本发明涉及一种平面合金二极管结构及其制备方法。
背景技术:
1、现有技术中的平面合金二极管边缘采用硼扩散方式形成扩散p型区,然后采用光刻方式形成金属接触窗口,然后芯片正面蒸发金属al,合金、腐蚀后形成p型合金结,然后进行正面金属化形成阳极,背面金属化形成二极管阴极。该器件是一种典型的合金二极管结构,有源区采用al合金方式得到,掺杂浓度比较高,衬底的浓度也非常高,高浓度的p区和n区刚好可以发生齐纳击穿,形成超低压器件,边缘p扩散结为结终端保护,防止边缘电场集中;此器件原则上可以形成低漏电的齐纳二极管,但是在进行al合金工艺时,由于al金属是整面覆盖,合金加热时al会进入到氧化层,导致氧化层质量变差,进而导致器件漏电流变大,并且al除了发生纵向扩散外还会发生横向扩散,al有可能扩散至p扩散结边缘,导致芯片边缘电场集中进而反向漏电变大。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本发明提供了一种平面合金二极管结构及其制备方法。
2、本发明通过以下技术方案得以实现。
3、本发明提供的一种平面合金二极管结构及其制备方法,包括n型衬底区;位于所述n型衬底区边缘周围的p型扩散结;位所述n型衬底区的有源区设有p型合金结;所述n型衬底区的表面边缘设有钝化层;所述p型合金结的表面设有阳极金属层;所述n型衬底层背面设有阴极金属层。
4、所述阳极金属层的边缘覆盖在钝化层的内端表面。
5、所述p型合金结的边缘与p型扩散结的有一定距离。
6、所述n型衬底区的电阻率为0.002-0.004ω•cm。
7、所述p型扩散结结深为3-4μm,表面方块电阻为15-20ω/□。
8、所述p合金结层厚为1-2um。
9、一种平面合金二极管的制备方法,包括以下步骤:
10、s1制作低阻n+衬底;
11、s2热氧化生长氧化层;
12、s3进行p扩散区氧化层光刻、刻蚀;
13、s4进行正面离子注入和硼主扩散;
14、s5进行有源区氧化层光刻、刻蚀;
15、s6进行p型合金金属蒸发;
16、s7进行p型合金区金属光刻、刻蚀;
17、s8进行退火形成p型合金结并腐蚀未反应的金属;
18、s9进行正面电极金属蒸发;
19、s10进行正面电极金属光刻、刻蚀;
20、s11进行背面减薄;
21、s12进行背面金属化。
22、所述步骤s1中n+衬底为<111>晶向n型材料,电阻率为0.002-0.004ω·cm,厚度为450±10μm。
23、所述步骤s2中氧化层的生长温度为1150℃,生长时间为100min,氧化层采用干氧+湿氧+干氧工艺。
24、所述步骤3中p离子的注入剂量为5e15 cm-2,能量为100kev。
25、本发明的有益效果在于:通过将齐纳二极管工作在反向偏置,p型合金区和n型衬底区掺杂浓度比较高,当器件反向偏压逐渐增大时,器件发生了隧道击穿效应,器件边缘的p型扩散区掺杂浓度比较低并且结深较深,可以降低器件边缘电场集中效应,器件击穿点一般位于p型合金结与n型衬底交界位置,可以有效降低器件反向漏电流。
1.一种平面合金二极管结构,其特征在于:包括n型衬底区(1);位于所述n型衬底区(2)边缘周围的p型扩散结(2);位所述n型衬底区(1)的有源区设有p型合金结(4);所述n型衬底区(1)的表面边缘设有钝化层(3);所述p型合金结(4)的表面设有阳极金属层(5);所述n型衬底层(7)背面设有阴极金属层(6)。
2.如权利要求1所述的平面合金二极管结构,其特征在于:所述阳极金属层(5)的边缘覆盖在钝化层(3)的内端表面。
3.如权利要求1所述的平面合金二极管结构,其特征在于:所述p型合金结(4)的边缘与p型扩散结(2)的有一定距离。
4.如权利要求1所述的平面合金二极管结构,其特征在于:所述n型衬底区(1)的电阻率为0.002-0.004ω·cm。
5.如权利要求1所述的平面合金二极管结构,其特征在于:所述p型扩散结(2)结深为3-4μm,表面方块电阻为15-20ω/□。
6.如权利要求1所述的平面合金二极管结构,其特征在于:所述p合金结层厚为1-2um。
7.一种平面合金二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
8.如权利要求7所述的平面合金二极管结构及其制备方法,其特征在于:所述步骤s1中n+衬底为<111>晶向n型材料,电阻率为0.002-0.004ω·cm,厚度为450±10μm。
9.如权利要求7所述的平面合金二极管结构及其制备方法,其特征在于:所述步骤s2中氧化层的生长温度为1150℃,生长时间为100min,氧化层采用干氧+湿氧+干氧工艺。
10.如权利要求7所述的平面合金二极管结构及其制备方法,其特征在于:所述步骤3中p离子的注入剂量为5e15 cm-2,能量为100kev。