基板处理装置和基板处理方法与流程

本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

背景技术：

1、专利文献1公开一种液处理装置，该液处理装置具备：贮存罐，其贮存处理液；循环线路，其使从贮存罐送出的处理液返回到贮存罐；以及供给线路，其将循环线路与用于向基板喷出处理液的喷出喷嘴连接。在不经由供给线路从喷嘴喷出处理液的情况下，处理液经由循环线路进行循环。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2019-041039号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开对能够提高处理液的供给系统的清洁度的基板处理装置和基板处理方法进行说明。

3、用于解决问题的方案

4、基板处理装置的一例具备：贮存部，其构成为暂时贮存对基板进行处理的处理液；补充部，其构成为向贮存部补充处理液；流量测定部，其构成为测定向贮存部补充的处理液的流量；气体供给部，其构成为向贮存部供给气体来对贮存部内进行加压；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：一边基于由流量测定部测定的值控制气体供给部来调整对贮存部内加压的压力的大小，一边从补充部向贮存部补充处理液。

5、发明的效果

6、根据本公开所涉及的基板处理装置和基板处理方法，能够提高处理液的供给系统的清洁度。

技术特征：

1.一种基板处理装置，具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，

13.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，

14.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

15.一种基板处理方法，包括：

16.根据权利要求15所述的基板处理方法，其特征在于，

17.根据权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，还包括：

18.根据权利要求15至17中的任一项所述的基板处理方法，其特征在于，

19.根据权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于，

20.根据权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于，

技术总结
本公开说明基板处理装置和基板处理方法，能够提高处理液的供给系统的清洁度。基板处理装置具备：贮存部，其构成为暂时贮存对基板进行处理的处理液；补充部，其构成为向贮存部补充处理液；流量测定部，其构成为测定向贮存部补充的处理液的流量；气体供给部，其构成为向贮存部供给气体来对贮存部内进行加压；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：一边基于由流量测定部测定的值控制气体供给部来调整对贮存部内加压的压力的大小，一边从补充部向贮存部补充处理液。

技术研发人员：穴本笃史,梅野慎一
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/4/24