本发明主要涉及芯片封装,具体涉及一种芯片阵列及微型芯片的转移方法。
背景技术:
1、激光转移技术是micro led芯片封装工艺过程中常用的技术手段,目前的激光转移技术是在转移基板全面覆盖一层激光反应胶,用于芯片的附着和转移。
2、目前的激光反应胶主要分为气化胶和发泡胶两类,气化胶在激光作用下气化消散,使得芯片可以从转移基板转移到封装基板上,但由于气化胶在反应时容易碎裂,导致部分胶体掉落在封装基板上,影响芯片的粘贴固定;而发泡胶在激光作用下膨胀,容易在转移芯片过程中对邻近的芯片造成干涉,导致芯片出现翻转和移位等情况,影响芯片转移的可靠性。
技术实现思路
1、本发明的目的在于克服现有技术的不足,本发明提供了一种芯片阵列及微型芯片的转移方法,所述芯片阵列通过在转移基板上设置带有激光反应胶的凹槽,通过凹槽限制激光反应胶的反应活动范围,避免激光反应胶对邻近芯片造成影响,从而提高芯片转移的可靠性。
2、本发明提供了一种芯片阵列,所述芯片阵列包括:转移基板和阵列排布在所述转移基板上的若干个芯片;
3、所述转移基板上设置有若干个凹槽,所述若干个芯片一一对应分布在所述若干个凹槽内;
4、任一所述凹槽内设置有激光反应胶,所述芯片基于所述激光反应胶粘贴在所述凹槽内。
5、进一步的,所述凹槽内设置有芯片容纳区域,所述芯片设置在所述芯片容纳区域内。
6、进一步的,所述凹槽的宽度为d1,所述芯片容纳区域的边长为d2,所述d1和所述d2之间的约束关系为:1μm≤d1-d2≤2μm。
7、进一步的,所述若干个凹槽之间间隙铺设有遮光层。
8、进一步的,所述遮光层的厚度为c;
9、所述遮光层厚度c的范围为:20nm≤c≤50nm。
10、进一步的,所述这遮光层为金属镀层,或所述遮光层为碳粉层,或所述遮光层为光吸收涂层,或所述遮光层为树脂层。
11、进一步的,所述凹槽的深度为a,所述芯片的电极厚度为b,所述激光反应胶的厚度为d;
12、所述凹槽深度a、芯片电极厚度b和激光反应胶厚度d之间的约束关系为:1.5*b≤d≤a。
13、进一步的,所述激光反应胶的光吸收率大于99%。
14、进一步的,所述激光反应胶为气化胶,或所述激光反应胶为发泡胶。
15、本发明还提供了一种微型芯片的转移方法,所述转移方法基于所述芯片阵列实现,所述转移方法包括:
16、在透光载片上刻蚀形成若干个凹槽,基于所述若干个凹槽形成凹槽阵列;
17、在所述凹槽阵列之间镀设遮光层;
18、在所述凹槽内填充激光反应胶,形成所述转移基板;
19、将芯片对应贴合在转移基板的凹槽内,形成芯片阵列;
20、将所述芯片阵列贴合在封装基板上,并通过激光转移芯片。
21、进一步的,所述在所述凹槽阵列之间镀设遮光层包括:
22、在透光载片上设置图案化光刻胶,在所述凹槽阵列中形成图案化掩膜;
23、在所述图案化掩膜形成的河道内沉积形成遮光层;
24、通过剥离液将光刻胶去除。
25、本发明提供了一种芯片阵列及微型芯片的转移方法,所述芯片阵列通过在转移基板上设置带有激光反应胶的凹槽,通过凹槽限制激光反应胶的反应活动范围,避免激光反应胶对邻近芯片造成影响,从而提高芯片转移的可靠性。
1.一种芯片阵列,其特征在于,所述芯片阵列包括:转移基板和阵列排布在所述转移基板上的若干个芯片;
2.如权利要求1所述的芯片阵列,其特征在于,所述凹槽内设置有芯片容纳区域,所述芯片设置在所述芯片容纳区域内。
3.如权利要求2所述的芯片阵列,其特征在于,所述凹槽的宽度为d1,所述芯片容纳区域的边长为d2;
4.如权利要求1所述的芯片阵列,其特征在于,所述若干个凹槽之间间隙铺设有遮光层。
5.如权利要求4所述的芯片阵列,其特征在于,所述遮光层的厚度为c,所述遮光层厚度c的范围为:20nm≤c≤50nm。
6.如权利要求4所述的芯片阵列,其特征在于,所述这遮光层为金属镀层,或所述遮光层为碳粉层,或所述遮光层为光吸收涂层,或所述遮光层为树脂层。
7.如权利要求1所述的芯片阵列,其特征在于,所述凹槽的深度为a,所述芯片的电极厚度为b,所述激光反应胶的厚度为d;
8.如权利要求1所述的芯片阵列,其特征在于,所述激光反应胶的光吸收率大于99%。
9.如权利要求1所述的芯片阵列,其特征在于,所述激光反应胶为气化胶,或所述激光反应胶为发泡胶。
10.一种微型芯片的转移方法,其特征在于,所述转移方法基于权利要求1至9任一所述的芯片阵列实现,所述转移方法包括:
11.如权利要求10所述的转移方法,其特征在于,所述在所述凹槽阵列之间镀设遮光层包括: