一种刻蚀机台的制作方法

本技术涉及刻蚀，具体为一种刻蚀机台。

背景技术：

1、刻蚀，它是半导体制造工艺，微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形，随着微制造工艺的发展，广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法，随着社会发展，刻蚀所涉及的方面越来越精细化，市面上也出现了各种不同的刻蚀设备。

2、例如中国专利(公告号：cn 210805715 u)公开了一种湿法蚀刻机台，包括载入端结构；所述载入端结构包括第一感应门、载入端、第一传导机构和传感器，所述湿法蚀刻机台的一侧设置有所述第一感应门，所述载入端位于所述湿法蚀刻机台内，所述第一传导机构的一端与所述第一感应门连接，所述第一传导机构的另一端与所述载入端连接，能够避免挥发性化学液体扩散到机台外，同时缩短操作人员的操作时间。

3、上述技术方案中还存在如下缺陷，虽然湿法蚀刻机台能够避免挥发性化学液体扩散到机台外，同时缩短操作人员的操作时间，但由于在进行溶剂喷洒时易造成喷洒不均匀，导致原料达标率降低，基于此，提出一种刻蚀机台以解决上述问题。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种刻蚀机台，具备喷洒均匀，保护工作人员身体和环境等优点，解决了溶剂喷洒时不均匀，导致原料达标率降低的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种刻蚀机台，包括工作箱，所述工作箱的内壁的底部固定有水箱，所述工作箱内侧壁的左右两端均固定有滑轨，所述滑轨的内壁滑动连接有第一滑块，两个所述第一滑块相对的一侧之间固定有过滤网，所述工作箱的内侧壁固定有导料罩，所述导料罩的底部固定有止水阀，所述工作箱上设有调节机构，所述调节机构上设有溶液管，所述溶液管的底部固定有多个溶液喷头，所述调节机构上设有水管，所述水管的底部固定有多个水喷头，所述水箱的右侧固定有出水管；

3、所述调节机构包括固定于工作箱内后壁顶部的双轴电机，所述双轴电机的输出轴固定有两个主动锥形齿轮，所述调节机构还包括转动连接于工作箱内壁左右两端前后两侧之间的两个螺杆，所述螺杆外表面的背面固定有从动锥形齿轮，所述从动锥形齿轮与主动锥形齿轮相啮合，所述螺杆的外表面螺纹连接有第二滑块，两个所述第二滑块相对的一面之间固定有横杆。

4、进一步，所述工作箱正面的上部铰接有箱门，所述出水管的右端贯穿工作箱并延伸至其外部。

5、进一步，所述导料罩的截面为圆锥形，所述导料罩位于过滤网下方。

6、进一步，所述水箱的底部呈左高右低，两个所述滑轨相对的一面均开设有的t形槽。

7、进一步，两个所述螺杆的螺纹相反，所述水管与溶液管均位于过滤网的上方。

8、进一步，所述横杆的下表面分别与溶液管和水管的上表面相固定，所述溶液喷头与水喷头均呈均匀等距分布。

9、与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：

10、该刻蚀机台，通过调节机构带动溶液管移动能够将化学溶剂进行均匀的喷洒，使得产品均匀度稳定在标准之内，节约了成本，同时调节机构带动水管移动喷洒，还能够对工作箱中的原料表面进行冲洗，防止拿出时对工作人员造成一定的危害。

技术特征：

1.一种刻蚀机台，包括工作箱(1)，其特征在于：所述工作箱(1)的内壁的底部固定有水箱(2)，所述工作箱(1)内侧壁的左右两端均固定有滑轨(3)，所述滑轨(3)的内壁滑动连接有第一滑块(4)，两个所述第一滑块(4)相对的一侧之间固定有过滤网(5)，所述工作箱(1)的内侧壁固定有导料罩(6)，所述导料罩(6)的底部固定有止水阀(7)，所述工作箱(1)上设有调节机构(8)，所述调节机构(8)上设有溶液管(9)，所述溶液管(9)的底部固定有多个溶液喷头(10)，所述调节机构(8)上设有水管(11)，所述水管(11)的底部固定有多个水喷头(12)，所述水箱(2)的右侧固定有出水管(13)；

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机台，其特征在于：所述工作箱(1)正面的上部铰接有箱门，所述出水管(13)的右端贯穿工作箱(1)并延伸至其外部。

3.根据权利要求1所述的一种刻蚀机台，其特征在于：所述导料罩(6)的截面为圆锥形，所述导料罩(6)位于过滤网(5)下方。

4.根据权利要求1所述的一种刻蚀机台，其特征在于：所述水箱(2)的底部呈左高右低，两个所述滑轨(3)相对的一面均开设有的t形槽。

5.根据权利要求1所述的一种刻蚀机台，其特征在于：两个所述螺杆(803)的螺纹相反，所述水管(11)与溶液管(9)均位于过滤网(5)的上方。

6.根据权利要求1所述的一种刻蚀机台，其特征在于：所述横杆(806)的下表面分别与溶液管(9)和水管(11)的上表面相固定，所述溶液喷头(10)与水喷头(12)均呈均匀等距分布。

技术总结
本技术涉及一种刻蚀机台，包括工作箱，所述工作箱的内壁的底部固定有水箱，所述工作箱内侧壁的左右两端均固定有滑轨，所述滑轨的内壁滑动连接有第一滑块，两个所述第一滑块相对的一侧之间固定有过滤网，所述工作箱的内侧壁固定有导料罩，所述导料罩的底部固定有止水阀，所述工作箱上设有调节机构，所述调节机构上设有溶液管，所述溶液管的底部固定有多个溶液喷头。该刻蚀机台通过调节机构带动溶液管移动能够将化学溶剂进行均匀的喷洒，使得产品均匀度稳定在标准之内，节约了成本，同时调节机构带动水管移动喷洒，还能够对工作箱中的原料表面进行冲洗，防止拿出时对工作人员造成一定的危害。

技术研发人员：徐文涛,李永飞,闫东永,张运浩
受保护的技术使用者：苏州迈克希自动化科技有限公司
技术研发日：20230717
技术公布日：2024/1/22