一种具有刻度线的电容膜的制作方法

文档序号:37773295发布日期:2024-04-25 10:59阅读:4来源:国知局
一种具有刻度线的电容膜的制作方法

本技术涉及电容膜,具体为一种具有刻度线的电容膜。


背景技术:

1、电容膜是一种薄膜材料,主要用作电容器的一层,能够储存电荷并在电路中起到绝缘作用。它的作用是通过提高电容器两极板之间的绝缘性能,提高电容器的电容量和耐电压性能,电容膜在电容器中扮演着至关重要的角色,不仅能够提高电容器的电容量和耐压性能,还能够保证电容器在各种工作环境下的稳定性和安全性。

2、现有的电容膜在设计和制造过程中,往往存在一些缺陷和不足,由于没有刻度线的设计,从而不便于将电容膜对齐固定在特定区域,往往会导致使用时的定位不准确,影响电容膜的精度和使用效果,同时由于现有的电容膜缺乏有效的散热结构设计,无法有效地将产生的热量散去,从而影响了电容膜的使用效果和寿命。因此,我们提出了一种具有刻度线的电容膜。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种具有刻度线的电容膜,以解决上述背景技术中提出由于没有刻度线的设计,从而不便于将电容膜对齐固定在特定区域,往往会导致使用时的定位不准确,影响电容膜的精度和使用效果,同时由于现有的电容膜缺乏有效的散热结构设计,无法有效地将产生的热量散去,从而影响了电容膜使用效果和寿命的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层,所述电容膜层由上至下依次设置有导热硅脂片、纳米碳散热膜和黏贴层,所述电容膜层的上端设置有加强层,所述加强层的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层,所述离型膜层的表面印刷有刻度线,所述加强层由底部至顶部依次设置有硅氧烷涂料层、聚酰亚胺层和氧化硅层。

3、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

4、该具有刻度线的电容膜,通过离型膜层和刻度线的设计,离型膜层上的刻度线可以增加该电容膜的可视性,刻度线可以提供一个明显的参考标志,通过观察刻度线可以更快的对电容膜进行定位,可以更精准的确定电容膜的位置,便于将电容膜对其粘贴在固定区域,减小误差,提高最终产品的质量,将电容膜固定后,方便将离型膜层撕掉,提高了电容膜的实用性,硅氧烷涂料层、聚酰亚胺层和氧化硅层的设计,可以增加该电容膜的使用温度范围,提高其耐热性能,增强电容膜的机械强度,增加其耐磨性、耐刺穿性,从而提高电容膜的使用寿命,同时可以保护电容膜不受化学物质的侵蚀,如酸、碱、溶剂,从而提高电容膜的耐腐蚀性能,导热硅脂片和纳米碳散热膜的设计,导热硅脂片可以有效地将电容膜层产生的热量传导到纳米碳散热膜上,而纳米碳散热膜具有高导热性和良好的散热性能,可以快速将热量散发到环境中,可以避免电容膜过热,从而提高其电气性能的稳定性和可靠性。



技术特征:

1.一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层(1),其特征在于:所述电容膜层(1)由上至下依次设置有导热硅脂片(2)、纳米碳散热膜(3)和黏贴层(4),所述电容膜层(1)的上端设置有加强层(5),所述加强层(5)的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层(6),所述离型膜层(6)的表面印刷有刻度线(7),所述加强层(5)由底部至顶部依次设置有硅氧烷涂料层(8)、聚酰亚胺层(9)和氧化硅层(10)。

2.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述导热硅脂片(2)通过粘合剂与电容膜层(1)的底部固定粘接,所述导热硅脂片(2)等距均匀分布于电容膜层(1)的底部。

3.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述导热硅脂片(2)的底部通过粘合剂与纳米碳散热膜(3)的上端面固定粘接,所述导热硅脂片(2)的下端涂刷有黏贴层(4)。

4.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述刻度线(7)位于离型膜层(6)上端面的四边处。

5.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述硅氧烷涂料层(8)涂刷于电容膜层(1)的上端。

6.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述聚酰亚胺层(9)涂刷于硅氧烷涂料层(8)的上端。

7.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述氧化硅层(10)涂刷于聚酰亚胺层(9)的上端。


技术总结
本技术公开了一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层,所述电容膜层由上至下依次设置有导热硅脂片、纳米碳散热膜和黏贴层,所述电容膜层的上端设置有加强层,所述加强层的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层,所述离型膜层的表面印刷有刻度线。该具有刻度线的电容膜,通过离型膜层和刻度线的设计,离型膜层上的刻度线可以增加该电容膜的可视性,刻度线可以提供一个明显的参考标志,通过观察刻度线可以更快的对电容膜进行定位,可以更精准的确定电容膜的位置,便于将电容膜对其粘贴在固定区域,减小误差,提高最终产品的质量,将电容膜固定后,方便将离型膜层撕掉,提高了电容膜的实用性。

技术研发人员:全永剑,胡波,黎传春,嵇建德
受保护的技术使用者:江苏双凯电子有限公司
技术研发日:20230915
技术公布日:2024/4/24
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