一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置的制作方法

本发明涉及半导体设备领域，特别是涉及一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置。

背景技术：

1、在半导体集成电路制造工艺中，湿法清洗是获得高质量产品的关键工艺之一，清洗设备逐渐由批量清洗方式转变成单片清洗方式，以提高清洗质量，进而提高良率；在单片清洗机台中，具有多个收容杯(cup)的晶圆清洗得到广泛引用，该晶圆清洗设备可通过不同的cup用以收集晶圆清洗工艺过程中的不同药液，使其排放至不同的下排端口；

2、在单片时晶圆清洗时由于清洗时的清洗液时在晶圆表面，因此部分清洗液会被甩出到清洗结构的侧壁形成小液滴，随即这些液滴会在冲击力的作用下溅到晶圆背部，而晶圆背部由于吸附固定结构的存在，因此非常不方便对其进行清洁处理；同时在清洗时需要将不同的清洗液进行收集，而现有的收集结构较为麻烦且不方便后期维护。

技术实现思路

1、本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置。

2、本发明通过以下技术方案来实现上述目的：

3、一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，包括用于对晶圆片进行吸附支撑的固定机构，所述固定机构下侧设置有用于带动晶圆片进行旋转的驱动机构，所述驱动机构固定在锥形罩内部，所述锥形罩下端固定有底座，所述晶圆片上方设置有用于喷出清洗液的冲洗臂，还包括用于清洗晶圆片时对不同倾斜液进行分隔收集的分隔机构；

4、所述分隔机构包括倾斜罩，所述倾斜罩内部的底侧位置滑动连接有第一隔离罩，所述第一隔离罩内侧设置有第二隔离罩，所述第二隔离罩内侧设置有第三隔离罩，所述倾斜罩下端镶嵌有四个收集槽，所述收集槽与其下侧的导流管连通，所述锥形罩内部设置有顶推架，所述顶推架下侧设置有液压杆，所述第三隔离罩内侧设置有用于防止清洗液流到所述晶圆片底部的吹扫机构。

5、优选的：所述固定机构包括空心轴，所述空心轴上端固定有吸附座，所述吸附座顶部固定有五个吸盘，所述空心轴下端连接有转动连接阀，所述转动连接阀下侧固定有真空发生器。

6、优选的：所述吸附座中心位置开设空腔，且所述吸附座的空腔与空心轴连通，所述吸附座的空腔与吸盘下端连通。

7、优选的：所述吹扫机构包括防护罩，所述防护罩上端固定有的送风罩，所述防护罩下端固定有过滤网，所述防护罩内部设置有固定在所述空心轴外侧的扇叶。

8、优选的：所述倾斜罩底部位于相邻的两个收集槽之间均开设有用于方便第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩上下滑动的环形滑槽。

9、优选的：所述第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩下端分别固定有三组用于和顶推架配合的楔形座。

10、优选的：所述第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩上端均向内折弯并相互贴合。

11、优选的：所述送风罩套在空心轴外侧，且其上端口径小于下端口径。

12、优选的：所述倾斜罩中心位置开设有用于固定所述防护罩的圆孔。

13、与现有技术相比，本发明的有益效果如下：

14、1、利用空心轴的转动来带动扇叶在防护罩内部转动，通过扇叶的转动来将外部空气通过过滤网过滤送入到送风罩中，利用送风罩来加快空气的流动速度并在晶圆片底部形成向外扩散的伞型风幕，随即防止晶圆片清洗时清洗液附着在晶圆片背部；

15、2、利用液压杆伸出长度来推动顶推架对第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩进行分别顶推，将清洗时不同清洗液进行分隔收集，方便晶圆片处理时多种清洗液的分离收集以便后期处理。

技术特征：

1.一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，包括用于对晶圆片(7)进行吸附支撑的固定机构(2)，所述固定机构(2)下侧设置有用于带动晶圆片(7)进行旋转的驱动机构(4)，所述驱动机构(4)固定在锥形罩(5)内部，所述锥形罩(5)下端固定有底座(6)，所述晶圆片(7)上方设置有用于喷出清洗液的冲洗臂(8)，其特征在于：还包括用于清洗晶圆片(7)时对不同倾斜液进行分隔收集的分隔机构(1)；

2.根据权利要求1所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述固定机构(2)包括空心轴(21)，所述空心轴(21)上端固定有吸附座(24)，所述吸附座(24)顶部固定有五个吸盘(25)，所述空心轴(21)下端连接有转动连接阀(23)，所述转动连接阀(23)下侧固定有真空发生器(22)。

3.根据权利要求2所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述吸附座(24)中心位置开设空腔，且所述吸附座(24)的空腔与空心轴(21)连通，所述吸附座(24)的空腔与吸盘(25)下端连通。

4.根据权利要求2所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述吹扫机构(3)包括防护罩(31)，所述防护罩(31)上端固定有的送风罩(34)，所述防护罩(31)下端固定有过滤网(32)，所述防护罩(31)内部设置有固定在所述空心轴(21)外侧的扇叶(33)。

5.根据权利要求1所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述倾斜罩(11)底部位于相邻的两个收集槽(15)之间均开设有用于方便第一隔离罩(12)、第二隔离罩(13)和第三隔离罩(14)上下滑动的环形滑槽。

6.根据权利要求1所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述第一隔离罩(12)、第二隔离罩(13)和第三隔离罩(14)下端分别固定有三组用于和顶推架(17)配合的楔形座。

7.根据权利要求1所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述第一隔离罩(12)、第二隔离罩(13)和第三隔离罩(14)上端均向内折弯并相互贴合。

8.根据权利要求4所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述送风罩(34)套在空心轴(21)外侧，且其上端口径小于下端口径。

9.根据权利要求4所述的一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，其特征在于：所述倾斜罩(11)中心位置开设有用于固定所述防护罩(31)的圆孔。

技术总结
本发明涉及半导体设备领域，特别是涉及一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置，包括用于对晶圆片进行吸附支撑的固定机构，所述固定机构下侧设置有用于带动晶圆片进行旋转的驱动机构，所述驱动机构固定在锥形罩内部。本发明利用空心轴的转动来带动扇叶在防护罩内部转动，通过扇叶的转动来将外部空气通过过滤网过滤送入到送风罩中，利用送风罩来加快空气的流动速度并在晶圆片底部形成向外扩散的伞型风幕，随即防止晶圆片清洗时清洗液附着在晶圆片背部，利用液压杆伸出长度来推动顶推架对第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩进行分别顶推，将清洗时不同清洗液进行分隔收集，方便晶圆片处理时多种清洗液的分离收集以便后期处理。

技术研发人员：李刚,周志勇,王鸿军,吴清
受保护的技术使用者：江苏亚电科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/24