集成电路装置的制作方法

文档序号:36895646发布日期:2024-02-02 21:27阅读:14来源:国知局
集成电路装置的制作方法

本发明构思涉及集成电路装置,并且更具体地,涉及包括导线和与其相邻的接触插塞的集成电路装置。


背景技术:

1、近来,随着集成电路装置的尺寸缩小进展迅速,多条导线之间的间隙已经减小,因此,多条导线与布置在多条导线之间的相对窄的空间中的接触结构之间的间隔距离也已经逐渐减小。因此,需要开发一种技术来实现能够保持布置在多条导线之间的相对窄的空间中的接触结构的电可靠性的结构。


技术实现思路

1、本发明构思的各方面可以提供即使当装置区的面积随着半导体装置的集成度增加而减小时也能够保持电可靠性的集成电路装置。

2、根据本发明构思的各方面,提供了一种集成电路装置,其包括:

3、衬底,其具有第一有源区和与第一有源区间隔开的第二有源区;器件隔离层,其在第一有源区和第二有源区之间;直接接触件,其在直接接触开口中电连接到第一有源区,直接接触开口延伸通过第一有源区和器件隔离层的一部分;多个单元图案,其具有柱形并且在第二有源区上从直接接触开口的下表面延伸;以及掩埋接触插塞,其延伸通过多个单元图案的一部分并且电连接到第二有源区,其中,多个单元图案包括:多个第一单元组,其沿着第一水平方向布置,并且多个第一单元组中的每一个包括多个第一单元图案,多个第一单元图案沿着与第一水平方向垂直的第二水平方向布置成行;以及多个第二单元组,其与多个第一单元组间隔开,并且沿着第一水平方向布置,并且多个第二单元组中的每一个包括沿着第二水平方向布置成行的多个第二单元图案,并且其中,多个第二单元图案的各自的侧表面具有沿着多个第一单元图案的与多个第二单元图案中的相应第二单元图案相邻的各自的侧表面向内凹陷的各自的凹部。

4、根据本发明构思的其它方面,提供了一种集成电路装置,其包括:衬底,其具有多个第一有源区和多个第二有源区;多个单元图案,其在第二有源区中的一个或多个第二有源区上限定直接接触开口,并且包括在第一水平方向和与第一水平方向垂直的第二水平方向上布置的多个第一单元图案,并且包括在第一水平方向和第二水平方向上布置并与第一单元图案间隔开的多个第二单元图案;直接接触件,其延伸通过直接接触开口中的间隙填充绝缘图案,并且电连接到第一有源区中的一个或多个第一有源区;位线,其在衬底上电连接到直接接触件;以及掩埋接触插塞,其延伸通过多个单元图案的一部分,并且电连接到第二有源区中的一个或多个第二有源区,其中,多个第二单元图案与和其相邻的多个第一单元图案间隔开至少第一分离距离,并且其中,多个第二单元图案中的每一个第二单元图案的平面面积小于多个第一单元图案中的每一个第一单元图案的平面面积。

5、根据本发明构思的其它方面,提供了一种集成电路装置,其包括:衬底,其具有第一有源区和与第一有源区间隔开的第二有源区;器件隔离层,其在第一有源区和第二有源区之间;直接接触件,其在延伸通过第一有源区和器件隔离层的一部分的直接接触开口中电连接到第一有源区;字线,其在衬底上在第一水平方向上延伸,并且与第一有源区和第二有源区相交;位线,其在衬底上在垂直于第一水平方向的第二水平方向上延伸并且电连接到直接接触件;电容器,其在位线上并且被配置为存储数据;多个单元图案,其具有柱形,在第二有源区上从直接接触开口的下表面延伸,并且限定直接接触开口;掩埋接触插塞,其延伸通过多个单元图案的一部分,并且电连接到第二有源区;以及导电着陆焊盘,其在掩埋接触插塞上在竖直方向上延伸,并且将掩埋接触插塞和电容器彼此电连接,其中,多个单元图案包括:多个第一单元组,其沿着第一水平方向布置,并且多个第一单元组中的每一个包括多个第一单元图案,多个第一单元图案沿着第二水平方向布置成行;以及多个第二单元组,其与多个第一单元组间隔开,并且沿着第一水平方向布置,并且多个第二单元组中的每一个包括多个第二单元图案,多个第二单元图案沿着第二水平方向布置成行,其中,多个第二单元图案中的每一个第二单元图案的平面面积小于多个第一单元图案中的每一个第一单元图案的平面面积,并且其中,多个第二单元图案与和其相邻的多个第一单元图案间隔开至少第一分离距离。



技术特征:

1.一种集成电路装置,包括:

2.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个第二单元图案的各自的侧表面的凹部与和其相邻的所述多个第一单元图案间隔开第一分离距离,并且所述多个第一单元图案和所述多个第二单元图案彼此间隔开至少所述第一分离距离。

3.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个第二单元图案的侧表面中的每一个具有两个凹部。

4.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案和所述多个第二单元图案在平面图中围绕彼此,并且所述多个第一单元图案中的围绕所述多个第二单元图案中的第二单元图案的至少两个第一单元图案与所述第二单元图案具有不同的距离。

5.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案在所述第一水平方向上和在所述第二水平方向上彼此等距地间隔开以形成第一单元矩阵,

6.根据权利要求5所述的集成电路装置,其中,在平面图中,所述多个第二单元图案中的四个第二单元图案围绕所述多个第一单元图案中的第一单元图案,并且关于所述第一单元图案不对称。

7.根据权利要求5所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案中的相邻的第一单元图案之间的距离等于所述多个第二单元图案中的相邻的第二单元图案之间的距离。

8.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个第二单元图案中的每一个第二单元图案的平面面积小于所述多个第一单元图案中的每一个第一单元图案的平面面积。

9.根据权利要求1所述的集成电路装置,其中,所述多个单元图案在平面图中围绕所述直接接触件,并且围绕所述直接接触件的所述多个单元图案中的至少两个单元图案与所述直接接触件具有不同的距离。

10.根据权利要求1所述的集成电路装置,还包括:

11.一种集成电路装置,包括:

12.根据权利要求11所述的集成电路装置,其中,四个相邻的第一单元图案在平面图中具有第一矩形布置结构并且围绕所述多个第二单元图案中的第二单元图案,所述第二单元图案从所述第一矩形布置结构的中心偏移,并且

13.根据权利要求12所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案中的相邻的第一单元图案之间的在所述第一水平方向上的距离等于所述多个第二单元图案中的相邻的第二单元图案之间的在所述第一水平方向上的距离,并且所述多个第一单元图案中的相邻的第一单元图案之间的在所述第二水平方向上的距离等于所述多个第二单元图案中的相邻的第二单元图案之间的在所述第二水平方向上的距离。

14.根据权利要求11所述的集成电路装置,其中,从平面图来看,所述多个第二单元图案的各自的侧表面包括与所述多个第一单元图案的对应的侧表面相邻的各自的凹陷部分。

15.根据权利要求14所述的集成电路装置,其中,所述直接接触件在所述平面图中被所述多个第一单元图案和所述多个第二单元图案围绕,并且围绕所述直接接触件的所述多个第一单元图案和所述多个第二单元图案相对于所述直接接触件不对称。

16.一种集成电路装置,包括:

17.根据权利要求16所述的集成电路装置,其中,所述多个第二单元图案各自与所述多个第一单元图案中的与其相邻的两个第一单元图案分别间隔开所述第一分离距离。

18.根据权利要求16所述的集成电路装置,其中,从平面图来看,所述多个第二单元图案的各自的侧表面具有沿着所述多个第一单元图案的与所述多个第二单元图案中的相应第二单元图案相邻的各自的侧表面向内凹陷的各自的凹部。

19.根据权利要求16所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案和所述多个第二单元图案在平面图中围绕彼此,并且所述多个第一单元图案中的围绕所述多个第二单元图案中的第二单元图案的至少两个第一单元图案与所述第二单元图案具有不同的距离。

20.根据权利要求16所述的集成电路装置,其中,所述多个第一单元图案彼此间隔开相同的第一距离,所述多个第二单元图案彼此间隔开相同的第二距离,并且所述第一距离等于所述第二距离。


技术总结
提供了一种集成电路装置,其包括:衬底,其具有第一有源区和与第一有源区间隔开的第二有源区;以及多个单元图案,其具有柱形,其中,多个单元图案包括在第一水平方向上延伸并且包括多个第一单元组的多个第一单元图案,以及与多个第一单元组间隔开、在第一水平方向上延伸、并且包括多个第二单元组的多个第二单元图案,并且其中,多个第二单元图案的各自的侧表面具有沿着多个第一单元图案的与多个第二单元图案中的相应第二单元图案相邻的各自的侧表面向内凹陷的各自的凹部。

技术研发人员:金恩娥,金恩靓
受保护的技术使用者:三星电子株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/2/1
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