一种晶片双面刷洗机的制作方法

本发明属于半导体加工，具体涉及一种晶片双面刷洗机。

背景技术：

1、在半导体器件的应用方面，随着碳化硅生产成本的降低，碳化硅晶片由于具备优良的性能而可能取代硅晶片，打破硅晶片由于材料本身性能的瓶颈。碳化硅晶片主要应用于led固体照明领域和高频率器件领域，其具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势。

2、碳化硅晶片在生产过程中，或者在使用一段时间后，往往需要对其表面进行刷洗，最常见的刷洗方式为人工刷洗，即操作人员对碳化硅晶片手动进行刷洗，人工刷洗方式消耗了大量人力，工作效率低下，且易对碳化硅晶片表面造成损伤，并且人工刷洗的清洗效果较差，容易影响碳化硅晶片的后续使用。当然，目前也出现了采用刷洗设备对碳化硅晶片进行自动刷洗，但是现有的刷洗设备通常结构复杂、设备成本高、清洗时间长，且清洗效果仍无法达到最佳。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种结构简单、清洗效果好的晶片双面刷洗机。

2、为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

3、一种晶片双面刷洗机，包括箱体、料仓、移料装置、翻转装置以及处理装置，所述的箱体的内部设置有底板，所述的料仓、移料装置、翻转装置以及处理装置均设置在所述的底板上，所述的料仓包括进料仓、出料仓，所述的移料装置包括移料机构、第一抓取机构以及第二抓取机构，所述的翻转装置包括第一翻转机构、第二翻转机构，所述的处理装置包括浸泡机构、第一刷洗机构、第二刷洗机构以及甩干机构，所述的移料机构位于所述的底板的中部，所述的进料仓、出料仓和所述的第一刷洗机构分别沿第一方向分布在所述的移料机构的两侧，所述的浸泡机构、第一翻转机构和所述的第二翻转机构、第二刷洗机构、甩干机构分别沿第二方向分布在所述的移料机构的两侧，所述的第一方向、第二方向相互垂直，所述的第一抓取机构位于所述的第一翻转机构、第一刷洗机构、第二翻转机构的侧部，所述的第二抓取机构位于所述的第二翻转机构、第二刷洗机构、甩干机构的侧部，所述的移料机构用于将晶片从所述的进料仓移送至所述的浸泡机构、从所述的浸泡机构移送至所述的第一翻转机构、从所述的甩干机构移送至所述的出料仓，所述的第一抓取机构用于将晶片从所述的第一翻转机构移送至所述的第一刷洗机构、从所述的第一刷洗机构移送至所述的第二翻转机构，所述的第二抓取机构用于将晶片从所述的第二翻转机构移送至所述的第二刷洗机构、从所述的第二刷洗机构移送至所述的甩干机构。

4、优选地，所述的第一翻转机构、第二翻转机构均包括翻转夹持件、翻转驱动组件，所述的翻转驱动组件设置在所述的底板上，所述的翻转夹持件与所述的翻转驱动组件连接，所述的翻转驱动组件用于驱动所述的翻转夹持件沿水平方向移动、绕自身轴线旋转、夹持或松开晶片。

5、进一步优选地，所述的翻转驱动组件包括第一翻转驱动件、第二翻转驱动件以及第三翻转驱动件，所述的第一翻转驱动件设置在所述的底板上，所述的第二翻转驱动件与所述的第一翻转驱动件连接，所述的第三翻转驱动件与所述的第二翻转驱动件连接，所述的翻转夹持件与所述的第三翻转驱动件连接，所述的第一翻转驱动件用于驱动所述的第二翻转驱动件移动，所述的第二翻转驱动件用于驱动所述的第三翻转驱动件旋转，所述的第三翻转驱动件用于驱动所述的翻转夹持件夹持或松开晶片。

6、更进一步优选地，所述的翻转夹持件包括一对夹爪，所述的夹爪的一端与所述的第三翻转驱动件连接，所述的夹爪呈圆弧形，且所述的夹爪上设置有多个夹持部，多个所述的夹持部沿所述的夹爪的延伸方向分布。

7、优选地，所述的浸泡机构包括浸泡槽、浸泡架以及浸泡驱动件，所述的浸泡槽连接在所述的底板上且其顶部敞开，所述的浸泡架设置在所述的浸泡槽内，且所述的浸泡架可沿上下方向移动，所述的浸泡驱动件设置在所述的底板上并与所述的浸泡架连接，所述的浸泡驱动件用于驱动所述的浸泡架移动。

8、优选地，所述的第一刷洗机构、第二刷洗机构均包括刷洗槽、夹持组件、喷射组件以及刷洗组件，所述的夹持组件、喷射组件以及刷洗组件均设置在所述的刷洗槽内，所述的夹持组件的顶部具有用于夹持晶片的夹持区域，且所述的夹持组件可在水平面上旋转使位于所述的夹持区域内的晶片旋转，所述的喷射组件可在水平面上摆动并向所述的夹持组件喷射清洗介质，所述的刷洗组件用于刷洗位于所述的夹持区域内的晶片。

9、进一步优选地，所述的喷射组件包括二流体喷头、喷射驱动件，所述的二流体喷头位于所述的刷洗槽内，所述的喷射驱动件设置在所述的刷洗槽的底部，所述的喷射驱动件与所述的二流体喷头连接，所述的喷射驱动件用于驱动所述的二流体喷头在水平面上摆动、沿上下方向移动。

10、进一步优选地，所述的刷洗组件包括刷头、第一刷洗驱动件以及第二刷洗驱动件，所述的刷头位于所述的刷洗槽内，所述的第一刷洗驱动件设置在所述的刷洗槽的底部并与所述的刷头连接，所述的第一刷洗驱动件用于驱动所述的刷头在水平面上摆动、沿上下方向移动，所述的第二刷洗驱动件与所述的刷头连接，所述的第二刷洗驱动件用于驱动所述的刷头绕自身轴线旋转。

11、优选地，所述的移料机构包括移料件、移料驱动组件，所述的移料驱动组件包括第一移料驱动件、第二移料驱动件以及第三移料驱动件，所述的第一移料驱动件设置在所述的底板上，所述的第二移料驱动件与所述的第一移料驱动件连接，所述的第三移料驱动件与所述的第二移料驱动件连接，所述的移料件与所述的第三移料驱动件连接，所述的第一移料驱动件用于驱动所述的第二移料驱动件沿上下方向移动，所述的第二移料驱动件用于驱动所述的第三移料驱动件沿水平方向移动，所述的第三移料驱动件用于驱动所述的移料件旋转。

12、优选地，所述的第一抓取机构、第二抓取机构均包括抓取件、抓取驱动组件，所述的抓取驱动组件包括第一抓取驱动件、第二抓取驱动件，所述的第一抓取驱动件设置在所述的底板上，所述的第二抓取驱动件连接在所述的第一抓取驱动件上，所述的抓取件设置在所述的第二抓取驱动件上，所述的第一抓取驱动件用于驱动所述的第二抓取驱动件沿水平方向移动，所述的第二抓取驱动件用于驱动所述的抓取件沿上下方向移动。

13、由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

14、本发明通过设置移料装置、翻转装置以及处理装置并使其相互配合作用，实现了对晶片进行全面高效的双面刷洗，自动化程度高，无需人工操作，降低了劳动强度且减少了人力消耗，大大提高了刷洗效率，清洗效果好，且不会对晶片造成损伤，保证了产品质量，整体结构简单、设计巧妙，降低了成本，实用性好。

技术特征：

1.一种晶片双面刷洗机，其特征在于：包括箱体、料仓、移料装置、翻转装置以及处理装置，所述的箱体的内部设置有底板，所述的料仓、移料装置、翻转装置以及处理装置均设置在所述的底板上，所述的料仓包括进料仓、出料仓，所述的移料装置包括移料机构、第一抓取机构以及第二抓取机构，所述的翻转装置包括第一翻转机构、第二翻转机构，所述的处理装置包括浸泡机构、第一刷洗机构、第二刷洗机构以及甩干机构，所述的移料机构位于所述的底板的中部，所述的进料仓、出料仓和所述的第一刷洗机构分别沿第一方向分布在所述的移料机构的两侧，所述的浸泡机构、第一翻转机构和所述的第二翻转机构、第二刷洗机构、甩干机构分别沿第二方向分布在所述的移料机构的两侧，所述的第一方向、第二方向相互垂直，所述的第一抓取机构位于所述的第一翻转机构、第一刷洗机构、第二翻转机构的侧部，所述的第二抓取机构位于所述的第二翻转机构、第二刷洗机构、甩干机构的侧部，所述的移料机构用于将晶片从所述的进料仓移送至所述的浸泡机构、从所述的浸泡机构移送至所述的第一翻转机构、从所述的甩干机构移送至所述的出料仓，所述的第一抓取机构用于将晶片从所述的第一翻转机构移送至所述的第一刷洗机构、从所述的第一刷洗机构移送至所述的第二翻转机构，所述的第二抓取机构用于将晶片从所述的第二翻转机构移送至所述的第二刷洗机构、从所述的第二刷洗机构移送至所述的甩干机构。

2.根据权利要求1所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的第一翻转机构、第二翻转机构均包括翻转夹持件、翻转驱动组件，所述的翻转驱动组件设置在所述的底板上，所述的翻转夹持件与所述的翻转驱动组件连接，所述的翻转驱动组件用于驱动所述的翻转夹持件沿水平方向移动、绕自身轴线旋转、夹持或松开晶片。

3.根据权利要求2所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的翻转驱动组件包括第一翻转驱动件、第二翻转驱动件以及第三翻转驱动件，所述的第一翻转驱动件设置在所述的底板上，所述的第二翻转驱动件与所述的第一翻转驱动件连接，所述的第三翻转驱动件与所述的第二翻转驱动件连接，所述的翻转夹持件与所述的第三翻转驱动件连接，所述的第一翻转驱动件用于驱动所述的第二翻转驱动件移动，所述的第二翻转驱动件用于驱动所述的第三翻转驱动件旋转，所述的第三翻转驱动件用于驱动所述的翻转夹持件夹持或松开晶片。

4.根据权利要求3所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的翻转夹持件包括一对夹爪，所述的夹爪的一端与所述的第三翻转驱动件连接，所述的夹爪呈圆弧形，且所述的夹爪上设置有多个夹持部，多个所述的夹持部沿所述的夹爪的延伸方向分布。

5.根据权利要求1所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的浸泡机构包括浸泡槽、浸泡架以及浸泡驱动件，所述的浸泡槽连接在所述的底板上且其顶部敞开，所述的浸泡架设置在所述的浸泡槽内，且所述的浸泡架可沿上下方向移动，所述的浸泡驱动件设置在所述的底板上并与所述的浸泡架连接，所述的浸泡驱动件用于驱动所述的浸泡架移动。

6.根据权利要求1所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的第一刷洗机构、第二刷洗机构均包括刷洗槽、夹持组件、喷射组件以及刷洗组件，所述的夹持组件、喷射组件以及刷洗组件均设置在所述的刷洗槽内，所述的夹持组件的顶部具有用于夹持晶片的夹持区域，且所述的夹持组件可在水平面上旋转使位于所述的夹持区域内的晶片旋转，所述的喷射组件可在水平面上摆动并向所述的夹持组件喷射清洗介质，所述的刷洗组件用于刷洗位于所述的夹持区域内的晶片。

7.根据权利要求6所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的喷射组件包括二流体喷头、喷射驱动件，所述的二流体喷头位于所述的刷洗槽内，所述的喷射驱动件设置在所述的刷洗槽的底部，所述的喷射驱动件与所述的二流体喷头连接，所述的喷射驱动件用于驱动所述的二流体喷头在水平面上摆动、沿上下方向移动。

8.根据权利要求6所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的刷洗组件包括刷头、第一刷洗驱动件以及第二刷洗驱动件，所述的刷头位于所述的刷洗槽内，所述的第一刷洗驱动件设置在所述的刷洗槽的底部并与所述的刷头连接，所述的第一刷洗驱动件用于驱动所述的刷头在水平面上摆动、沿上下方向移动，所述的第二刷洗驱动件与所述的刷头连接，所述的第二刷洗驱动件用于驱动所述的刷头绕自身轴线旋转。

9.根据权利要求1所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的移料机构包括移料件、移料驱动组件，所述的移料驱动组件包括第一移料驱动件、第二移料驱动件以及第三移料驱动件，所述的第一移料驱动件设置在所述的底板上，所述的第二移料驱动件与所述的第一移料驱动件连接，所述的第三移料驱动件与所述的第二移料驱动件连接，所述的移料件与所述的第三移料驱动件连接，所述的第一移料驱动件用于驱动所述的第二移料驱动件沿上下方向移动，所述的第二移料驱动件用于驱动所述的第三移料驱动件沿水平方向移动，所述的第三移料驱动件用于驱动所述的移料件旋转。

10.根据权利要求1所述的晶片双面刷洗机，其特征在于：所述的第一抓取机构、第二抓取机构均包括抓取件、抓取驱动组件，所述的抓取驱动组件包括第一抓取驱动件、第二抓取驱动件，所述的第一抓取驱动件设置在所述的底板上，所述的第二抓取驱动件连接在所述的第一抓取驱动件上，所述的抓取件设置在所述的第二抓取驱动件上，所述的第一抓取驱动件用于驱动所述的第二抓取驱动件沿水平方向移动，所述的第二抓取驱动件用于驱动所述的抓取件沿上下方向移动。

技术总结
本发明涉及一种晶片双面刷洗机，包括箱体、料仓、移料装置、翻转装置及处理装置，箱体内设置有底板，料仓包括进料仓、出料仓，移料装置包括移料机构、第一抓取机构及第二抓取机构，翻转装置包括第一翻转机构、第二翻转机构，处理装置包括浸泡机构、第一刷洗机构、第二刷洗机构及甩干机构，移料机构位于底板中部，第一料仓、第二料仓和第一刷洗机构分别沿第一方向分布在移料机构两侧，浸泡机构、第一翻转机构和第二翻转机构、第二刷洗机构、甩干机构分别沿第二方向分布在移料机构两侧。本发明实现了对晶片进行全面高效的双面刷洗，自动化程度高，清洗效果好，且不会对晶片造成损伤，整体结构简单、设计巧妙，降低了成本，实用性好。

技术研发人员：杨杰,宋昌万,孔玉朋,蒋君,陈传磊
受保护的技术使用者：拓思精工科技（苏州）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15