流量供应装置及流量供应方法与流程

本发明涉及流量供应装置及供应方法。

背景技术：

1、在作为用于半导体物流的容器的foup的情况下，可以执行供应氮气流量的工艺。例如，在半导体物流中的氮气供应的情况下，仅从容器保管装置(例如，stocker/stb等)供应氮气。但是，在物流移动过程中，需要能够以更多种方式执行流量供应。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：第10-2016-0109372号韩国公开专利

技术实现思路

1、要解决的技术问题

2、本发明要解决的技术问题是在半导体物流运用中，能够更加迅速且有效地运营针对作为容器的前开式晶片传送盒(foup)的氮气流量供应。

3、特别是，除了容器传送装置的容器传送目的之外，还通过复合地执行流量供应来提高工艺的迅速性和效率性。

4、此外，提出并实现用于在物流现场以多种方式执行流量供应的具体方案。

5、本发明的技术问题不限于上述技术问题，本领域技术人员可以通过下面的记载清楚地理解未提及的其他技术问题。

6、解决方法

7、用于解决上述技术问题的根据本发明的一方面(aspect)的流量供应方法包括：将对象装载到轨道上的搬送单元的步骤；以及设置于所述搬送单元的气体处理单元通过对所装载的所述对象注入吹扫气体来对所述对象的内部进行吹扫的步骤，其中，所述对象包括内部容纳有基板的前开式晶片传送盒(foup)，且所述基板通过所述吹扫被去除烟雾(fume)。

8、用于解决上述技术问题的根据本发明的另一方面的流量供应装置包括：轨道；搬送单元，位于所述轨道上，并且用于装载对象；以及气体处理单元，设置在所述搬送单元上，并且执行针对所述对象的吹扫，其中，所述对象包括内部容纳有基板的前开式晶片传送盒，且所述基板通过所述吹扫被去除烟雾。

9、用于解决上述技术问题的根据本发明的又一方面的流量供应装置包括：轨道；搬送单元，位于所述轨道上，并且用于装载对象；以及气体处理单元，设置在所述搬送单元上，并且执行针对所述对象的吹扫；以及气体处理辅助单元，与所述气体处理单元对接，并且用于辅助所述吹扫气体的处理，其中，所述对象包括内部容纳有基板的前开式晶片传送盒，且所述基板通过所述吹扫被去除烟雾，所述气体处理单元包括：供应气体保存罐，设置在所述搬送单元上，并且存储用于所述吹扫的吹扫气体；回收气体保存罐，设置在所述搬送单元上，并且用于从完成所述吹扫的所述对象回收吹扫气体；供应对接模块，对接(docking)在所述对象上，并且用于供应所述吹扫气体；以及排气对接模块，对接在所述对象上，并且用于从所述对象的内部排出所述吹扫气体，所述供应对接模块包括：第一基座部，设置在所述搬送单元上；第一联动部，以第1-1连接体为媒介与所述第一基座部连接；以及第一对接部，以第1-2连接体为媒介设置于所述第一联动部，并且对接于所述对象，所述第一对接部以所述第一联动部为媒介在设定范围内从所述第一基座部旋转，并且至少在与所述对象相对的区域上可旋转地设置，所述第一对接部至少基于与所述对象的下表面的接触来使所述吹扫气体供应到所述对象，所述气体处理辅助单元包括：吹扫气体供应模块，位于所述轨道或所述搬送单元上，并且用于向所述供应气体保存罐供应吹扫气体；以及吹扫气体回收模块，位于所述轨道或所述搬送单元上，并且用于从所述回收气体保存罐回收吹扫气体。

10、有益效果

11、根据如上所述的本发明的流量供应装置及供应方法，具有如下的一个或更多个效果。

12、本发明可以在半导体物流运用中，能够更加迅速且有效地运营针对作为容器的前开式晶片传送盒(foup)的氮气流量供应。

13、特别是，除了容器传送装置的容器传送目的之外，还可以通过复合地执行流量供应来提高工艺的迅速性和效率性。

14、此外，可以提出并实现用于在物流现场以多种方式执行流量供应的具体方案。

技术特征：

1.一种流量供应方法，包括：

2.根据权利要求1所述的流量供应方法，其中，所述气体处理单元包括：

3.根据权利要求2所述的流量供应方法，其中，所述气体处理单元包括：

4.根据权利要求3所述的流量供应方法，其中，所述供应对接模块包括：

5.根据权利要求4所述的流量供应方法，其中，所述第一对接部以所述第一联动部为媒介在设定范围内从所述第一基座部旋转，并且至少在与所述对象相对的区域上可旋转地设置。

6.根据权利要求4所述的流量供应方法，其中，所述第一对接部至少基于与所述对象的下表面的接触来使所述吹扫气体供应到所述对象。

7.根据权利要求4所述的流量供应方法，其中，所述排气对接模块包括：

8.根据权利要求7所述的流量供应方法，其中，所述第二对接部以所述第二联动部为媒介在设定范围内从所述第二基座部旋转，并且至少在与所述对象相对的区域上可旋转地设置。

9.根据权利要求7所述的流量供应方法，其中，所述第二对接部至少基于与所述对象的下表面的接触来使所述吹扫气体从所述对象排出。

10.根据权利要求3所述的流量供应方法，其中，所述气体处理单元包括用于控制所述供应气体保存罐的吹扫气体流的第一阀模块。

11.根据权利要求10所述的流量供应方法，其中，所述第一阀模块包括：

12.根据权利要求3所述的流量供应方法，其中，所述气体处理单元包括用于控制所述回收气体保存罐的吹扫气体流的第二阀模块。

13.根据权利要求12所述的流量供应方法，其中，所述第二阀模块包括：

14.根据权利要求3所述的流量供应方法，其中，还包括：

15.一种流量供应装置，包括：

16.一种流量供应装置，包括：

技术总结
本发明提供了流量供应装置及流量供应方法。流量供应装置包括：轨道；搬送单元，位于所述轨道上，并且用于装载对象；以及气体处理单元，设置在所述搬送单元上，并且执行针对所述对象的吹扫，其中，所述对象包括内部容纳有基板的前开式晶片传送盒，且所述基板通过所述吹扫被去除烟雾。

技术研发人员：李星昊,朴鲁宰
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13