显示面板的制备方法、显示面板及显示装置与流程

本申请涉及显示设备，尤其涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术：

1、微发光二极管(micro led)是一种尺寸在几微米到几百微米之间的器件，由于其较普通led的尺寸要小很多，从而使得单一的led作为像素(pixel)用于显示成为可能。micro led显示器便是一种以高密度的micro led阵列作为显示像素阵列来实现图像显示的显示器。

2、micro led显示面板是将多个micro led巨量转移至阵列基板上，再进行电连接，存在micro led发光单元和阵列基板连接不良的问题。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，旨在解决发光单元和阵列基板的连接不良问题。

2、本申请第一方面的实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：

3、将多个发光单元转移至阵列基板，发光单元的接触电极和阵列基板的驱动电极相互对位；

4、在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度；

5、将带有胶层的辅助基板对接于带有发光单元的阵列基板，且胶层和发光单元位于辅助基板和阵列基板之间；

6、通过辅助基板施加朝向阵列基板的压合力，以使至少部分胶层填充于相邻的两个发光单元之间；

7、对胶层进行固化处理。

8、根据本申请第一方面的实施方式，在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度的步骤之前还包括：

9、在辅助基板上设置富氢牺牲层；

10、在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度的步骤中：在富氢牺牲层背离辅助基板的一侧设置胶层；

11、在对胶层进行固化处理的步骤之后还包括：

12、剥离富氢牺牲层和辅助基板，并在胶层背离阵列基板的表面形成至少一个凹槽。

13、根据本申请第一方面前述任一实施方式，富氢牺牲层的材料选自富含氢原子的氮化硅、氧化硅和非晶硅中的一种或几种。

14、根据本申请第一方面前述任一实施方式，在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度的步骤之前还包括：

15、在辅助基板上设置密封层，密封层包括层叠设置的金属层和氧化层；

16、在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度的步骤中：在密封层背离辅助基板的一侧设置胶层；

17、在对胶层进行固化处理的步骤之后还包括：

18、剥离辅助基板，并使得金属层和氧化层反应形成金属氧化层。

19、根据本申请第一方面前述任一实施方式，金属层位于氧化层朝向辅助基板的一侧，或者氧化层位于金属层朝向辅助基板的一侧。

20、根据本申请第一方面前述任一实施方式，金属层的材料选自铝、铟、钛中的一种或几种，氧化层的材料选自氧化硅、氧化钛、氧化铟锡中的一种或几种。

21、本申请第二方面的实施例还提供了一种使用上述任一第一方面实施例的制备方法制备成型的显示面板。

22、根据本申请第二方面的实施方式，胶层的折射率大于1。

23、根据本申请第二方面前述任一实施方式，胶层的材料包括氧树脂、硅胶、聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷、聚乙烯、聚丙烯中的至少一者。

24、根据本申请第二方面前述任一实施方式，还包括：支撑柱，设置于阵列基板的发光单元所在侧，支撑柱的高度小于或等于发光单元的最大高度。

25、根据本申请第二方面前述任一实施方式，支撑柱为多个，至少部分支撑柱设置于显示面板的非显示区域，和/或支撑柱在显示面板的显示区域内并位于发光单元的周侧。

26、根据本申请第二方面前述任一实施方式，还包括：挡墙，设置于阵列基板并围合发光单元形成限位空间，至少部分胶层被限位于限位空间内。

27、根据本申请第二方面前述任一实施方式，挡墙的高度小于或等于发光单元的最大高度。

28、根据本申请第二方面前述任一实施方式，挡墙和发光单元的高度差小于或等于发光单元最大高度的2/3。

29、根据本申请第二方面前述任一实施方式，胶层背离发光单元的表面具有凹槽。

30、根据本申请第二方面前述任一实施方式，胶层背离发光单元的表面设置有金属氧化物层。

31、根据本申请第二方面前述任一实施方式，金属氧化物层的透光率大于或等于50％。

32、本申请第三方面的实施例还提供了一种显示装置，包括上述任一第二方面实施方式提供的显示面板。

33、在本申请实施例提供的显示面板的制备方法中，首先将多个发光单元转移至阵列基板，且发光单元上的接触电极和阵列基板上的驱动电极相互对位，使得阵列基板能够驱动发光单元发光。此时，利用发光单元自身的重力使得接触电极和驱动电极相互连接，接触电极和驱动电极可能存在基础不良的问题。本申请还在辅助基板上设置胶层，并将带有胶层的辅助基板和阵列基板相互对接，胶层和发光单元位于辅助基板和阵列基板之间。然后通过辅助基板向阵列基板施加压合力，使得胶层能够填充于相邻的两个发光单元之间，且还能够进一步提高驱动电极和接触电极的结合力，改善驱动电极和接触电极的接触不良。此外，胶层的厚度大于发光单元的最大高度，一方面能够避免辅助基板和发光单元直接对接导致发光单元直接受压损坏，另一方面能够弥补不同发光单元之间的高度差，保证各发光单元的受力一致，保证各发光单元的接触电极均能够与驱动电极紧密连接，进一步改善发光单元和阵列基板的连接不良的问题。最后对胶层进行固化能够保证发光单元和阵列基板相对位置的稳定性，且使得胶层能够向发光单元提供保护。因此，本申请通过在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度，并通过辅助基板向发光单元施加压力，能够有效改善发光单元和阵列基板的连接不良的问题。

技术特征：

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在辅助基板上设置胶层，所述胶层的厚度大于所述发光单元的最大高度的步骤之前还包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在辅助基板上设置胶层，所述胶层的厚度大于所述发光单元的最大高度的步骤之前还包括：

4.一种使用权利要求1-3任一项所述的制备方法制备成型的显示面板。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述胶层的折射率大于1；

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括：支撑柱，设置于所述阵列基板的所述发光单元所在侧，所述支撑柱的高度小于或等于所述发光单元的最大高度；

7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括：挡墙，设置于所述阵列基板并围合所述发光单元形成限位空间，至少部分所述胶层被限位于所述限位空间内；

8.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述胶层背离所述发光单元的表面具有凹槽。

9.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述胶层背离所述发光单元的表面设置有金属氧化物层；

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4-9任一项所述的显示面板。

技术总结
本申请实施例提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。显示面板的制备方法，包括：将多个发光单元转移至阵列基板，发光单元的接触电极和阵列基板的驱动电极相互对位；在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度；将带有胶层的辅助基板对接于带有发光单元的阵列基板，且胶层和发光单元位于辅助基板和阵列基板之间；通过辅助基板施加朝向阵列基板的压合力，以使至少部分胶层填充于相邻的两个发光单元之间；对胶层进行固化处理。本申请通过在辅助基板上设置胶层，胶层的厚度大于发光单元的最大高度，并通过辅助基板向发光单元施加压力，能够有效改善发光单元和阵列基板的连接不良的问题。

技术研发人员：林佳桦
受保护的技术使用者：成都辰显光电有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14