阵列基板及其制备方法、显示面板与流程

本发明涉及显示，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术：

1、随着科技的进步，显示器已经广泛应用于人们的生活中，并且显示质量和效果变得越来越好。为了节约能耗和降低显示器随环境变化对眼睛的刺激，大部分随身携带的显示器都安装有感光器，用以控制显示器的背光光强随环境的改变而改变。

2、目前带有感光功能的显示面板，需要在正常显示的区域中额外增加感光器件，工艺流程繁琐，制备成本较高。

技术实现思路

1、本发明的主要目的在于提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，旨在解决目前的具有感光功能的显示面板制备工艺流程繁琐，制备成本高的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板的制备方法，该方法包括：

3、准备衬底基板，在所述衬底基板上进行沉积和图案化处理，依次形成第一栅极、第一绝缘层、有源层；

4、在所述有源层上依次形成第二绝缘层和第二栅极层；

5、在所述第二栅极层上涂布光阻层，将半色调光罩的不透区对准所述光阻层的显示区，将所述半色调光罩的半透区对准所述光阻层的感光区，进行光刻处理，得到显示区光阻层和感光区光阻层，其中，所述半色调光罩除所述不透区和所述半透区之外的区域为全透区；

6、刻蚀未被所述显示区光阻层和感光区光阻层覆盖的第二绝缘层和第二栅极层，形成栅极绝缘层和第二栅极；

7、刻蚀所述感光区光阻层和部分所述显示区光阻层，以及刻蚀所述感光区光阻层下方的第二栅极；

8、刻蚀剩余的显示区光阻层，对所述有源层进行导体化处理；

9、沉积形成第三绝缘层，在所述第三绝缘层上图形化形成深孔；

10、在所述第三绝缘层上沉积电极层，使所述电极层通过所述深孔和所述有源层的导体化部分接触。

11、可选地，所述半色调光罩的不透区的透光率为0-5％，所述半色调光罩的半透区的透光率为25-40％，所述半色调光罩的全透区的透光率为95-100％。

12、可选地，所述显示区光阻层的厚度和所述感光区光阻层的厚度之间的比例为1:2-1:3。

13、可选地，所述显示区光阻层的宽度大于刻蚀后的被所述显示区光阻层覆盖的第二栅极的宽度。

14、可选地，所述第二栅极层的材料包括钼、铝、铜或钛中的至少一种，所述第二栅极层的厚度为

15、可选地，所述有源层的材料包括铟镓锌氧化物、铟锡锌氧化物或铟镓锌锡氧化物中的至少一种，所述有源层的厚度为

16、可选地，所述对所述有源层进行导体化处理采用氦气等离子工艺或氢气等离子工艺。

17、可选地，所述第一绝缘层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一种，所述第二绝缘层的材料包括氧化硅或氮氧化硅中的至少一种，所述第三绝缘层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一种。

18、此外，为实现上述目的，本发明还提供一种阵列基板，使用如上文所述的阵列基板的制备方法制备得到，所述阵列基板包括显示区晶体管和环境光感测晶体管，其中，

19、所述显示区晶体管包括衬底基板，以及依次位于所述衬底基板一侧表面的第一栅极、第一绝缘层、有源层、栅极绝缘层、第二栅极、第三绝缘层、电极层，所述电极层与所述有源层的导体化部分接触，

20、所述环境光感测晶体管包括衬底基板，以及依次位于所述衬底基板一侧表面的第一栅极、第一绝缘层、有源层、栅极绝缘层、第三绝缘层、电极层，所述电极层与所述有源层的导体化部分接触。

21、此外，为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板，所述显示面板包括如上文所述的阵列基板。

22、本发明提供的阵列基板的制备方法，先准备衬底基板，在所述衬底基板上进行沉积和图案化处理，依次形成第一栅极、第一绝缘层、有源层；在所述有源层上依次形成第二绝缘层和第二栅极层；在所述第二栅极层上涂布光阻层，将半色调光罩的不透区对准所述光阻层的显示区，将所述半色调光罩的半透区对准所述光阻层的感光区，进行光刻处理，得到显示区光阻层和感光区光阻层，其中，所述半色调光罩除所述不透区和所述半透区之外的区域为全透区；刻蚀未被所述显示区光阻层和感光区光阻层覆盖的第二绝缘层和第二栅极层，形成栅极绝缘层和第二栅极；刻蚀所述感光区光阻层和部分所述显示区光阻层，以及刻蚀所述感光区光阻层下方的第二栅极；刻蚀剩余的显示区光阻层，对所述有源层进行导体化处理；沉积形成第三绝缘层，在所述第三绝缘层上图形化形成深孔；在所述第三绝缘层上沉积电极层，使所述电极层通过所述深孔和所述有源层的导体化部分接触。通过使用半色调光罩对不同区域的光阻层进行保护，可以去除感光区的第二栅极，而显示区第二栅极得以保留，实现在同一衬底基板上制备出既具有正常显示功能，又具备环境光感测功能的阵列基板，使得具备环境光感测功能的显示面板的制备工艺流程得到简化，降低了其制备成本。

技术特征：

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板的制备方法包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述半色调光罩的不透区的透光率为0-5％，所述半色调光罩的半透区的透光率为25-40％，所述半色调光罩的全透区的透光率为95-100％。

3.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述显示区光阻层的厚度和所述感光区光阻层的厚度之间的比例为1:2-1:3。

4.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述显示区光阻层的宽度大于刻蚀后的被所述显示区光阻层覆盖的第二栅极的宽度。

5.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第二栅极层的材料包括钼、铝、铜或钛中的至少一种，所述第二栅极层的厚度为

6.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述有源层的材料包括铟镓锌氧化物、铟锡锌氧化物或铟镓锌锡氧化物中的至少一种，所述有源层的厚度为

7.如权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述对所述有源层进行导体化处理采用氦气等离子工艺或氢气等离子工艺。

8.如权利要求1-7中任一项所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一绝缘层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一种，所述第二绝缘层的材料包括氧化硅或氮氧化硅中的至少一种，所述第三绝缘层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一种。

9.一种阵列基板，其特征在于，使用如权利要求1-8中任一项所述的阵列基板的制备方法制备得到，所述阵列基板包括显示区晶体管和环境光感测晶体管，其中，

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求9所述的阵列基板。

技术总结
本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，属于显示技术领域，该方法包括：在衬底基板上依次形成第一栅极、第一绝缘层、有源层；形成第二绝缘层和第二栅极层；在第二栅极层上涂布光阻层，采用半色调光罩进行光刻处理，得到显示区光阻层和感光区光阻层；刻蚀未被显示区光阻层和感光区光阻层覆盖的第二绝缘层和第二栅极层；刻蚀感光区光阻层和感光区光阻层下方的第二栅极；刻蚀显示区光阻层，对有源层进行导体化处理；沉积形成第三绝缘层，在第三绝缘层上图形化形成深孔；在第三绝缘层上沉积电极层，使电极层通过深孔和有源层的导体化部分接触。本发明实现了简化环境光感测显示面板的制备工艺流程，降低成本的技术效果。

技术研发人员：胡威威,卓恩宗,袁海江
受保护的技术使用者：滁州惠科光电科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/17