显示面板及其制作方法、显示装置与流程

本公开涉及显示，具体而言，涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术：

1、oled(organic light emitting diode，有机电致发光二极管)显示面板已被广泛应用于各种显示装置中，不同颜色的子像素之间存在串扰问题。

2、为了尽量避免串扰问题出现，将相邻两个子像素之间的共通层隔断，但在隔断共通层时，容易导致公共电极与共通层接触形成漏电路径，增大发光器件的功耗。

3、需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开的目的在于避免公共电极与共通层接触形成漏电路径，减小发光器件的功耗，提供一种显示面板及其制作方法、显示装置。

2、根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，包括衬底基板、多个像素电极、像素定义层、发光层组和公共电极，多个像素电极间隔设于衬底基板的一侧；像素定义层设于衬底基板的一侧，像素定义层设有露出像素电极的像素开口，相邻两个像素电极之间设有隔断结构，隔断结构包括间隔设置的至少两个隔断槽，沿远离衬底基板的方向，隔断槽的宽度逐渐增大；发光层组设于像素定义层远离衬底基板的一侧，发光层组包括子发光层组，子发光层组与像素电极之间设有共通层，共通层在相邻两个隔断槽之间断开，子发光层组覆盖共通层及其间断处；公共电极设于子发光层组远离衬底基板的一侧。

3、在本公开的一个实施例中，共通层包括电荷产生层。

4、在本公开的一个实施例中，隔断结构包括间隔设置的两个隔断槽，两个隔断槽分别环绕设置于两个像素电极的外围，且靠近像素电极的边缘。

5、在本公开的一个实施例中，隔断槽在衬底基板上的正投影为连续不间断的封闭图形。

6、在本公开的一个实施例中，隔断槽的轮廓与像素电极的边缘相互平行。

7、在本公开的一个实施例中，相邻两个像素开口之间为像素定义部，像素定义部包括第一子部、第二子部和第三子部，第一子部上设有第一凹陷部，第二子部设于第一子部远离衬底基板的一侧，在第一凹陷部内形成第二凹陷部，第三子部设于第二子部远离衬底基板的一侧，在第二凹陷部内形成隔断槽。

8、在本公开的一个实施例中，第一子部的边缘与像素电极的边缘之间形成第一凹陷部。

9、在本公开的一个实施例中，第一部的材料和第三部的材料为sio2，第二部的材料为sin。

10、在本公开的一个实施例中，显示面板还包括平坦化层组，平坦化层组设于衬底基板与像素电极之间，隔断槽贯穿像素定义层，并穿过至少部分平坦化层组。

11、在本公开的一个实施例中，显示面板还包括保护层，隔断槽贯穿平坦化层组，并至少穿过部分保护层。

12、在本公开的一个实施例中，隔断槽的深度为500a-3000a。

13、根据本公开的另一个方面，提供一种显示面板的制作方法，该方法包括：

14、在衬底基板的一侧形成多个像素电极；

15、在多个像素电极远离衬底基板的一侧形成像素定义层，在相邻两个像素电极之间形成间隔设置的至少两个隔断槽，并在像素定义层上形成露出像素电极的像素开口，沿远离衬底基板的方向，隔断槽的宽度逐渐增大；

16、在像素定义层远离衬底基板的一侧形成共通层，共通层在隔断槽内断开，在共通层远离衬底基板的一侧形成子发光层组，子发光层组覆盖共通层及其间断处；

17、在子发光层组远离衬底基板的一侧形成公共电极。

18、在本公开的一个实施例中，在相邻两个像素电极之间形成间隔设置的至少两个隔断槽，并在像素定义层上形成露出像素电极的像素开口包括：

19、在多个像素电极远离衬底基板的一侧形成第一子层；

20、对第一子层图案化处理，在相邻两个像素电极形成间隔设置的至少两个第一凹陷部；

21、在第一子层远离衬底基板的一侧依次形成第二子层，第二子层在第一凹陷部内形成第二凹陷部，在第二子层远离衬底基板的一侧形成第三子层，第三子层在第二凹陷部内形成第三凹陷部；

22、对第三子层、第二子层和第一子层图案化处理，形成露出像素电极的像素开口，相邻像素开口之间形成像素定义部，像素定义部包括第一子部、第二子部和第三子部。

23、根据本公开的又一个方面，提供一种显示装置，包括根据本公开的一个方面任一项所提供的显示面板。

24、本公开的显示面板包括像素定义层，像素定义层设有露出像素电极的像素开口，相邻两个像素电极之间设有隔断结构，隔断结构包括间隔设置的至少两个隔断槽。像素定义层远离衬底基板的一侧发光层组，发光层组包括子发光层组，子发光层组与像素电极之间设有共通层，共通层在两个隔断槽之间断开，沿远离衬底基板的方向，隔断槽的宽度逐渐增大，子发光层组可以覆盖共通层及其间断处，使得隔断槽处的凹陷由深变浅，使得公共电极不容易穿刺子发光层组，与共通层接触形成漏电。

25、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述共通层包括电荷产生层。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构包括间隔设置的两个隔断槽，两个所述隔断槽分别环绕设置于两个所述像素电极的外围，且靠近所述像素电极的边缘。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断槽在所述衬底基板上的正投影为连续不间断的封闭图形。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断槽的轮廓与所述像素电极的边缘相互平行。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，相邻两个像素开口之间为像素定义部，所述像素定义部包括第一子部、第二子部和第三子部，所述第一子部上设有第一凹陷部，所述第二子部设于所述第一子部远离所述衬底基板的一侧，在所述第一凹陷部内形成第二凹陷部，所述第三子部设于所述第二子部远离所述衬底基板的一侧，在所述第二凹陷部内形成隔断槽。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一子部的边缘与所述像素电极的边缘之间形成所述第一凹陷部。

8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一子部的材料和所述第三子部的材料为sio2，所述第二子部的材料为sin。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括平坦化层组，所述平坦化层组设于所述衬底基板与像素电极之间，所述隔断槽贯穿所述像素定义层，并穿过至少部分所述平坦化层组。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括保护层，所述隔断槽贯穿所述平坦化层组，并至少穿过部分所述保护层。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断槽的深度为500a-3000a。

12.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

13.根据权利要求12所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板为权利要求6所述的显示面板，在相邻两个所述像素电极之间形成间隔设置的至少两个隔断槽，并在所述像素定义层上形成露出所述像素电极的像素开口包括：

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至11任一项所述的显示面板。

技术总结
本公开是关于一种显示面板，该显示面板包括像素定义层，像素定义层设有露出像素电极的像素开口，相邻两个像素电极之间设有隔断结构，隔断结构包括间隔设置的至少两个隔断槽。像素定义层远离衬底基板的一侧发光层组，发光层组包括子发光层组，子发光层组与像素电极之间设有共通层，共通层在两个隔断槽之间断开，沿远离衬底基板的方向，隔断槽的宽度逐渐增大，子发光层组可以覆盖共通层及其间断处，使得隔断槽处的凹陷由深变浅，使得公共电极不容易穿刺子发光层组，与共通层接触形成漏电。本公开还提供了一种该显示面板的制作方法，以及包括该显示面板的显示装置。

技术研发人员：严俊凯,苏冬冬,黄寅虎,冯兵明,李如泉,王继兴,邹建明,蜂伟雄,李晓南,杨雄,朱学良,欧阳毅骐,闻林刚,张福爽,张大成
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16