发光二极管外延片及其制备方法、LED与流程

文档序号:35932472发布日期:2023-11-05 10:16阅读:43来源:国知局
发光二极管外延片及其制备方法、LED与流程

本发明涉及光电,尤其涉及一种发光二极管外延片及其制备方法、led。


背景技术:

1、基于algan三元合金的紫外发光二极管,其结构包括衬底、缓冲层、n型层、有源层、p型层,其中有源层为周期性交替层叠的量子阱层和量子垒层,因紫外发光二极管有源层的量子垒层以及p型层常见为高al组分algan层,这使得紫外发光二极管存在以下两点不足,一方面为高al组分p型algan层,因为al组分偏高导致mg的激活能显著提升,掺杂效率大幅降低,产生的空穴浓度受限;另一方面高al组分的势垒层存在非常强的极化电场,且极化电场方向为n型层至p型层,这极大阻碍了p型层的空穴向量子阱层的注入,这显著降低量子阱层空穴的浓度,影响器件发光效率,故提升有源层的量子阱层空穴浓度至关重要。


技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题在于,提供一种发光二极管外延片,其提高了量子阱层的空穴浓度,提高了器件发光效率。

2、本发明所要解决的技术问题还在于,提供一种发光二极管外延片的制备方法,其工艺简单,能够稳定制得发光效率良好的发光二极管外延片。

3、为了解决上述技术问题,本发明提供了一种发光二极管外延片,包括衬底,所述衬底上依次设有缓冲层、n型半导体层、有源层、p型半导体层;

4、所述有源层包括多个交替层叠的量子阱层和量子垒层,所述量子垒层为氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层,其中,0.1≤α≤0.9,0≤β≤0.2,0.1≤γ≤0.9。

5、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的sc组分为0.2~0.8。

6、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的y组分为0.05~0.15。

7、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的al组分为0.2~0.8。

8、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层掺杂mg,mg掺杂浓度为1×1017atoms/cm3~1×1019atoms/cm3。

9、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层厚度为5nm~15nm。

10、在一种实施方式中,所述有源层包括3~10个交替层叠的量子阱层和量子垒层;

11、所述量子阱层为algan层。

12、为解决上述问题,本发明提供了一种发光二极管外延片的制备方法,包括以下步骤:

13、s1、准备衬底;

14、s2、在所述衬底上依次沉积缓冲层、n型半导体层、有源层、p型半导体层;

15、所述有源层包括多个交替层叠的量子阱层和量子垒层,所述量子垒层为氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层,其中,0.1≤α≤0.9,0≤β≤0.2,0.1≤γ≤0.9。

16、在一种实施方式中,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层采用下述方法制得:

17、将反应室温度控制在1000℃~1200℃,通入nh3作为氮源,先向腔体内通入10s~60s的nh3,对生长表面进行氮化;

18、随后通入sc源、al源、y源、ga源、mg源,完成所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的沉积。

19、相应地,本发明还提供了一种led,所述led包括上述的发光二极管外延片。

20、实施本发明,具有如下有益效果:

21、本发明提供的发光二极管外延片,其具有特定结构的所述量子垒层,即氮极性scαyβalγga1-α-β-γn。所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn能够自发极化电场以及压电极化电场反转,使得p型半导体层中空穴更利于向有源层注入,且因为sc、y元素的引入,量子垒层具有更高的极化电场,这进一步提升了空穴向量子阱层的注入能力,提高了量子阱层的空穴浓度。

22、并且,氮极性的势垒层相对于镓极性势垒层具有更高的mg掺杂效率,而氮极性scαyβalγga1-α-β-γn相对于常规的algan量子垒层具有更低的mg激活能,可有效提高mg的离化率。因此,氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层能较显著提高势垒层的掺杂效率,为量子阱层提供更多的空穴,提高量子阱层的空穴浓度。



技术特征:

1.一种发光二极管外延片,其特征在于,包括衬底,所述衬底上依次设有缓冲层、n型半导体层、有源层、p型半导体层;

2.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的sc组分为0.2~0.8。

3.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的y组分为0.05~0.15。

4.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层的al组分为0.2~0.8。

5.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层掺杂mg,mg掺杂浓度为1×1017atoms/cm3~1×1019atoms/cm3。

6.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层厚度为5nm~15nm。

7.如权利要求1所述的发光二极管外延片,其特征在于,所述有源层包括3~10个交替层叠的量子阱层和量子垒层;

8.一种如权利要求1~7任一项所述的发光二极管外延片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

9.如权利要求8所述的发光二极管外延片的制备方法,其特征在于,所述氮极性scαyβalγga1-α-β-γn层采用下述方法制得:

10.一种led,其特征在于,所述led包括如权利要求1~7任一项所述的发光二极管外延片。


技术总结
本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、LED,所述发光二极管外延片包括衬底,所述衬底上依次设有缓冲层、N型半导体层、有源层、P型半导体层;所述有源层包括多个交替层叠的量子阱层和量子垒层,所述量子垒层为氮极性Sc<subgt;α</subgt;Y<subgt;β</subgt;Al<subgt;γ</subgt;Ga<subgt;1‑α‑β‑γ</subgt;N层,其中,0.1≤α≤0.9,0≤β≤0.2,0.1≤γ≤0.9。本发明提供的发光二极管外延片能提高量子阱层的空穴浓度,提高器件发光效率。

技术研发人员:侯合林,谢志文,张铭信,陈铭胜,文国昇,金从龙
受保护的技术使用者:江西兆驰半导体有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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