。
14.本发明的优点是:在铜箔表面沉积磷化亚铜和氧化锌构成的光电器件,制作方法简单,器件性能重复性高,本发明制备器件所需原材料丰富,制备简单,成本低,对于可见光探测性能较好。
附图说明
15.图1为本发明得到的结构示意图。
具体实施方式
16.实施例一:
17.一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法
18.步骤(1).将次磷酸钠放入刚玉舟中,然后在刚玉舟表面覆盖1平方厘米,厚度为250微米的铜箔;
19.步骤(2).将步骤(1)的刚玉舟放入刚玉管中,抽真空后,充入1个大气压的氩气,然后刚玉管两端密封;
20.步骤(3).将步骤(2)刚玉管通过管式炉加热至280℃,升温速率10℃/min;温度升至280℃后保温,保温时间为30min;然后自然冷却至室温,刚玉管抽真空去除管内残留气体,然后取出产物表面生长有磷化亚铜的铜箔;
21.步骤(4).将步骤(3)产物作为基底,通过磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌薄膜;磁控溅射设备真空度0.1pa,氧气流量1sccm,氩气流量20sccm,溅射电压300v,电流30ma,溅射时间20min,靶材为铝掺杂金属锌靶;制备的氧化锌薄膜厚度50nm;
22.步骤(5).在步骤(4)产物氧化锌薄膜表面,通过热蒸发法在n型氧化锌表面沉积铝电极;热蒸发设备真空度5
×
10-4
pa,沉积速度20nm/min。如图1所示,即为本发明的结构示意图。
23.实施例二:
24.一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法
25.步骤(1).将次磷酸钠放入刚玉舟中,然后在刚玉舟表面覆盖3平方厘米,厚度为500微米的铜箔;
26.步骤(2).将步骤(1)的刚玉舟放入刚玉管中,抽真空后,充入1个大气压的氩气,然后刚玉管两端密封;
27.步骤(3).将步骤(2)刚玉管通过管式炉加热至290℃,升温速率10℃/min;温度升至290℃后保温,保温时间为40min;然后自然冷却至室温,刚玉管抽真空去除管内残留气体,然后取出产物表面生长有磷化亚铜的铜箔;
28.步骤(4).将步骤(3)产物作为基底,通过磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌薄膜;磁控溅射设备真空度0.6pa,氧气流量3sccm,氩气流量40sccm,溅射电压400v,电流40ma,溅射时间30min,靶材为铝掺杂金属锌靶;制备的氧化锌薄膜厚度120nm;
29.步骤(5).在步骤(4)产物氧化锌薄膜表面,通过热蒸发法在n型氧化锌表面沉积金电极;热蒸发设备真空度5
×
10-4
pa,沉积速度20nm/min。
30.实施例三:
31.一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法
32.步骤(1).将次磷酸钠放入刚玉舟中,然后在刚玉舟表面覆盖5平方厘米,厚度为1000微米的铜箔;
33.步骤(2).将步骤(1)的刚玉舟放入刚玉管中,抽真空后,充入1个大气压的氩气,然后刚玉管两端密封;
34.步骤(3).将步骤(2)刚玉管通过管式炉加热至300℃,升温速率10℃/min;温度升至300℃后保温,保温时间为60min;然后自然冷却至室温,刚玉管抽真空去除管内残留气体,然后取出产物表面生长有磷化亚铜的铜箔;
35.步骤(4).将步骤(3)产物作为基底,通过磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌薄膜;磁控溅射设备真空度1.0pa,氧气流量5sccm,氩气流量50sccm,溅射电压450v,电流60ma,溅射时间40min,靶材为铝掺杂金属锌靶;制备的氧化锌薄膜厚度200nm;
36.步骤(5).在步骤(4)产物氧化锌薄膜表面,通过热蒸发法在n型氧化锌表面沉积银电极;热蒸发设备真空度5
×
10-4
pa,沉积速度20nm/min。


技术特征:
1.一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法,其特征在于:该方法具体包括以下步骤:步骤(1).将次磷酸钠放入刚玉舟中,然后在刚玉舟表面覆盖1-5平方厘米,厚度为250-1000微米的铜箔;步骤(2).将步骤(1)的刚玉舟放入刚玉管中,抽真空后,充入1个大气压的氩气,然后刚玉管两端密封;步骤(3).将步骤(2)刚玉管通过管式炉加热至280~300℃,升温速率10℃/min;温度升至280~300℃后保温,保温时间为30~60min;然后自然冷却至室温,刚玉管抽真空去除管内残留气体,然后取出产物表面生长有磷化亚铜的铜箔;步骤(4).将步骤(3)产物作为基底,通过磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌薄膜;磁控溅射设备真空度0.1-1.0pa,氧气流量1-5sccm,氩气流量20-50sccm,溅射电压300-450v,电流30-60ma,溅射时间20-40min,靶材为铝掺杂和金属锌靶;制备的氧化锌薄膜厚度50-200nm;步骤(5).在步骤(4)产物氧化锌薄膜表面,通过热蒸发法在n型氧化锌表面沉积铝电极;热蒸发设备真空度5
×
10-4
pa,沉积速度20nm/min。2.根据权利要求1所述的一种光电探测器件的制备方法,其特征在于:所述的铜箔厚度为600微米。3.根据权利要求1所述的一种光电探测器件的制备方法,其特征在于:所述的刚玉管通过管式炉加热至280℃。4.根据权利要求1所述的一种光电探测器件的制备方法,其特征在于:所述的铝电极也替换为银电极或金电极。5.根据权利要求1所述的一种光电探测器件的制备方法,其特征在于:铝掺杂金属锌靶材中铝掺杂量为3%。

技术总结
本发明公开一种基于氧化锌-磷化亚铜光电探测器的制备方法,本发明首先在铜箔片表面生长磷化亚铜,然后,在磷化亚铜表面沉积铝掺杂n型氧化锌薄膜;最后在氧化锌表面沉积铝电极获得器件。本发明在铜箔表面沉积磷化亚铜和氧化锌构成的光电器件,制作方法简单,器件性能重复性高,制备器件所需原材料丰富,制备简单,成本低,对于可见光探测性能较好。对于可见光探测性能较好。对于可见光探测性能较好。


技术研发人员:彭雪 郭欣 蔡庆锋 陈蔓汝 吕燕飞 席俊华 赵士超
受保护的技术使用者:杭州电子科技大学
技术研发日:2021.12.27
技术公布日:2022/4/5
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