本技术涉及电容生产装置领域技术,尤其是指一种采用料盘进行量产的电容生产装置。
背景技术:
1、在现今电子产品中,电容已成为这些电子产品中的必备组件。因此,量产电容的方式也是相关产业中的主流趋势之一。针对电解电容的生产过程,其中的含浸过程是电解电容生产流程的重要一环。
2、含浸加工处理是利用含浸液体,采用一定的手段将含浸液体渗入需要的零件中,使零件达到一定的特殊作用。现有技术中,含浸工序一般通过人工的方式将电容器芯子按批次装入网带内,需集中一定量的同型号规格的电容器芯子,一起放入含浸锅里进行含浸,含浸完成后再进行一次甩干,将多余电解液甩掉,再由员工将电容器芯子从含浸锅里拿出,再进行下一步工序,这种人工上料、下料,存在含浸时间长、效率低下、品质不好保
3、证、耗能高、对含浸液体存在一定的二次污染等问题。
4、后来市面上出现了电解电容器含浸机,例如cn208256485u,其包括有机架,所述机架上设置有电容器芯子自动筛选、送料机构、储料机构、上下含浸缸、真空过滤系统、电解液储存供应系统,所述自动筛选设有震动盘、直线平送、挡料夹,所述送料机构设在平送后段并可将电容芯子平移进入储料夹具上,所述储料机构设有料夹、开料夹装置;所述上下含浸缸设在机架上方,左右排列用气缸平移进行切换,所述真空过滤系统,设有气液分离罐、阀门、管路,用以连接真空泵,所述电解液储液系统,设有电解液桶、加热棒、管路、阀门、加压阀,其提供了新的能在加入电容器芯子物料后完成筛选、平送排料、进料夹送料、储料夹储料、含浸电容器芯子、含浸后脱液、出料到下一工序机器,全部过程减少人工参与,有效降低人力成本,提升产品性能、寿命,但是其各功能部分在设备上的布置合理性仍不太理想,由于其工位较多,导致整个设备较大,难以进一步缩小,需要预留较大空间,导致在车间内占用空间大,不利于车间布置与管理。
5、因此,需要研究一种新的技术方案来解决上述问题。
技术实现思路
1、有鉴于此,本实用新型针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种电容生产装置,其是通过含浸机与料盘供给模块的结构设计与配合,能够实现快速、高效、全自动地完成上料和含浸,自动化程度高,能有效提高生产效率,降低生产成本,含浸效率高、含浸质量好、耗能低,且对环境不会造成污染,以及其在作业平台上布置合理,有利于车间布置。
2、为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:
3、一种电容生产装置,包括作业平台、含浸机和料盘供给模块;所述含浸机设置在所述作业平台上,所述含浸机包括含浸液槽、盘架和料盘升降模块,所述盘架设置于所述浸液槽内,所述料盘升降模块连接至所述浸液槽内;所述料盘供给模块设置在所述作业平台的一侧,并与所述含浸机对齐。
4、作为一种优选方案,所述料盘供给模块包括料盘升降机构,其连接至所述作业平台,且所述料盘升降机构包括升降马达,所述升降马达设置在所述作业平台内。
5、作为一种优选方案,所述料盘供给模块包括复数个支架以及光学定位机构,所述支架定义出料盘容置空间,所述光学定位机构用以侦测所述料盘容置空间中的料盘高度,所述光学定位机构通讯连接所述料盘升降机构。
6、作为一种优选方案,所述电容生产装置还包括有至少一料盘,其中所述料盘的尺寸匹配所述含浸机与所述料盘供给模块,以使所述含浸机用以接收来自所述料盘供给模块的所述料盘。
7、作为一种优选方案,所述料盘与所述含浸液槽的轮廓均为长方形,使得所述料盘置于所述含浸液槽内时,所述盘架用以支撑所述料盘的边框。
8、作为一种优选方案,所述含浸机包括观察窗,所述观察窗设置于所述含浸液槽的长方形短边的侧壁上。
9、作为一种优选方案,所述料盘具有设置在其边框上的凹槽。
10、作为一种优选方案,所述料盘的轮廓为长方形,且所述凹槽为沿着所述料盘的长边排列。
11、作为一种优选方案,所述电容生产装置还包括有承载条,其中所述承载条的相对两端可拆卸地嵌入至所述凹槽内。
12、作为一种优选方案,所述电容生产装置还包括有料盘擦拭模块,所述料盘擦拭模块设置在所述作业平台上,且所述含浸机位于所述料盘供给模块与所述料盘擦拭模块之间。
13、本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知,其主要是通过含浸机与料盘供给模块的结构设计与配合,所述含浸机包括含浸液槽、盘架、料盘升降模块,所述料盘升降模块连接至所述浸液槽内,所述料盘供给模块与含浸机对齐,其能够实现快速、高效、全自动地完成上料和含浸,自动化程度高,能有效提高生产效率,降低生产成本,含浸效率高、含浸质量好、耗能低,且对环境不会造成污染,以及其在作业平台上布置合理,避免机台装置浪费多余的空间,有利于车间布置。
14、为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明。
1.一种电容生产装置,其特征在于:包括作业平台、含浸机和料盘供给模块;所述含浸机设置在所述作业平台上,所述含浸机包括浸液槽、盘架和料盘升降模块,所述盘架设置于所述浸液槽内,所述料盘升降模块连接至所述浸液槽内;所述料盘供给模块设置在所述作业平台的一侧,并与所述含浸机对齐。
2.根据权利要求1所述的电容生产装置,其特征在于:所述料盘供给模块包括料盘升降机构,其连接至所述作业平台,且所述料盘升降机构包括升降马达,所述升降马达设置在所述作业平台内。
3.根据权利要求2所述的电容生产装置,其特征在于:所述料盘供给模块包括复数个支架以及光学定位机构,所述支架定义出料盘容置空间,所述光学定位机构用以侦测所述料盘容置空间中的料盘高度,所述光学定位机构通讯连接所述料盘升降机构。
4.根据权利要求1所述的电容生产装置,其特征在于:所述电容生产装置还包括有至少一料盘,其中所述料盘的尺寸匹配所述含浸机与所述料盘供给模块,以使所述含浸机用以接收来自所述料盘供给模块的所述料盘。
5.根据权利要求4所述的电容生产装置,其特征在于:所述料盘与所述浸液槽的轮廓均为长方形,使得所述料盘置于所述浸液槽内时,所述盘架用以支撑所述料盘的边框。
6.根据权利要求5所述的电容生产装置,其特征在于:所述含浸机包括观察窗,所述观察窗设置于所述浸液槽的长方形短边的侧壁上。
7.根据权利要求4所述的电容生产装置,其特征在于:所述料盘具有设置在其边框上的凹槽。
8.根据权利要求7所述的电容生产装置,其特征在于:所述料盘的轮廓为长方形,且所述凹槽为沿着所述料盘的长边排列。
9.根据权利要求7所述的电容生产装置,其特征在于:所述电容生产装置还包括有承载条,其中所述承载条的相对两端可拆卸地嵌入至所述凹槽内。
10.根据权利要求1所述的电容生产装置,其特征在于:所述电容生产装置还包括有料盘擦拭模块,所述料盘擦拭模块设置在所述作业平台上,且所述含浸机位于所述料盘供给模块与所述料盘擦拭模块之间。