一种等离子体反应装置的制作方法

文档序号:32707460发布日期:2022-12-28 00:22阅读:22来源:国知局
一种等离子体反应装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种等离子体反应装置,属于晶圆设备技术领域。


背景技术:

2.利用等离子体处理对晶圆进行加工,以形成电子产品,已成为集成电路领域通用的技术。在等离子体处理中,腔室等离子反应导致腔体内的结构件耗材消耗,需定期破坏腔体真空后大气状态下进行耗材更换。因此,研发一种等离子体反应装置,成为本领域技术人员亟待解决的问题。


技术实现要素:

3.本实用新型是为了解决上述不足,提供了一种等离子体反应装置。
4.本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现:一种等离子体反应装置,包括真空腔体和气管供应管路,所述真空腔体顶部设有腔室隔离阀,使气体供应管路与真空腔体实现隔离;所述真空腔体通过腔室隔离阀连接陶瓷导流管,所述陶瓷导流管用于将气体导入真空腔体,陶瓷导流管连接气管供应管路,所述气管供应管路上设有等离子发生装置。
5.进一步地,所述等离子发生装置包括用于激发等离子体的石英管,以及用于提供等离子源的射频线圈,所述射频线圈缠绕在石英管上。
6.优选地,所述石英管数量为多个且为并列形态。
7.优选地,所述石英管数量为多个且为串连形态。
8.优选地,所述石英管数量为多个且能够通过机械结构进行更换。
9.进一步地,所述陶瓷导流管外部设有用于控制输入气体温度的加热装置,可以对导流管进行控温,有效控制腔室晶圆上部的温度。
10.优选地,所述加热装置为加热套管。
11.优选地,所述真空设备为真空泵。
12.本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型将等离子发生装置置于真空腔体外,方便拆卸更换,且通过关闭腔室隔离阀可实现在不影响腔体真空的情况下更换石英管,大大提高设备稼动率。
附图说明
13.图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
14.下面结合附图对本实用新型进一步详述。
15.如图1所示,一种等离子体反应装置,包括真空腔体1和气管供应管路2,所述气管供应管路2用于输送工艺气体;所述真空腔体1连接有真空设备3和温控设备4,所述真空设
备3为真空泵,所述真空腔体1内部设有晶圆载台5,所述真空腔体1顶部设有腔室隔离阀6,使气体供应管路与真空腔体1实现隔离;所述真空腔体1通过腔室隔离阀6连接陶瓷导流管7,所述陶瓷导流管7用于将气体导入真空腔体1,陶瓷导流管7连接气管供应管路2,所述气管供应管路2上设有等离子发生装置8,所述等离子发生装置8包括用于激发等离子体的石英管801,以及用于提供等离子源的射频线圈802,所述射频线圈802缠绕在石英管801上。所述石英管801数量为多个且为并列形态或串连形态,所述石英管801数量为多个时,能够通过机械结构进行更换。
16.所述陶瓷导流管7外部设有用于控制输入气体温度的加热装置9,所述加热装置9为加热套管,可以对导流管进行控温,有效控制腔室晶圆10上部的温度。
17.以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。


技术特征:
1.一种等离子体反应装置,包括真空腔体和气管供应管路,其特征在于:所述真空腔体顶部设有腔室隔离阀;所述真空腔体通过腔室隔离阀连接陶瓷导流管,陶瓷导流管连接气管供应管路,所述气管供应管路上设有等离子发生装置。2.根据权利要求1所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述等离子发生装置包括用于激发等离子体的石英管,以及用于提供等离子源的射频线圈,所述射频线圈缠绕在石英管上。3.根据权利要求2所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述石英管数量为多个且为并列形态。4.根据权利要求2所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述石英管数量为多个且为串连形态。5.根据权利要求2所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述石英管数量为多个且能够通过机械结构进行更换。6.根据权利要求1所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述陶瓷导流管外部设有用于控制输入气体温度的加热装置。7.根据权利要求6所述的一种等离子体反应装置,其特征在于:所述加热装置为加热套管。

技术总结
本实用新型公开了一种等离子体反应装置,包括真空腔体和气管供应管路,所述真空腔体顶部设有腔室隔离阀,使气体供应管路与真空腔体实现隔离;所述真空腔体通过腔室隔离阀连接陶瓷导流管,所述陶瓷导流管用于将气体导入真空腔体,陶瓷导流管连接气管供应管路,所述气管供应管路上设有等离子发生装置。本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型将等离子发生装置置于真空腔体外,方便拆卸更换,且通过关闭腔室隔离阀可实现在不影响腔体真空的情况下更换石英管,大大提高设备稼动率。大大提高设备稼动率。大大提高设备稼动率。


技术研发人员:万永东 彭帆
受保护的技术使用者:上海稷以科技有限公司
技术研发日:2022.05.31
技术公布日:2022/12/27
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1