X射线发射装置及真空分析系统的制作方法

本公开涉及x射线，特别涉及一种x射线发射装置及真空分析系统。

背景技术：

1、x射线广泛应用于生产、科研的诸多方面。例如，x射线源是测试信号的激发源，它是x射线量测设备的核心部件。目前x射线源的技术中，普遍采用电子枪轰击靶材得到x射线，电子枪会产生、加速及会聚高能量密度电子束流，高能量密度电子束流轰击靶材时发出x射线。在其他条件一致的情况下，x射线焦斑越小，分辨率越高，而为了保证采集信号强度，提高检测效率，可增大电子枪功率，减小焦点尺寸的同时，使得焦点处能量集中。但是，如果电子束功率过高，靶面会被逐渐融化，使得x射线源稳定性变差，焦点尺寸渐渐变大，从而分辨率变差。同时随着工作时间逐步累积，靶面也会出现融化问题，使得x射线量测设备使用寿命较短，成本升高。

2、为了解决靶面融化带来的问题，降低因频繁更换维修设备造成的成本上升，需要改善阳极靶的散热情况，以提高耐电子束轰击能力，延长阳极靶使用寿命。传统的靶材直接与带水冷的铜基座连接，以达到靶材降温的目的，但是铜基座与靶材之间的导热效率低，降温效果差。

技术实现思路

1、本公开提供了一种x射线发射装置，其特征在于，包括：阳极；电子束发射装置，用于发射电子束轰击阳极，以产生x射线；散热装置，包括：石墨烯层，与阳极的至少一个表面热耦合。

2、本公开提供了一种真空分析系统，其特征在于，包括：真空腔；如本公开的一些实施例中中任意一项的x射线发射装置，至少部分设置在真空腔内，用于向真空腔内的样品发射x射线，以使样品受激发射电子；电子能量分析器，至少部分设置在真空腔内，用于接收样品发射的电子并测量电子的能量分布，以对样品进行分析。

1.一种x射线发射装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的x射线发射装置，其特征在于，所述阳极生长在所述石墨烯层上。

3.根据权利要求2所述的x射线发射装置，其特征在于，所述散热装置还包括：

4.根据权利要求3所述的x射线发射装置，其特征在于，所述散热装置还包括：

5.根据权利要求2所述的x射线发射装置，其特征在于，还包括：生长在所述阳极上的另一石墨烯层。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的x射线发射装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置包括：

8.根据权利要求7所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置还包括：

9.根据权利要求8所述的x射线发射装置，其特征在于，所述石墨缓冲层包括呈阵列分布的多个石墨片。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置还包括：

11.根据权利要求10所述的x射线发射装置，其特征在于，所述透镜组件包括：

12.根据权利要求11所述的x射线发射装置，其特征在于，

13.根据权利要求11所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置还包括：

14.根据权利要求7-9中任一项所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置还包括：

15.根据权利要求14所述的x射线发射装置，其特征在于，所述电子束发射装置还包括：

16.根据权利要求7-9中任一项所述的x射线发射装置，其特征在于，

17.一种真空分析系统，其特征在于，包括：