【】本申请涉及巨量转移,特别是一种弹性印章及转移装置。
背景技术
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背景技术:
1、目前,巨量转移技术作为发光二极管(led)显示的关键技术受到人们的重点关注,当前主流的转移技术之一是弹性印章转移技术,弹性印章制备简单、成本低廉及可实现大规模转移的优点使其成为规模化生产的首选。
2、然而,弹性印章在转移过程中容易因受力产生形变,进而影响微型发光二极管的转移精度,使得在转移装置转移微型发光二极管的过程中出现印痕不均、键合不均及键合电阻不均等现象。
3、【申请内容】
4、有鉴于此,本申请实施例提供了一种弹性印章及转移装置,以解决上述问题。
5、第一方面,本申请实施例提供一种弹性印章,其特征在于,弹性印章包括用于拾取发光器件的印章头,该印章头包括主体部、拾取头及第一稳定结构。其中,主体部包括第一区域且与多个拾取头连接,拾取头设置在主体部的一侧且位于第一区域内;第一稳定结构的硬度大于主体部的硬度,第一稳定结构设置在第一区域的外侧且第一稳定结构与主体部固定。
6、在第一方面的一种实现形式中,弹性印章的印章头还包括第二稳定结构,第二稳定结构与拾取头均设置在主体部的同一侧,并且第二稳定结构与主体部相接触的一侧设置有多个镂空部,镂空部的边缘包围至少一个拾取头。
7、在第一方面的一种实现形式中,弹性印章的印章头还包括多个第三稳定结构,第三稳定结构与主体部的一侧平行且设置于主体部内部,主体部包裹第三稳定结构的至少部分,第三稳定结构由平坦化透明材料组成且其硬度大于主体部的硬度。
8、第二方面,本申请实施例提供一种转移装置,包括如使用第一方面提供的弹性印章对发光器件进行转移。
9、本申请实施例中,通过在弹性印章中添加稳定结构减弱印章头在转移过程中产生的形变,进而提高发光器件的转移精度,改善在转移装置转移发光器件的过程中出现的印痕不均、键合不均及键合电阻不均等现象。
技术实现思路
1.一种弹性印章,其特征在于,所述弹性印章包括用于拾取发光器件的印章头,所述印章头包括:
2.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述第一稳定结构围绕所述第一区域。
3.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述第一稳定结构的至少部分内嵌于所述主体部。
4.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述第一稳定结构的至少部分设置在所述主体部的侧壁。
5.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述印章头还包括:
6.根据权利要求5所述的弹性印章,其特征在于,所述第一稳定结构与所述第二稳定结构为一体结构。
7.根据权利要求5所述的弹性印章,其特征在于,所述第二稳定结构的厚度为h1,所述拾取头的高度为h2,0.4*h2≤h1≤0.9*h2。
8.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述第一稳定结构的材dd224646i
9.根据权利要求1所述的弹性印章,其特征在于,所述印章头还包括:
10.根据权利要求9所述的弹性印章,其特征在于,至少两个所述第三稳定结构沿垂直所述第一区域的方向至少部分交叠。
11.根据权利要求9所述的弹性印章,其特征在于,至少两个所述第三稳定结构沿平行于所述第一区域的方向排布。
12.一种转移装置,其特征在于,包括如权利要求1-11任意一项所述的弹性印章。