用于处理衬底的清洁装置和设备的制作方法

本发明的示例实施例涉及清洁装置和用于处理衬底的设备。更具体地，本发明的示例实施例涉及能够有效地清洁衬底的背面的清洁装置以及包括这种清洁装置的用于处理衬底的设备。

背景技术：

1、通常可以通过各种过程，例如沉积过程、曝光过程、蚀刻过程、清洁过程、干燥过程等，来制造集成电路装置或显示装置。具体地，由于集成电路装置或显示装置包括微小图案，可能需要精确的曝光过程来在衬底上形成微小图案。如果在曝光过程中颗粒或杂质残留在衬底的背面上，则衬底背面上的颗粒或杂质可能局部地引起散焦现象。因此，在衬底上形成的微小图案中可能产生缺陷。

2、为了避免曝光过程中的局部散焦现象，可以对衬底的背面执行清洁过程。在常规的清洁过程中，当在静电卡盘上旋转衬底的同时，清洁溶液可以被喷洒到背面上，使得清洁溶液的一部分可能被散射到衬底的正面上，并且清洁溶液也可能部分地渗透到静电卡盘中。如果清洁溶液残留在衬底的正面上，则在衬底的正面上可能产生诸如污渍等缺陷。

技术实现思路

1、本发明的一个方面提供了一种清洁装置，它能够有效地清洁衬底的背面，同时防止由清洁溶液引起的衬底上的缺陷。

2、本发明的另一方面提供了一种包括清洁装置的用于处理衬底的设备，该清洁装置能够有效地清洁衬底的背面，同时防止由清洁溶液引起的衬底上的缺陷。

3、根据本发明的一个方面，提供了一种用于清洁衬底的背面的清洁装置。清洁装置可以包括：外壳；静电卡盘，被设置在外壳中，其中衬底被放置在静电卡盘上；至少一个吸附构件，被配置为将衬底放置在静电卡盘上；驱动构件，被配置为旋转静电卡盘；循环构件，被耦接至驱动构件，并且被配置为形成用于防止清洁溶液在外壳中的散射的循环气流；至少一个辅助循环构件，被设置为与循环构件相邻，其中所述至少一个辅助循环构件包括用于循环气流的循环孔；以及至少一个喷嘴，被设置为与所述至少一个辅助循环构件相邻，并且被配置为将清洁溶液喷洒到衬底的背面上。

4、在示例实施例中，清洁装置可以包括第一吸附构件和第二吸附构件，第一吸附构件和第二吸附构件被配置为分别吸附衬底的外围部分。

5、在示例实施例中，循环构件可以具有开口，驱动构件穿过所述开口，并且循环构件与驱动构件的外圆周面接合。

6、在示例实施例中，循环构件可以包括用于在外壳中生成所述气流的叶片。

7、在一些示例实施例中，可以通过改变循环构件的叶片的布置来改变在外壳中的所述气流的方向。

8、在示例实施例中，清洁装置可以附加地包括固定构件，固定构件被配置为将循环构件固定至驱动构件。

9、在示例实施例中，清洁装置可以包括第一辅助循环构件和第二辅助循环构件，并且第一辅助循环构件和第二辅助循环构件中的每个可以具有由所述气流穿过的循环孔。

10、在示例实施例中，第一辅助循环构件和第二辅助循环构件中的每个可以与外壳的底部接触，并且可以在外壳的内侧壁之间延伸。

11、在示例实施例中，所述气流可以沿着在所述至少一个吸附构件和衬底的背面之间、在所述至少一个喷嘴和外壳的内侧壁之间以及在所述至少一个辅助循环构件的循环孔中形成的循环路径循环。

12、根据本发明的另一方面，提供了一种用于清洁衬底的背面的清洁装置。清洁装置可以包括：外壳；静电卡盘，被设置在外壳中，其中衬底被放置在静电卡盘上；第一吸附构件和第二第一吸附构件，被配置为将衬底放置在静电卡盘上；驱动构件，被配置为旋转静电卡盘；循环构件，被耦接至驱动构件，并且被配置为形成用于防止清洁溶液在外壳中的散射的循环气流；第一辅助循环构件和第二辅助循环构件，被分别设置为与循环构件相邻，其中第一辅助循环构件和第二辅助循环构件包括用于循环气流的循环孔；以及第一喷嘴和第二喷嘴，被设置为分别与第一辅助循环构件和第二辅助循环构件相邻，并且被配置为将清洁溶液喷洒到衬底的背面上。

13、在示例实施例中，清洁装置可以附加地包括固定构件，固定构件被配置为将循环构件固定至驱动构件。

14、在示例实施例中，循环构件可以包括用于在外壳中生成所述气流的叶片。

15、在一些示例实施例中，可以通过改变循环构件的叶片的布置来改变在外壳中的所述气流的方向。

16、在示例实施例中，第一辅助循环构件和第二辅助循环构件中的每个可以与外壳的底部接触，并且可以在外壳的内侧壁之间延伸。

17、在示例实施例中，所述气流可以沿着在第一吸附构件和衬底的背面之间、在第一喷嘴和外壳的内侧壁之间、在第一辅助循环构件的循环孔中、在第二吸附构件和衬底的背面之间、在第二喷嘴和外壳的内侧壁之间以及在第二辅助循环构件的循环孔中形成的循环路径循环。

18、根据本发明的再一方面，提供了一种用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备可以包括：处理室，被配置为对衬底执行期望的过程；以及清洁装置，被配置为在衬底被装载到处理室中之前和/或在衬底被从处理室卸载之后清洁衬底的背面。清洁装置可以包括：外壳；静电卡盘，被设置在外壳中，其中衬底被放置在静电卡盘上；第一吸附构件和第二第一吸附构件，被配置为将衬底放置在静电卡盘上；驱动构件，被配置为旋转静电卡盘；循环构件，被耦接至驱动构件，并且被配置为形成用于防止清洁溶液在外壳中的散射的循环气流；第一辅助循环构件和第二辅助循环构件，被分别设置为与循环构件相邻，其中第一辅助循环构件和第二辅助循环构件包括用于所述循环气流的循环孔；以及第一喷嘴和第二喷嘴，被设置为分别与第一辅助循环构件和第二辅助循环构件相邻，并且被配置为将清洁溶液喷洒到衬底的背面上。

19、在示例实施例中，处理室可以包括曝光室。

20、在一些示例实施例中，循环构件可以包括用于在外壳中生成所述气流的叶片，并且可以通过改变循环构件的叶片的布置来改变在外壳中的气流的方向。

21、在示例实施例中，第一辅助循环构件和第二辅助循环构件中的每个可以与外壳的底部接触，并且可以在外壳的内侧壁之间延伸。

22、在示例实施例中，气流可以沿着在第一吸附构件和衬底的背面之间、在第一喷嘴和外壳的内侧壁之间、在第一辅助循环构件的循环孔中、在第二吸附构件和衬底的背面之间、在第二喷嘴和外壳的内侧壁之间以及在第二辅助循环构件的循环孔中形成的循环路径循环。

23、根据示例实施例，在衬底被装载到处理室中之前和/或在衬底被从处理室卸载之后，清洁装置可以清洁衬底的背面。可以由循环构件在外壳中生成循环气流，使得从第一喷嘴和第二喷嘴喷洒到衬底的背面上的清洁溶液不会被散射到衬底的正面上以及不会渗透到静电卡盘中。因此，可以防止在衬底的正面上产生的缺陷可，并且也可以有效地清洁衬底的背面。进一步地，清洁溶液不会渗透到静电卡盘中，使得可以防止由清洁溶液引起的静电卡盘的故障。

技术特征：

1.一种用于清洁衬底的背面的清洁装置，所述清洁装置包括：

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述清洁装置包括第一吸附构件和第二吸附构件，第一吸附构件和第二吸附构件被配置为分别吸附所述衬底的外围部分。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述循环构件具有开口，所述驱动构件穿过所述开口，并且所述循环构件与所述驱动构件的外圆周面接合。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其中所述循环构件包括用于在所述外壳中生成所述循环气流的叶片。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中通过改变所述循环构件的所述叶片的布置来改变在所述外壳中的所述循环气流的方向。

6.根据权利要求3所述的清洁装置，还包括固定构件，所述固定构件被配置为将所述循环构件固定至所述驱动构件。

7.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述清洁装置包括第一辅助循环构件和第二辅助循环构件，并且所述第一辅助循环构件和第二辅助循环构件中的每个具有由所述气流穿过的所述循环孔。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中所述第一辅助循环构件和所述第二辅助循环构件中的每个与所述外壳的底部接触，并且在所述外壳的内侧壁之间延伸。

9.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述循环气流沿着循环路径循环，所述循环路径形成在所述至少一个吸附构件和所述衬底的所述背面之间、在所述至少一个喷嘴和所述外壳的内侧壁之间以及在所述至少一个辅助循环构件的所述循环孔中。

10.一种用于清洁衬底的背面的清洁装置，包括：

11.根据权利要求10所述的清洁装置，还包括固定构件，所述固定构件被配置为将所述循环构件固定至所述驱动构件。

12.根据权利要求10所述的清洁装置，其中所述循环构件包括用于在所述外壳中生成所述循环气流的叶片。

13.根据权利要求12所述的清洁装置，其中通过改变所述循环构件的所述叶片的布置来改变在所述外壳中的所述循环气流的方向。

14.根据权利要求10所述的清洁装置，其中所述第一辅助循环构件和所述第二辅助循环构件中的每个与所述外壳的底部接触，并且在所述外壳的内侧壁之间延伸。

15.根据权利要求10所述的清洁装置，其中所述循环气流沿着循环路径循环，所述循环路径形成在所述第一吸附构件和所述衬底的所述背面之间、在所述第一喷嘴和所述外壳的内侧壁之间、在所述第一辅助循环构件的所述循环孔中、在所述第二吸附构件和所述衬底的所述背面之间、在所述第二喷嘴和所述外壳的所述内侧壁之间以及在所述第二辅助循环构件的所述循环孔中。

16.一种用于处理衬底的设备，包括：

17.根据权利要求16所述的用于处理衬底的设备，其中所述处理室包括曝光室。

18.根据权利要求16所述的用于处理衬底的设备，其中所述循环构件包括用于在所述外壳中生成所述循环气流的叶片，并且通过改变所述循环构件的所述叶片的布置来改变在所述外壳中的所述循环气流的方向。

19.根据权利要求16所述的用于处理衬底的设备，其中所述第一辅助循环构件和所述第二辅助循环构件中的每个与所述外壳的底部接触，并且在所述外壳的内侧壁之间延伸。

20.根据权利要求16所述的用于处理衬底的设备，其中所述循环气流沿着循环路径循环，所述循环路径形成在所述第一吸附构件和所述衬底的所述背面之间、在所述第一喷嘴和所述外壳的内侧壁之间、在所述第一辅助循环构件的所述循环孔中、在所述第二吸附构件和所述衬底的所述背面之间、在所述第二喷嘴和所述外壳的所述内侧壁之间以及在所述第二辅助循环构件的所述循环孔中。

技术总结
用于清洁衬底的背面的清洁装置可以包括：外壳；静电卡盘，被设置在所述外壳中，其中衬底被放置在静电卡盘上；至少一个吸附构件，被配置为将衬底放置在静电卡盘上；驱动构件，被配置为旋转静电卡盘；循环构件，被耦接至驱动构件，并且被配置为形成循环气流以防止清洁溶液在外壳中的散射；至少一个辅助循环构件，被设置为与循环构件相邻，其中至少一个辅助循环构件包括用于循环气流的循环孔；以及至少一个喷嘴，被设置为与至少一个辅助循环构件相邻，并且被配置为将清洁溶液喷洒到衬底的背面上。

技术研发人员：孙永俊,严基象,孙源湜
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13