预涂炭复合集流体、电池的制作方法

本技术涉及集流体，尤其涉及一种预涂炭复合集流体、电池。

背景技术：

1、复合集流体是在高分子薄膜表面沉积一层金属层制备出的一种多层复合材料，与传统集流体相比，复合集流体具有如下优势：①金属原料用量更少，促进电池成本的降低；②独特的多层结构，促进电池安全性能的提升；③质量更轻，促进电池能量密度的提升。

2、复合集流体表层一般为金属层，其在加工收放卷过程中，金属层的光洁度相对较高，容易使得(局部的)金属层产生粘连现象，后续放卷时，可能会对膜面产生损伤。针对上述问题，现有技术中，中国专利公开号cn116741435a，公开了一种防粘结的导电薄膜，所述导电薄膜包括薄膜基材、分别设置在所述薄膜基材的上表面和下表面的导电层，以及设置在任意一个所述导电层表面的防粘层。并进一步限定了，该防粘层为记忆合金材料。

3、基于合金材料的防粘层，其加工过程中，由于多出了合金的真空镀膜过程，会带来成本的增加，且形成合金层的方式，一般为气相沉积的方式，也可能会使得防粘镀层具有相对较高的光洁度，收卷过程中与金属镀层接触挤压后，排空薄膜间的空气，也可能产生粘连情况。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种预涂炭复合集流体，基于在集流体的两表面形成具有较大粗糙度差值的涂层防粘，来改善薄膜加工过程中薄膜粘连情况。

2、本实用新型的技术方案如下：

3、一种预涂炭复合集流体，包括集流体，集流体在其厚度方向设置有第一表面和第二表面，集流体对应第一表面和/或第二表面形成有涂层，以使集流体的第一表面和第二表面具有一定表面粗糙度差值，形成空气填充空隙。

4、使得薄膜收放卷贴合后，上下薄膜层间仍然存在一定间隙，间隙内也会容纳空气，进而避免真空度过高造成吸附粘连。

5、进一步的，第一表面和第二表面的粗糙度差值在一倍以上。

6、进一步的，涂层设置为涂炭层。

7、进一步的，涂层厚度可以设置为0-5μm。

8、进一步的，在涂层内填充较涂层填料颗粒粒径更大的导电填料，以在涂层表面形成凸起，增加粗糙度差值。

9、进一步的，涂层填料颗粒粒径为50-500nm，大粒径的导电填料的粒径为5-50μm。

10、进一步的，集流体为金属箔材或复合集流体。

11、进一步的，集流体的总厚度为3-15μm。

12、进一步的，在第一表面和/或第二表面形成的涂层表面设置槽孔。

13、进一步的，涂层沿集流体的第一表面和/或第二表面间隔涂布，以形成空隙部。

14、空隙部的设置给薄膜整体预留了空气填充的空间，进而更易剥离。

15、一种电池，包含有上述预涂炭复合集流体。

16、本实用新型中的有益效果：基于在集流体表面形成粗糙度差值的涂层，可以改善薄膜粘连的情况，且涂层设置为涂炭层，和传统锂电池结构基本一致，因此后续加工方式及所需加工设备和传统锂电相同，不会额外增加成本。

技术特征：

1.一种预涂炭复合集流体，包括集流体，集流体在其厚度方向设置有第一表面和第二表面，其特征在于：集流体对应第一表面和/或第二表面形成有涂层，以使集流体的第一表面和第二表面具有一定表面粗糙度差值，形成空气填充空隙。

2.根据权利要求1所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：第一表面和第二表面的粗糙度差值在一倍以上。

3.根据权利要求1所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：涂层设置为涂炭层。

4.根据权利要求3所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：涂层厚度设置为0-5μm。

5.根据权利要求2所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：在涂层内填充较涂层填料颗粒粒径更大的导电填料，以在涂层表面形成凸起，增加粗糙度差值。

6.根据权利要求5所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：涂层填料颗粒粒径为50-500nm，大粒径的导电填料的粒径为5-50μm。

7.根据权利要求6所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：集流体为金属箔材或复合集流体；集流体的总厚度为3-15μm。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：在第一表面和/或第二表面形成的涂层表面设置槽孔。

9.根据权利要求8所述的预涂炭复合集流体，其特征在于：涂层沿集流体的第一表面和/或第二表面间隔涂布，以形成空隙部。

10.一种电池，其特征在于：包含如权利要求9所述的预涂炭复合集流体。

技术总结
本技术公开了一种预涂炭复合集流体、电池，包括集流体，集流体在其厚度方向设置有第一表面和第二表面，集流体对应第一表面和/或第二表面形成有涂层，以使集流体的第一表面和第二表面具有一定表面粗糙度差值，形成空气填充空隙。本技术基于在集流体表面形成粗糙度差值的涂层，可以改善薄膜粘连的情况，且涂层设置为涂炭层，和传统锂电池结构基本一致，因此后续加工方式及所需加工设备和传统锂电相同，不会额外增加成本。

技术研发人员：殷国峰,伽龙,刘志康,吴明忠
受保护的技术使用者：浙江柔震科技有限公司
技术研发日：20230927
技术公布日：2024/4/29