显示基板及其制备方法、显示装置与流程

本公开实施例涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术：

1、有机发光二极管(organic light emitting diode，oled)显示屏具有色域广、分辨率高、可单独控制每个像素等优点，在终端市场占比越来越高。相对于传统的蒸镀技术，采用喷墨打印制备有机发光二极管的技术具有材料利用率高、产品制造成本低的优势，已经得到广泛应用。

2、经本申请发明人研究发现，采用喷墨打印技术制备的显示基板存在着发光不均的问题。

技术实现思路

1、以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

2、本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，以解决采用喷墨打印技术制备的显示基板发光不均的问题。

3、第一方面，本公开实施例提供一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的发光结构层、设置在所述发光结构层远离所述基底一侧的光处理层；所述发光结构层包括多个发光区，所述发光区包括第一发光子区和第二发光子区，所述第一发光子区的亮度小于所述第二发光子区的亮度；所述光处理层包括第一光处理层，所述第一光处理层位于所述第一发光子区的出光侧，被配置为提升所述第一发光子区的出光效率。

4、一示例性实施例中，所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；所述第二光处理层提升出光效率的效果小于所述第一光处理层提升出光效率的效果。

5、一示例性实施例中，所述第一光处理层包括多个第一透镜结构，多个所述第一透镜结构在所述基底上的正投影与第一发光子区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

6、一示例性实施例中，所述第二光处理层包括多个第二透镜结构，多个所述第二透镜结构在所述基底上的正投影与所述第二发光子区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

7、一示例性实施例中，多个所述第一透镜结构在所述基底上的正投影面积与所述第一发光子区在所述基底上的正投影的面积之比为第一填充率；多个所述第二透镜结构在所述基底上的正投影面积与所述第二发光子区在所述基底上的正投影面积之比为第二填充率；所述第一填充率大于所述第二填充率。

8、一示例性实施例中，所述第一填充率大于或等于40％，所述第二填充率小于或等于30％。

9、一示例性实施例中，所述第一透镜结构的折射率大于所述第二透镜结构的折射率。

10、一示例性实施例中，在垂直于所述基底的平面内，所述第一透镜结构的截面形状为半圆形，所述第二透镜结构的截面形状不同于所述第一透镜结构的截面形状。

11、一示例性实施例中，所述第一光处理层和所述第二光处理层同层设置。

12、一示例性实施例中，所述第二透镜结构的粒径尺寸大于所述第一透镜结构的粒径尺寸。

13、一示例性实施例中，所述显示基板包括封装层，所述封装层位于所述发光结构层远离所述基底的一侧，所述光处理层位于所述封装层远离所述基底的一侧。

14、第二方面，本公开实施例提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

15、第三方面，本公开实施例提供了一种显示基板的制备方法，所述方法包括：在基底上形成发光结构层，所述发光结构层包括多个发光区，所述发光区包括第一发光子区和第二发光子区，第一发光子区的亮度小于第二发光子区的亮度；在所述发光结构层远离所述基底的一侧形成光处理层；所述光处理层包括第一光处理层，所述第一光处理层位于所述第一发光子区的出光侧，被配置为提升所述第一发光子区的出光效率。

16、一示例性实施例中，所述发光结构层包括有机发光层，采用喷墨打印的方式形成所述有机发光层，并记录所述有机发光层打印成膜的形貌；所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；所述在所述发光结构层远离所述基底的一侧形成光处理层，包括：根据所述有机发光层打印成膜的形貌确定所述第一发光子区和所述第二发光子区，在所述第一发光子区的出光侧形成第一光处理层，在所述第二发光子区的出光侧形成第二光处理层。

17、一示例性实施例中，所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；所述在所述发光结构层远离所述基底的一侧形成光处理层，包括：根据所述发光区的发光情况确定所述第一发光子区和所述第二发光子区，在所述第一发光子区的出光侧形成第一光处理层，在所述第二发光子区的出光侧形成第二光处理层。

18、本公开实施例提出的显示基板，通过在亮度较暗的第一发光子区的出光侧设置第一光处理层，利用第一光处理层提升第一发光子区的光取出效果和出光效率，进而提升原本较暗的第一发光子区的亮度，使第一发光子区和第二发光子区的亮度水平相当。解决了采用喷墨打印技术制备的显示基板发光不均的问题。

19、在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

技术特征：

1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的发光结构层、设置在所述发光结构层远离所述基底一侧的光处理层；

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一光处理层包括多个第一透镜结构，多个所述第一透镜结构在所述基底上的正投影与第一发光子区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第二光处理层包括多个第二透镜结构，多个所述第二透镜结构在所述基底上的正投影与所述第二发光子区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，多个所述第一透镜结构在所述基底上的正投影面积与所述第一发光子区在所述基底上的正投影的面积之比为第一填充率；多个所述第二透镜结构在所述基底上的正投影面积与所述第二发光子区在所述基底上的正投影面积之比为第二填充率；所述第一填充率大于所述第二填充率。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一填充率大于或等于40％，所述第二填充率小于或等于30％。

7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一透镜结构的折射率大于所述第二透镜结构的折射率。

8.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述基底的平面内，所述第一透镜结构的截面形状为半圆形，所述第二透镜结构的截面形状不同于所述第一透镜结构的截面形状。

9.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第二透镜结构的粒径尺寸大于所述第一透镜结构的粒径尺寸。

10.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一光处理层和所述第二光处理层同层设置。

11.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括封装层，所述封装层位于所述发光结构层远离所述基底的一侧，所述光处理层位于所述封装层远离所述基底的一侧。

12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至11中任意一项所述的显示基板。

13.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基底上形成发光结构层，所述发光结构层包括多个发光区，所述发光区包括第一发光子区和第二发光子区，第一发光子区的亮度小于第二发光子区的亮度；

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述发光结构层包括有机发光层，采用喷墨打印的方式形成所述有机发光层，并记录所述有机发光层打印成膜的形貌；所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；

15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述光处理层还包括第二光处理层，所述第二光处理层位于所述第二发光子区的出光侧，被配置为提升所述第二发光子区的出光效率；

技术总结
一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括：基底、设置在基底上的发光结构层、设置在发光结构层远离基底一侧的光处理层；发光结构层包括多个发光区，发光区包括第一发光子区和第二发光子区，第一发光子区的亮度小于第二发光子区的亮度；光处理层包括第一光处理层，第一光处理层位于第一发光子区的出光侧，被配置为提升第一发光子区的出光效率。

技术研发人员：崔颖,于东慧,许程,周丹丹
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/11