一种石英舟支撑装置及扩散炉的制作方法

本技术属于光伏电池制造领域，具体涉及一种石英舟支撑装置及扩散炉。

背景技术：

1、随着光伏产业迅速发展，行业领域内对与单机生产效率的要求也越来越高。将原本的高温扩散/硼扩散/氧化炉的插片方式由竖直改为水平，单管放片量可由1200片增加至2400片，大大提高了单机的小时产出。然而，在实际生产过程中，发明人发现，采用水平插片方式进行扩散处理时，硅片承载于石英舟中，支撑石英舟的碳化硅桨会对部分硅片产生遮挡，导致部分硅片与扩散气氛接触不充分，引起片内方阻均匀性不佳。因此，提供一种能够防止扩散不均的石英舟支撑装置，对于提高硅片生产效率与质量具有很高的实用价值。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种石英舟支撑装置，能够改善硅片的扩散均匀性。本实用新型还提供一种扩散炉。

2、根据本实用新型一个方面的实施例，提供一种石英舟支撑装置，石英舟承载于两条所述支撑轨之间，该装置包括平行设置的两条支撑轨，所述支撑轨配置为中空结构，所述中空结构配置为气体流道，所述气体流道能够与扩散气源相接通；所述支撑轨表面设置有贯通至所述气体流道的出气孔。通过在支撑轨上设置出气孔，能够改善石英舟中硅片周围的气体流动，使原本被支撑装置遮挡的区域中的硅片与气体充分接触完成扩散，从而改善硅片扩散均匀性。

3、进一步地，在部分实施例中，所述出气孔形成有喷射方向，所述出气孔的所述喷射方向朝向两条所述支撑轨之间。喷射方向朝向支撑轨之间能够使气体喷射至硅片表面，改善扩散均匀性。

4、进一步地，在部分实施例中，所述出气孔等距设置。等距离设置的出气孔有助于气体均匀扩散。

5、进一步地，在部分实施例中，所述出气孔间距小于石英舟所承载的硅片的边长。应确保横向排布的所有硅片都能够受到气体喷射，以确保扩散的均匀性。

6、进一步地，在部分实施例中，所述支撑轨端部设置有转接段，所述转接段用于连接扩散气源。转接段用于提高接口密封性，确保气体流道中的压力与流速。

7、进一步地，在部分实施例中，所述支撑轨采用碳化硅或复合陶瓷材料制造。支撑轨的材料应具有较高的强度，以确保石英舟支撑装置的承载力，同时应能够耐受1000℃以上的高温并不与扩散气氛发生反应。

8、根据本实用新型另一个方面的实施例，提供一种扩散炉，该扩散炉包括进气管，所述扩散炉内能够安装前述任一实施例中的所述的石英舟支撑装置，所述进气管配置为所述扩散气源，所述进气管末端设置有接口以容许与所述气体流道相接通。

9、进一步地，所述扩散炉配置有两个进气管，两个所述进气管分别与所述石英舟支撑装置的两条所述支撑轨的所述气体流道相接通。

10、进一步地，所述进气管端部的所述接口设置有快接口，以容许所述石英舟支撑装置装入所述扩散炉时所述支撑轨的气体流道与进气管直接接通。快接口容许石英舟支撑装置快速装入，提高生产效率。

11、进一步地，扩散炉还包括排气管，所述排气管与所述进气管设置在所述扩散炉的同一端。

技术特征：

1.一种石英舟支撑装置，包括平行设置的两条支撑轨，石英舟承载于所述两条支撑轨之间，其特征在于，所述支撑轨配置为中空结构，所述中空结构配置为气体流道，所述气体流道能够与扩散气源相接通；所述支撑轨表面设置有贯通至所述气体流道的出气孔。

2.根据权利要求1所述的石英舟支撑装置，其特征在于，所述出气孔形成有喷射方向，所述出气孔的所述喷射方向朝向两条所述支撑轨之间。

3.根据权利要求1或2所述的石英舟支撑装置，其特征在于，所述出气孔等距设置。

4.根据权利要求1或2所述的石英舟支撑装置，其特征在于，所述出气孔间距小于石英舟所承载的硅片的边长。

5.根据权利要求1或2所述的石英舟支撑装置，其特征在于，所述支撑轨端部设置有转接段，所述转接段用于连接扩散气源。

6.根据权利要求1或2所述的石英舟支撑装置，其特征在于，所述支撑轨采用碳化硅或复合陶瓷材料制造。

7.一种扩散炉，包括进气管，其特征在于，所述扩散炉内能够安装如权利要求1至6中任一所述的石英舟支撑装置，所述进气管配置为所述扩散气源，所述进气管末端设置有接口以容许与所述气体流道相接通。

8.根据权利要求7所述的扩散炉，其特征在于，所述扩散炉配置有两个进气管，两个所述进气管分别与所述石英舟支撑装置的两条所述支撑轨的所述气体流道相接通。

9.根据权利要求7或8所述的扩散炉，其特征在于，所述进气管端部的所述接口设置为快接口，以容许所述石英舟支撑装置装入所述扩散炉时所述支撑轨的气体流道与进气管直接接通。

10.根据权利要求7或8所述的扩散炉，其特征在于，还包括排气管，所述排气管与所述进气管设置在所述扩散炉的同一端。

技术总结
一种石英舟支撑装置，包括平行设置的两条支撑轨，石英舟承载于两条支撑轨之间，支撑轨配置为中空结构，中空结构作为支撑轨内的气体流道，与扩散气源相接通；支撑轨表面设置有贯通至气体流道的出气孔。该石英舟支撑装置通过在表面设置出气孔，能够向受到遮挡的区域吹气以达到改善扩散气体分布均匀性的效果，从而提高硅片的扩散均匀性。本技术还提供一种扩散炉。

技术研发人员：张玉,胡俊龙,丁志强,宁成森,刘岳章
受保护的技术使用者：天合光能股份有限公司
技术研发日：20230803
技术公布日：2024/4/17