一种清洗装置的制作方法

本发明涉及硅料清洗，具体而言，涉及一种清洗装置。

背景技术：

1、单晶边皮、方硅芯，圆硅芯，硅片、电池片生产装置具有化工、冶金、电子三个行业的特点，工艺系统要求无油、无水、无尘、无泄露，是一个工艺复杂、设备种类众多、对洁净度有很高要求的硅提纯系统。太阳能产业用的硅料大多是从还原炉内拆出的硅料经破碎而得,在拆炉及后续的破碎、包装及运输过程中，会引人一定的金属或非金属杂质,从而对硅料表面造成污染，若直接投料进行拉晶或铸锭则会影响最终产品的质量,因此在使用前必须对硅料进行清洗然而硅的化学性质较为稳定，在常温下的氧化速度较慢,一般条件下,硅对酸和碱都较稳定，硅料可以通过清洗液进行清洗，可以对硅料除油、除锈和钝化，清洗效率高,环境污染小。

2、目前，硅料可以通过市面上的槽式清洗机进行清洗，槽式清洗机内装入适量的清洗液，硅料放入槽式清洗机内的花篮中浸泡，一定时间后将花篮从槽式清洗机内取出，最后再将硅料从花篮中倒出，此种方式工作效率低下。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种清洗装置，其能够针对于现有技术的不足，提出解决方案，能够优化硅料表面清洗工艺，提高了硅料清洗效率和产品质量。

2、为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

3、一种清洗装置，包括：传输组件，传输组件用于输送待清洗物料；清洗组件，清洗组件用于清洗位于传输组件的待清洗物料。

4、进一步地，清洗组件具有容纳清洗液的容纳腔，传输组件可浸入清洗液的液面以下。

5、进一步地，传输组件设于容纳腔；沿物料的输送方向，传输组件的高度递减后递增。

6、进一步地，传输组件包括：支撑架、转动轴和输送轮；

7、多根可转动的转动轴沿支撑架的中心轴线方向间隔设置；

8、沿转动轴的轴向，多个输送轮间隔设于每根转动轴；位于相邻传动轴的多个输送轮错落设置。

9、进一步地，任一输送轮至与其相邻的转动轴之间的间隔不大于待输送硅料的宽度。

10、进一步地，位于相邻转动轴上并且处于相邻位置的输送轮之间的距离不大于待输送硅料的宽度。

11、进一步地，相邻转动轴之间的间隔相同，且多根转动轴平行设置。

12、进一步地，输送轮的外周加工有防滑齿；沿输送轮的周向，多个防滑齿均匀设置。

13、进一步地，沿物料的输送方向，多个传输组件依次设置；清洗组件同任一传输组件配合。

14、进一步地，相邻传输组件之间设有过渡组件，过渡组件包括：传动轴和过渡轮，传动轴可转动设于相邻传输组件之间，多个过渡轮间隔设于传动轴。

15、本发明至少具有如下优点或有益效果：

16、一种清洗装置，能够通过输送组件在对硅料进行输送的同时，利用清洗组件对正在输送中的硅料进行清洗，从而极大程度提高了硅料的清洗效率。

技术特征：

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述清洗组件具有容纳清洗液的容纳腔，所述传输组件可浸入所述清洗液的液面以下。

3.根据权利要求2所述的一种清洗装置，其特征在于，所述传输组件设于所述容纳腔；沿所述物料的输送方向，所述传输组件的高度递减后递增。

4.根据权利要求1所述的一种清洗装置，其特征在于，所述传输组件包括：支撑架、转动轴和输送轮；

5.根据权利要求4所述的一种清洗装置，其特征在于，任一所述输送轮至与其相邻的所述转动轴之间的间隔不大于待输送硅料的宽度。

6.根据权利要求5所述的一种清洗装置，其特征在于，位于相邻所述转动轴上并且处于相邻位置的所述输送轮之间的距离不大于待输送硅料的宽度。

7.根据权利要求4所述的一种清洗装置，其特征在于，相邻所述转动轴之间的间隔相同，且多根所述转动轴平行设置。

8.根据权利要求4所述的一种清洗装置，其特征在于，所述输送轮的外周加工有防滑齿；沿所述输送轮的周向，多个所述防滑齿均匀设置。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的一种清洗装置，其特征在于，沿所述物料的输送方向，多个所述传输组件依次设置；所述清洗组件同任一所述传输组件配合。

10.根据权利要求9所述的一种清洗装置，其特征在于，相邻所述传输组件之间设有过渡组件，所述过渡组件包括：传动轴和过渡轮，所述传动轴可转动设于相邻所述传输组件之间，多个所述过渡轮间隔设于所述传动轴。

技术总结
本发明提供一种清洗装置，本发明涉及硅料清洗技术领域。包括：传输组件，传输组件用于输送待清洗物料；清洗组件，清洗组件用于清洗位于传输组件的待清洗物料。能够利用传输组件高度的变化，使得传输组件与清洗组件相互配合，传输组件有一部分位于容纳腔中液面一下，从而在传输硅料的同时，能够带动硅料浸入液体中一定时间，并在在持续输送的过程中带动硅料从液体中出来，进而实现自动化清洗的效果，并且此种方式不需要安装额外清洗部件即可实施，极大程度的降低了设备成本；此外，由于在输送的过程中，硅料是逐个输送，不会叠加，因此，在清洗的时候也是逐个浸泡清洗，从而有效提高清洗效果，降低反洗率。

技术研发人员：倪武东,倪邦
受保护的技术使用者：江苏武丁智能科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/21