一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室的制作方法

文档序号:40226578发布日期:2024-12-06 16:46阅读:28来源:国知局
技术简介:
本技术针对传统真空灭弧室屏蔽罩结构单一、防护效果不足的问题,提出一种镶嵌式真空灭弧室设计。通过外壳凹槽与凸块卡合固定屏蔽罩体,配合内屏蔽层和耐高温层,增强对触头燃弧产生的金属蒸汽的隔离效果,同时提升结构稳定性与耐高温性能,有效防止外壳污染和绝缘强度下降。
关键词:镶嵌式屏蔽罩,真空灭弧室

本技术涉及真空灭弧室领域,具体涉及一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室。


背景技术:

1、真空灭弧室,又名真空开关管,是中高压电力开关的核心部件,其主要作用是,通过管内真空优良的绝缘性使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流,避免事故和意外的发生,主要应用于电力的输配电控制系统,还应用于冶金、矿山、石油、化工、铁路、广播、通讯、工业高频加热等配电系统,而真空灭弧室需设有屏蔽罩,屏蔽罩一方面防止触头在燃弧过程中产生大量的金属蒸汽和液滴喷溅,污染绝缘外壳的内壁,避免造成真空灭弧室外壳的绝缘强度下降或产生闪络。

2、经检索,公开号为cn205303323u的一种实用新型便于安装的真空灭弧室,包括一个外壳,动导电杆中设置有一段波纹管,所述静触头和动触头的外部套有触头屏蔽罩,所述波纹管的外部套有波纹管屏蔽罩,所述外壳的外部套有硅胶绝缘套,外壳的外壁为裙边结构,外壳一侧外壁的中心处为平面。这种便于安装的真空灭弧室可以避免绝缘套位移,具有标示作用,方便压入式安装,弧后介质强度恢复速度快。

3、上述专利中在使用真空灭弧室时,内部只是简单的设置一层屏蔽罩对防止触头在燃弧过程中产生大量的金属蒸汽和液滴喷溅,但是简单的屏蔽罩效果并不佳,从而无法更好的保护外壳的内壁,从而会造成外壳的绝缘强度下降或产生闪络的现象发生。

4、因此,发明一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室来解决上述问题很有必要。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,包括外壳,所述外壳的上方活动连接有盖壳,所述盖壳的上方固定安装有支撑环,所述支撑环的内部活动设置有导电杆,所述导电杆的下端固定设置有定触头,所述定触头的外部设置有屏蔽筒,所述屏蔽筒的下方固定安装有承载座,所述屏蔽筒的上方固定安装有绝缘块,所述外壳的内部表面均开设有凹槽,所述凹槽的内部活动连接有凸块,所述凸块的内部固定安装有屏蔽罩体,所述屏蔽罩体的内部设置有内屏蔽层,所述定触头的下方活动连接有动触头,所述动触头的下端固定设置有波纹管。

3、优选的,所述外壳的上方表面开设有螺纹槽,所述盖壳的下方固定安装有螺纹柱,所述外壳与盖壳螺纹连接。

4、优选的,所述屏蔽筒与承载座和绝缘块为一体化结构设置,所述屏蔽筒的分别设置在定触头与动触头外部。

5、优选的,所述屏蔽罩体的内部设置有耐高温层,所述耐高温层材质为碳化硅。

6、优选的,所述屏蔽罩体的外部固定安装的凸块与外壳内部开设的凹槽构成卡合连接,所述凹槽为弧形结构设置。

7、优选的,所述内屏蔽层设置在屏蔽罩体内部,所述内屏蔽层的外径与屏蔽罩体内径尺寸相吻合。

8、在上述技术方案中,本实用新型提供的技术效果和优点:

9、1、通过定触头、屏蔽筒、承载座、凹槽、凸块、屏蔽罩体、内屏蔽层和动触头的设置,通过外壳内部开设的凹槽,能够将屏蔽罩体先镶嵌在外壳内部,从而加强屏蔽罩体支撑性,同时内屏蔽层的设置,加强整体的屏蔽罩体的屏蔽性,而在定触头和动触头外部设置着屏蔽筒,提高了两者之间的屏蔽性,防止触头在燃弧过程中产生大量的金属蒸汽和液滴喷溅,污染绝缘外壳的内壁;

10、2、通过外壳、螺纹槽、螺纹柱、盖壳、屏蔽罩体和耐高温层的设置,通过盖壳与螺纹柱的设置,能够与外壳的上端螺纹连接,便于对整体装置进行拆卸,而工作中屏蔽罩体内部温度会比较高,通过耐高温层的设置,加强屏蔽罩体内部耐高温能力,从而提高了使用寿命。



技术特征:

1.一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,包括外壳(1),其特征在于:所述外壳(1)的上方活动连接有盖壳(4),所述盖壳(4)的上方固定安装有支撑环(5),所述支撑环(5)的内部活动设置有导电杆(6),所述导电杆(6)的下端固定设置有定触头(7),所述定触头(7)的外部设置有屏蔽筒(8),所述屏蔽筒(8)的下方固定安装有承载座(9),所述屏蔽筒(8)的上方固定安装有绝缘块(10),所述外壳(1)的内部表面均开设有凹槽(11),所述凹槽(11)的内部活动连接有凸块(12),所述凸块(12)的内部固定安装有屏蔽罩体(13),所述屏蔽罩体(13)的内部设置有内屏蔽层(14),所述定触头(7)的下方活动连接有动触头(16),所述动触头(16)的下端固定设置有波纹管(17)。

2.根据权利要求1所述的一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,其特征在于:所述外壳(1)的上方表面开设有螺纹槽(2),所述盖壳(4)的下方固定安装有螺纹柱(3),所述外壳(1)与盖壳(4)螺纹连接。

3.根据权利要求1所述的一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,其特征在于:所述屏蔽筒(8)与承载座(9)和绝缘块(10)为一体化结构设置,所述屏蔽筒(8)的分别设置在定触头(7)与动触头(16)外部。

4.根据权利要求1所述的一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,其特征在于:所述屏蔽罩体(13)的内部设置有耐高温层(15),所述耐高温层(15)材质为碳化硅。

5.根据权利要求1所述的一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,其特征在于:所述屏蔽罩体(13)的外部固定安装的凸块(12)与外壳(1)内部开设的凹槽(11)构成卡合连接,所述凹槽(11)为弧形结构设置。

6.根据权利要求1所述的一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,其特征在于:所述内屏蔽层(14)设置在屏蔽罩体(13)内部,所述内屏蔽层(14)的外径与屏蔽罩体(13)内径尺寸相吻合。


技术总结
本技术涉及真空灭弧室领域,具体涉及一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,包括外壳,所述外壳的上方活动连接有盖壳,所述盖壳的上方固定安装有支撑环,所述支撑环的内部活动设置有导电杆,所述导电杆的下端固定设置有定触头。本技术一种设有屏蔽罩的镶嵌式真空灭弧室,通过定触头、屏蔽筒、承载座、凹槽、凸块、屏蔽罩体、内屏蔽层和动触头的设置,通过外壳内部开设的凹槽,能够将屏蔽罩体先镶嵌在外壳内部,从而加强屏蔽罩体支撑性,同时内屏蔽层的设置,加强整体的屏蔽罩体的屏蔽性,而在定触头和动触头外部设置着屏蔽筒,提高了两者之间的屏蔽性,防止触头在燃弧过程中产生大量的金属蒸汽和液滴喷溅,污染绝缘外壳的内壁。

技术研发人员:赵成华,童克克,朱瑜博,赵培信
受保护的技术使用者:安光电气科技有限公司
技术研发日:20231222
技术公布日:2024/12/5
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