显示模块的制作方法

实施方式涉及包括设置在非发光区域中的膜形成抑制层的显示模块。

背景技术：

1、已经开发了在诸如电视、移动电话、平板计算机和游戏控制台的多媒体设备中使用的各种电子设备。电子设备可以包括各种光学功能层，以向用户提供高质量的彩色图像。

2、近来，正在进行对薄电子设备的研究，以开发各种类型的电子设备，诸如具有弯曲表面的电子设备、可卷曲电子设备或可折叠电子设备。例如，通过减少光学功能层的数量并通过配备具有各种功能的光学功能层来实现薄电子设备。

3、在显示模块中，发生由于外部自然光引起的反射现象，并且这种反射现象降低了显示模块的可见性。为了提高显示模块的可见性，正在对能够减少由外部自然光引起的反射现象的面板结构进行研究。

技术实现思路

1、实施方式提供显示模块，其能够通过包括设置在非发光区域中的膜形成抑制层来提高可见性。

2、在实施方式中，划分成发光区域和非发光区域的显示模块可以包括：基础层；显示元件层，设置在基础层上并且包括像素限定膜和发光元件，像素限定膜包括设置成与发光区域对应的开口，发光元件与像素限定膜相邻；封装衬底，设置在显示元件层上；以及光控制层，设置在封装衬底上并且包括着色剂，其中，显示元件层可以包括由开口暴露的第一电极、在第一电极上设置成对应于发光区域并且在非发光区域中设置在像素限定膜上的空穴传输层、在空穴传输层上设置成对应于发光区域的发光层、在发光层上设置成对应于发光区域并且在非发光区域中设置在空穴传输层上的电子传输层、在非发光区域中设置在电子传输层上的膜形成抑制层、在电子传输层上设置成与发光区域对应的电子注入层、设置在电子注入层上的第二电极、设置在第二电极上的覆盖层以及设置在覆盖层上的无机沉积层。

3、在实施方式中，电子注入层、第二电极和无机沉积层可以通过图案化工艺形成在开口中。

4、在实施方式中，在显示元件层的设置在非发光区域中的部分中，膜形成抑制层可以是显示元件层的最上层。

5、在实施方式中，膜形成抑制层可以是有机层。

6、在实施方式中，膜形成抑制层可以包括丙烯酸五氟苯酯、丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,2h,2h-十七氟癸酯(hdfdma)、甲基丙稀酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,5h-八氟戊酯、聚四氟乙烯(ptfe)、聚乙烯四氟乙烯(etfe)、氟化乙烯丙烯(fep)、全氟烷氧基(pfa)、1h,1h,2h,2h-全氟辛基三乙氧基硅烷、三氯(1h,1h,2h,2h-全氟辛基)硅烷、十六氟庚烷、全氟辛烷和全氟壬烷中的至少一种。

7、在实施方式中，覆盖层可以通过图案化工艺形成在开口中。

8、在实施方式中，空的空间可以在无机沉积层和封装衬底之间。

9、在实施方式中，膜形成抑制层可以包括第一子膜形成抑制层和设置在第一子膜形成抑制层上的第二子膜形成抑制层，膜形成抑制层还可以包括设置在第一子膜形成抑制层和第二子膜形成抑制层之间的膜形成覆盖层，并且覆盖层和膜形成覆盖层可以遍及发光区域和非发光区域中形成为单个层。

10、在实施方式中，显示元件层还可以包括填充层，该填充层在无机沉积层和封装衬底之间设置成对应于发光区域，并且在非发光区域中设置在膜形成抑制层和封装衬底之间。

11、在实施方式中，无机沉积层可以包括al、ag、mg、cr、ti、ni、au、ta、cu、ca、co、fe、mo、w、pt、yb、sio2、tio2、zro2、ta2o5、hfo2、al2o3、zno、y2o3、beo、mgo、pbo2、wo3、sinx、lif、caf2、mgf2和cds中的至少一种。

12、在实施方式中，光控制层可以不包括偏振层和滤色器层。

13、在实施方式中，划分成发光区域和非发光区域的显示模块可以包括：基础层；显示元件层，设置在基础层上并且包括像素限定膜，像素限定膜具有限定在其中以与发光区域对应的开口；封装衬底，设置在显示元件层上；以及光控制层，设置在封装衬底上并且包括颜料和染料中的至少一种，其中，显示元件层可以包括：第一部分，包括在基础层上依次堆叠以与发光区域对应的第一电极、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、第二电极、覆盖层和无机沉积层；以及第二部分，包括在非发光区域中依次堆叠在像素限定膜上的空穴传输层、电子传输层和膜形成抑制层。

14、在实施方式中，电子注入层、第二电极和无机沉积层可以通过图案化工艺形成在开口中。

15、在实施方式中，其中，膜形成抑制层可以是包括氟原子的有机层。

16、在实施方式中，膜形成抑制层可以包括丙烯酸五氟苯酯、丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,2h,2h-十七氟癸酯(hdfdma)、甲基丙稀酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,5h-八氟戊酯、聚四氟乙烯(ptfe)、聚乙烯四氟乙烯(etfe)、氟化乙烯丙烯(fep)、全氟烷氧基(pfa)、1h,1h,2h,2h-全氟辛基三乙氧基硅烷、三氯(1h,1h,2h,2h-全氟辛基)硅烷、十六氟庚烷、全氟辛烷和全氟壬烷中的至少一种。

17、在实施方式中，覆盖层可以通过图案化工艺形成在开口中。

18、在实施方式中，空的空间可以在无机沉积层和封装衬底之间。

19、在实施方式中，显示模块还可以包括设置在无机沉积层和封装衬底之间的填充层。

20、在实施方式中，膜形成抑制层可以包括第一子膜形成抑制层和设置在第一子膜形成抑制层上的第二子膜形成抑制层，第二部分还可以包括设置在第一子膜形成抑制层和第二子膜形成抑制层之间的膜形成覆盖层，并且覆盖层和膜形成覆盖层遍及发光区域和非发光区域形成为单个层。

21、在实施方式中，光控制层可以不包括偏振层和滤色器层。

技术特征：

1.一种显示模块，所述显示模块划分为发光区域和非发光区域，所述显示模块包括：

2.根据权利要求1所述的显示模块，其中，所述电子注入层、所述第二电极和所述无机沉积层通过图案化工艺形成在所述开口中。

3.根据权利要求1所述的显示模块，其中，在所述显示元件层的设置在所述非发光区域中的部分中，所述膜形成抑制层是所述显示元件层的最上层。

4.根据权利要求1所述的显示模块，其中，所述膜形成抑制层是有机层。

5.根据权利要求4所述的显示模块，其中，所述膜形成抑制层包括丙烯酸五氟苯酯、丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,2h,2h-十七氟癸酯、甲基丙稀酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸1h,1h,5h-八氟戊酯、聚四氟乙烯、聚乙烯四氟乙烯、氟化乙烯丙烯、全氟烷氧基、1h,1h,2h,2h-全氟辛基三乙氧基硅烷、三氯(1h,1h,2h,2h-全氟辛基)硅烷、十六氟庚烷、全氟辛烷和全氟壬烷中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的显示模块，其中，所述覆盖层通过图案化工艺形成在所述开口中。

7.根据权利要求1所述的显示模块，其中，在所述无机沉积层和所述封装衬底之间设置有空的空间。

8.根据权利要求1所述的显示模块，其中，

9.根据权利要求1所述的显示模块，其中，所述显示元件层还包括填充层，所述填充层在所述发光区域中设置在所述无机沉积层和所述封装衬底之间，并且在所述非发光区域中设置在所述膜形成抑制层和所述封装衬底之间。

10.根据权利要求1所述的显示模块，其中，所述无机沉积层包括al、ag、mg、cr、ti、ni、au、ta、cu、ca、co、fe、mo、w、pt、yb、sio2、tio2、zro2、ta2o5、hfo2、al2o3、zno、y2o3、beo、mgo、pbo2、wo3、sinx、lif、caf2、mgf2和cds中的至少一种。

技术总结
显示模块划分为发光区域和非发光区域。显示模块包括基础层、显示元件层、设置在显示元件层上的封装衬底以及包括着色剂的光控制层。显示元件层包括：像素限定膜，具有限定在其中以对应于发光区域的开口；发光元件，与像素限定膜相邻；第一电极，由开口暴露；空穴传输区域，在第一电极上设置成对应于发光区域且在非发光区域中设置在像素限定膜上；发光层，在空穴传输区域上设置成对应于发光区域；电子传输层，在发光层上设置成对应于发光区域并且在非发光区域中设置在空穴传输层上；以及膜形成抑制层，设置在非发光区域中。

技术研发人员：金泰昊,姜慧智,权五正,金寿桢,李美禾,李泓燃,张成圭,郑承娟
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15