一种用于立式炉的传片系统的制作方法

文档序号:27033070发布日期:2021-10-24 06:04阅读:125来源:国知局
一种用于立式炉的传片系统的制作方法

1.本实用新型涉及半导体或微电子制造技术领域,尤其涉及一种用于立式炉的传片系统。


背景技术:

2.现有的立式炉很多还是手动装卸晶片方式,在工艺时,缓冲区要充入保护气,而手动装卸片时又要充入空气,等待时间长,晶片也容易被污染,导致设备生产效率低下,不适于大批量大规模的生产。


技术实现要素:

3.本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种自动化程度高、生产效率高的用于立式炉的传片系统。
4.为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:
5.一种用于立式炉的传片系统,包括片盒上下料室、缓存片库室、工艺室和传片机械手,所述片盒上下料室与缓存片库室对接且二者之间设有可连通和隔断的后门,所述片盒上下料室于后门的前方设有前门,所述缓存片库室与工艺室对接,所述片盒上下料室内设有承载台,所述缓存片库室内设有至少一个载片架,所述工艺室内设有舟架,所述传片机械手活动于载片架与舟架之间。
6.作为上述技术方案的进一步改进,所述舟架可升降的设于工艺室内。
7.作为上述技术方案的进一步改进,所述载片架上设有多层置片槽。
8.作为上述技术方案的进一步改进,所述舟架上设有多层置片槽。
9.作为上述技术方案的进一步改进,所述片盒上下料室内设有气氛清洗装置。
10.作为上述技术方案的进一步改进,所述后门设于片盒上下料室上。
11.作为上述技术方案的进一步改进,所述传片机械手设于缓存片库室内。
12.与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
13.本实用新型的用于立式炉的传片系统,通过设置在片盒上下料室前后两侧设置前门和后门,使得片盒到达片盒上下料室的承载台后,关闭前门和后门,可对封闭在片盒上下料室内的晶片进行清洗工艺,之后再通过传片机械手进行传片的动作,代替人工手动装卸片,具有自动化程度高,能提高生产效率的优点。
附图说明
14.图1是本实用新型用于立式炉的传片系统的结构示意图。
15.图中各标号表示:
16.1、片盒上下料室;2、缓存片库室;3、工艺室;4、传片机械手;5、前门;6、后门;7、承载台;8、载片架;9、舟架。
具体实施方式
17.以下结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
18.如图1所示,本实施例的用于立式炉的传片系统,包括片盒上下料室1、缓存片库室2、工艺室3和传片机械手4,片盒上下料室1与缓存片库室2对接且二者之间设有后门6,后门6控制片盒上下料室1与缓存片库室2之间的连通和隔断。片盒上下料室1于后门6的前方设有前门5,缓存片库室2与工艺室3对接并相通,片盒上下料室1内设有承载台7,缓存片库室2内设有至少一个载片架8,工艺室3内设有舟架9,传片机械手4活动于载片架8与舟架9之间。
19.片盒上下料室前后两侧分别有门,片盒上下料室1通过前门5与外界隔开,通过后门6与缓存片库室2隔开;缓存片库室2与工艺室3连通,传片步骤如下:打开前门5,把片盒整体放入片盒上下料室1的承载台7上,关闭前门5,对片盒上下料室1进行清洗操作后,之后,打开后门6,传片机械手4逐片把片盒中的晶片传入到缓存片库室2的载片架8上,随后再通过传片机械手4把载片架8上的晶片传送至工艺室3中的舟架9上,全部完成后,进行工艺,待工艺完成后,再通过传片机械手4先把晶片返回至载片架8,之后再把载片架8中的晶片传入片盒上下料室1的片盒中,关闭后门6,打开前门5,取出片盒。
20.该传片系统,通过设置在片盒上下料室1前后两侧设置前门5和后门6,使得片盒到达片盒上下料室1的承载台7后,关闭前门5和后门6,可对封闭在片盒上下料室1内的晶片进行清洗工艺,之后再通过传片机械手4进行传片的动作,代替人工手动装卸片,具有自动化程度高,能提高生产效率的优点。
21.本实施例中,载片架8以六个为例,六个分成两组分设在两侧。载片架8可以放置同种工艺的晶片,也可以放置不同工艺的晶片。比如,热后与加热前的分别放在不同的载片架8上,镀膜前与镀膜后也分别放在不同的载片架8上。
22.本实施例中,后门6设于片盒上下料室1上。片盒上下料室1内设有气氛清洗装置。这通过前门5和后门6的关闭可以实现片盒上下料室1封闭,进而对片盒进行气氛清洗。
23.本实施例中,舟架9可升降的设于工艺室3内。工艺前,舟架9下降至设定位置进行上片,工艺时,舟架9上升至设定位置进行工艺。如果工艺是加热,通过升降操作,更接近热源。
24.本实施例中,载片架8上设有多层置片槽。舟架9上设有多层置片槽,用来放置多层晶片。
25.本实施例中,传片机械手4设于缓存片库室2内。
26.具体传片过程如下:
27.(1)打开前门5,把标准片盒放入到片盒上下料室1的承载台7上;
28.(2)关闭前门5,对片盒上下料室1进行气氛清洗;
29.(3)打开后门6,用传片机械手4把片盒内晶片传送至缓存片库室2中的载片架8上;
30.(4)用传片机械手4把载片架8上晶片传送至舟架9;
31.(5)舟架9升起,进行工艺;
32.(6)等待工艺完成,舟架9下降;
33.(7)用传片机械手4把舟架9内的晶片传送至载片架8;
34.(8)用传片机械手4把载片架8上晶片传送至片盒上下料室1中的片盒;
35.(9)关闭后门6,打开前门5,取出片盒。
36.虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本实用新型。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围的情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均应落在本实用新型技术方案保护的范围内。


技术特征:
1.一种用于立式炉的传片系统,其特征在于:包括片盒上下料室(1)、缓存片库室(2)、工艺室(3)和传片机械手(4),所述片盒上下料室(1)与缓存片库室(2)对接且二者之间设有可连通和隔断的后门(6),所述片盒上下料室(1)于后门(6)的前方设有前门(5),所述缓存片库室(2)与工艺室(3)对接,所述片盒上下料室(1)内设有承载台(7),所述缓存片库室(2)内设有至少一个载片架(8),所述工艺室(3)内设有舟架(9),所述传片机械手(4)活动于载片架(8)与舟架(9)之间。2.根据权利要求1所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述舟架(9)可升降的设于工艺室(3)内。3.根据权利要求1所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述载片架(8)上设有多层置片槽。4.根据权利要求3所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述舟架(9)上设有多层置片槽。5.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述片盒上下料室(1)内设有气氛清洗装置。6.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述后门(6)设于片盒上下料室(1)上。7.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式炉的传片系统,其特征在于:所述传片机械手(4)设于缓存片库室(2)内。

技术总结
本实用新型公开了一种用于立式炉的传片系统,包括片盒上下料室、缓存片库室、工艺室和传片机械手,片盒上下料室与缓存片库室对接且二者之间设有可连通和隔断的后门,片盒上下料室于后门的前方设有前门,所述缓存片库室与工艺室对接,片盒上下料室内设有承载台,缓存片库室内设有至少一个载片架,工艺室内设有舟架,传片机械手活动于载片架与舟架之间。本实用新型通过设置在片盒上下料室前后两侧设置前门和后门,使得片盒到达片盒上下料室的承载台后,关闭前门和后门,可对封闭在片盒上下料室内的晶片进行清洗工艺,之后再通过传片机械手进行传片的动作,代替人工手动装卸片,具有自动化程度高,能提高生产效率的优点。能提高生产效率的优点。能提高生产效率的优点。


技术研发人员:何永平 杨金 邓斌 王学仕 周水清
受保护的技术使用者:中国电子科技集团公司第四十八研究所
技术研发日:2021.01.28
技术公布日:2021/10/23
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