一种晶圆片清洗周转装置的制作方法

本技术涉及led芯片，具体涉及一种晶圆片清洗周转装置。

背景技术：

1、在led芯片制备的过程中，经常需要应用到光刻工艺；所谓光刻工艺即在晶圆片上涂光刻胶，通过掩膜版和显影使光刻胶上形成光刻孔，随后在上述结构表面镀膜，最后去除光刻胶。

2、上述显影工序后，工作人员需要将晶圆片放入去胶机以清洁光刻孔；因为去胶机中会使用清洗液来清洁光刻孔，故而随后工作人员又需要将晶圆片从去胶机转运到甩干机中以干燥晶圆片。

3、现有技术中，将晶圆片从去胶机转运到甩干机的工序，没有对应的专门的转运装置，晶圆片从去胶机中取出后，晶圆片上的清洁液流到生产车间的地面上，污染了环境。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种晶圆片清洗周转装置，实现干湿分离的同时转运去胶机中取出的晶圆片和甩干机中取出的晶圆片，避免清洁液污染环境。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型采用的一种技术方案为：一种晶圆片清洗周转装置，包括机架、万向轮、湿放置板、干放置板和滤网；

3、所述万向轮设置在机架底部，所述湿放置板和干放置板均水平设置在机架上，所述湿放置板与机架可拆卸连接，所述湿放置板上表面开设储水槽，所述滤网水平设置在储水槽中，所述滤网与储水槽的槽底间隔设置，所述滤网与湿放置板可拆卸连接。

4、进一步地，所述机架包括多个立柱，所述立柱呈矩阵排布，所述立柱上水平延伸出多个支承条，所述支承条承接湿放置板或干放置板，所述湿放置板和干放置板在竖直的间隔设置。

5、进一步地，所述湿放置板的侧壁设有排水管，所述排水管连接储水槽，所述排水管中设有手动开闭的阀门。

6、进一步地，所述储水槽的槽底倾斜，所述排水管的输入端在储水槽的槽底的最低点。

7、进一步地，所述机架的侧上部设有把手。

8、进一步地，所述干放置板上表面设有放置槽。

9、进一步地，还包括两个防水挡板，所述防水挡板立设，两个所述防水挡板互相平行的间隔设置，所述干放置板在两个防水挡板之间。

10、本实用新型的有益效果在于：工作人员在使用本实用新型提供的晶圆片清洗周转装置时，工作人员推动机架，所述万向轮的滚动方便机架移动。

11、工作人员将机架移动到去胶机旁，将携带清洗液的晶圆片放置在湿放置板的滤网中，清洁液将流到储水槽中，避免了污染环境。

12、随后工作人员将机架移动到甩干机旁，将甩干机中的晶圆片取出放置在干放置板上，将湿放置板上的晶圆片放入甩干机中。最后将所述晶圆片清洗周转装置上的晶圆片转移到下个工位。

13、所述湿放置板的可拆卸连接使工作人员可从机架上取下湿放置板将储水槽的清洗液倒掉，所述滤网的可拆卸连接方便滤网损坏后更换滤网。

14、故本实用新型提供的晶圆片清洗周转装置实现干湿分离的同时转运去胶机中取出的晶圆片和甩干机中取出的晶圆片，避免清洁液污染环境。

技术特征：

1.一种晶圆片清洗周转装置，其特征在于，包括机架、万向轮、湿放置板、干放置板和滤网；

2.根据权利要求1所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，所述机架包括多个立柱，所述立柱呈矩阵排布，所述立柱上水平延伸出多个支承条，所述支承条承接湿放置板或干放置板，所述湿放置板和干放置板在竖直的间隔设置。

3.根据权利要求1或2所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，所述湿放置板的侧壁设有排水管，所述排水管连接储水槽，所述排水管中设有手动开闭的阀门。

4.根据权利要求3所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，所述储水槽的槽底倾斜，所述排水管的输入端在储水槽的槽底的最低点。

5.根据权利要求1所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，所述机架的侧上部设有把手。

6.根据权利要求1所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，所述干放置板上表面设有放置槽。

7.根据权利要求2所述的晶圆片清洗周转装置，其特征在于，还包括两个防水挡板，所述防水挡板立设，两个所述防水挡板互相平行的间隔设置，所述干放置板在两个防水挡板之间。

技术总结
本技术涉及LED芯片技术领域，具体涉及一种晶圆片清洗周转装置，包括机架、万向轮、湿放置板、干放置板和滤网；所述万向轮设置在机架底部，所述湿放置板和干放置板均水平设置在机架上，所述湿放置板与机架可拆卸连接，所述湿放置板上表面开设储水槽，所述滤网水平设置在储水槽中，所述滤网与储水槽的槽底间隔设置，所述滤网与湿放置板可拆卸连接。本技术的有益效果在于：本技术提供的晶圆片清洗周转装置实现干湿分离的同时转运去胶机中取出的晶圆片和甩干机中取出的晶圆片，避免清洁液污染环境。

技术研发人员：何勇,黄家柳,李朝翔
受保护的技术使用者：福建兆元光电有限公司
技术研发日：20221128
技术公布日：2024/1/12