基板处理装置、基板处理装置的控制方法与流程

本公开涉及基板处理装置以及基板处理装置的控制方法。

背景技术：

1、在下述的专利文献1、2中，提出了对多个基板统一执行处理的批量式的基板处理装置。在专利文献1、2中，基板处理装置包括贮存处理液的处理槽。通过使多个基板浸渍于贮存在处理槽中的处理液，对多个基板进行统一的处理。

2、在专利文献1、2中，为了监视基板处理装置的内部而设置有拍摄部(照相机)。在专利文献1中，拍摄部对贮存于处理槽的处理液进行拍摄，控制部基于拍摄图像来确定处理液的沸腾状态。在专利文献2中，照相机从铅垂上方对处理槽的内部进行拍摄，基于该拍摄图像来判定处理槽的内部有无基板片。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2019-50349号公报

6、专利文献2：美国专利申请公开第2007/0177788号说明书

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、在将多个基板浸渍于处理液时，利用具有统一保持多个基板的功能的机构(以下称为“基板保持机构”)。基板保持机构将多个基板浸渍在处理液中，并从处理液中取出。由处理液统一处理后的多个基板通过其他机构从基板保持机构向其他部位移动。此时，照相机对处理槽的内部进行拍摄。通过该拍摄得到的图像数据用于确认在该内部是否存在基板的碎片或基板自身(以下称为“缺损部”)。

3、该确认在从判断从基板保持机构移动的多个基板有无破损、缺失的观点出发是优选的。这是因为，确认在该内部存在缺损部能够成为推测为在从基板保持机构移动的多个基板中存在破损、缺失的依据。

4、例如在多个基板的第一组和第二组交替地浸渍于相同的处理液的情况下，基板保持机构反复进行相对于贮存该处理液的处理槽的升降(这也可以理解为“上下的移动”)动作。从不阻碍该基板保持机构的升降且减小死角来拍摄处理槽的内部的观点出发，照相机配置于基板保持机构的上方。

5、在从第一组自基板保持机构移动直到第二组向基板保持机构载置为止的期间，存在基板保持机构相对于处理槽持续位于上部的情况。在这样的状况下，无论基板保持机构是浸渍于处理液还是从处理液取出到处理槽的上方，基板保持机构都介于照相机与处理槽之间。在这样的情况下，照相机隔着基板保持机构对处理槽的内部进行拍摄。

6、在拍摄到的内部是否存在缺损部的判断能够基于在图像数据中判断为暗的区域的大小来进行。但是，在如上述那样照相机隔着基板保持机构对处理槽的内部进行拍摄的情况下，基板保持机构也被拍摄。因此，所拍摄的基板保持机构有可能在该判断中被错误地判断为缺损部。

7、因此，本公开的目的在于提供一种即使在对处理槽的内部进行拍摄时拍摄了基板保持机构，也降低将基板保持机构判断为缺损部的可能性的技术。

8、用于解决课题的手段

9、第一方式的基板处理装置的控制方法是对基板处理装置进行控制的方法，其中，所述基板处理装置包括：处理槽，其贮存将多个基板浸渍并对所述多个基板统一进行处理的处理液；基板保持机构，其是具有统一保持所述多个基板的功能的机构；升降器，其是具有将所述基板保持机构浸渍于所述处理液的功能和将所述基板保持机构从所述处理液取出的功能的机构；以及照相机，其从相对于所述基板保持机构与所述处理槽相反的一侧拍摄所述处理槽的内部及所述基板保持机构而生成图像数据。

10、所述方法具备如下工序：第一工序，在所述基板保持机构不保持所述多个基板的状态下，所述照相机对所述基板保持机构以及所述内部进行拍摄而生成第一所述图像数据；第二工序，在所述第一所述图像数据表示的第一区域中，确定至少拍摄到所述基板保持机构的区域即第二区域；以及第三工序，将在所述第一区域且所述第二区域以外的第三区域中分布的所述第一所述图像数据的灰度与所述灰度的阈值进行比较。

11、第二方式的基板处理装置的控制方法是基于第一方式的基板处理装置的控制方法，其中，在所述第二工序中，在所述第一区域中确定拍摄到所述基板保持机构的影子的第四区域，在所述第三工序中，从所述第一区域中排除所述第二区域和所述第四区域而得到所述第三区域。

12、第三方式的基板处理装置的控制方法是基于第一方式的基板处理装置的控制方法，其中，所述第二区域包括在所述第一区域中拍摄到所述升降器的至少一部分的区域。

13、第四方式的基板处理装置的控制方法是基于第三方式的基板处理装置的控制方法，其中，在所述第二工序中，在所述第一区域中确定拍摄到所述升降器的所述至少一部分的影子的第四区域，在所述第三工序中，从所述第一区域中排除所述第二区域和所述第四区域而得到所述第三区域。

14、第五方式的基板处理装置的控制方法是基于第一方式至第四方式中任一方式的基板处理装置的控制方法，其中，在从所述处理槽排出所述处理液的状态下执行所述第一工序。

15、第六方式的基板处理装置的控制方法是基于第一方式至第四方式中的任一方式的基板处理装置的控制方法，其中，在所述处理槽中贮存有所述处理液的状态下执行所述第一工序，所述第一所述图像数据是通过使用了在不同的时刻拍摄所述内部而生成的多个第二所述图像数据的时间上的平滑化而得到的。

16、第七方式的基板处理装置具备：处理槽，其贮存将多个基板浸渍并对所述多个基板统一进行处理的处理液；基板保持机构，其是具有统一保持所述多个基板的功能的机构；升降器，其是具有将所述基板保持机构浸渍于所述处理液的功能和将所述基板保持机构从所述处理液取出的功能的机构；照相机，其从相对于所述基板保持机构与所述处理槽相反的一侧拍摄所述处理槽的内部及所述基板保持机构而生成图像数据；以及控制部。所述控制部进行如下处理：在所述基板保持机构不保持所述多个基板的状态下，所述照相机对所述基板保持机构以及所述内部进行拍摄而生成第一所述图像数据；在所述第一所述图像数据表示的第一区域中，确定至少拍摄到所述基板保持机构的区域即第二区域；以及将从所述第一区域排除第二区域而得到的第三区域中的所述第一所述图像数据的灰度与所述灰度的阈值进行比较。

17、发明效果

18、第一方式的基板处理装置的控制方法、第三方式的基板处理装置的控制方法以及第七方式的基板处理装置，即使在对处理槽的内部进行拍摄时拍摄了基板保持机构，也降低将基板保持机构判断为缺损部的可能性。

19、第二方式的基板处理装置的控制方法降低由基板保持机构的影子导致的误判断的可能性。第四方式的基板处理装置的控制方法降低由升降器件的至少一部分的影子导致的误判断的可能性。

20、第五方式的基板处理装置的控制方法以及第六方式的基板处理装置的控制方法降低贮存于处理槽的处理液的液面的反射光对异物的判别造成影响的可能性。

技术特征：

1.一种控制基板处理装置的控制方法，所述基板处理装置包括：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，

6.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，

7.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

技术总结
本发明提供基板处理装置、基板处理装置的控制方法，其目的在于提供在对处理槽的内部进行拍摄时即使拍摄了基板保持机构，也能够降低将基板保持机构判断为缺损部的可能性的技术。基板处理方法具备：第一工序，在基板保持机构不保持多个基板的状态下，照相机对基板保持机构以及内部进行拍摄而生成第一图像数据；第二工序，在第一图像数据表示的第一区域中，确定至少拍摄到基板保持机构的区域即第二区域；以及第三工序，将在第一区域且第二区域以外的第三区域中分布的第一图像数据的灰度与灰度的阈值进行比较。

技术研发人员：柴田哲弥
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15