硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备与流程

本发明涉及显示，尤其涉及硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备。

背景技术：

1、硅基显示面板，例如有机发光显示面板(organic light-emitting diode，oled)，显示因其具有亮度大，色彩丰富、驱动电压低、响应速度快和功耗低等优异的特点，使其发展非常迅速。然而随着虚拟现实(virtual reality，vr)和增强现实(augmented reality，ar)市场需求扩大，对高分辨率、高亮度、高色域、微显示器件的需求越来越迫切。但随着器件分辨率的提升，传统平面阳极结构像素几何尺寸越来越小，客观上增加了相邻像素间光学串扰，同时由于开口率的降低导致亮度降低。更重要的是，器件发出的光能绝大部分由于发光器件的光波导模式(约为50％)被限制在有机层内，这部分光能一方面转化为热能，提升了器件的温升，同时降低了光提取效率，限制了器件的亮度。

2、为提升器件光提取效率，通常会采用制备光提取层，或者微透镜结构。

技术实现思路

1、本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备，以实现增加硅基显示面板的光提取效率，以及简化硅基显示面板的制作工艺。

2、第一方面，本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法，包括：

3、提供硅基背板；

4、在所述硅基背板上沉积绝缘介质膜；

5、刻蚀所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成曲面凹槽，并暴露出所述硅基背板中的连接过孔；

6、在所述绝缘介质膜远离所述硅基背板的一侧沉积阳极膜层；

7、通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极。

8、可选地，在通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极之后，还包括：

9、刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽。

10、可选地，在刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽之后，还包括：

11、在所述硅基背板形成有所述阳极的一侧依次形成有机发光层和阴极；

12、在所述阴极上依次形成封装层、平坦化层、色阻、微透镜和玻璃盖板。

13、可选地，刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽，包括：

14、采用曝光、显影、刻蚀的工艺，刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽。

15、可选地，所述绝缘介质膜为无机绝缘介质膜；和/或，所述连接过孔为钨孔。

16、第二方面，本发明实施例提供一种由第一方面所述制作方法所形成的硅基显示面板，包括：

17、硅基背板；

18、绝缘介质膜，位于所述硅基背板上，设置有多个曲面凹槽，在所述曲面凹槽内暴露出所述硅基背板中的连接过孔；

19、多个阳极，所述阳极的至少部分位于所述曲面凹槽内，与所述连接过孔电连接。

20、可选地，所述绝缘介质膜上还设置有隔断槽，所述隔断槽位于相邻所述曲面凹槽之间。

21、可选地，所述曲面凹槽包括底面和侧面，所述底面为平面，所述侧面为曲面。

22、可选地，还包括沿远离所述硅基背板方向依次设置的有机发光层、阴极、封装层、平坦化层、色阻、微透镜和玻璃盖板。

23、第三方面，本发明实施例提供一种扩展现实设备，包括第二方面所述的硅基显示面板。

24、本发明实施例提供的一种硅基显示面板的制作方法，刻蚀绝缘介质膜，在绝缘介质膜上形成曲面凹槽，并暴露出硅基背板中的连接过孔。在绝缘介质膜远离硅基背板的一侧沉积阳极膜层。通过化学机械抛光的方式，去除阳极膜层位于相邻曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极。相比于常规工艺中通过曝光、显影、刻蚀的方式图案化阳极膜层形成分离的多个阳极而言。化学机械抛光的方式不需要曝光，无需进行光学对准，既减少了工艺的步骤，又简化了制作的难度。且避免了曝光时的对准误差。从而简化硅基显示面板的制作工艺。

技术特征：

1.一种硅基显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极之后，还包括：

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽之后，还包括：

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，刻蚀相邻所述曲面凹槽之间暴露出的所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成隔断槽，包括：

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述绝缘介质膜为无机绝缘介质膜；和/或，所述连接过孔为钨孔。

6.一种由权利要求1所述制作方法所形成的硅基显示面板，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的硅基显示面板，其特征在于，所述绝缘介质膜上还设置有隔断槽，所述隔断槽位于相邻所述曲面凹槽之间。

8.根据权利要求6所述的硅基显示面板，其特征在于，所述曲面凹槽包括底面和侧面，所述底面为平面，所述侧面为曲面。

9.根据权利要求6所述的硅基显示面板，其特征在于，还包括沿远离所述硅基背板方向依次设置的有机发光层、阴极、封装层、平坦化层、色阻、微透镜和玻璃盖板。

10.一种扩展现实设备，其特征在于，包括权利要求6-9任一项所述的硅基显示面板。

技术总结
本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备，涉及显示技术领域。硅基显示面板的制作方法包括：提供硅基背板；在所述硅基背板上沉积绝缘介质膜；刻蚀所述绝缘介质膜，在所述绝缘介质膜上形成曲面凹槽，并暴露出所述硅基背板中的连接过孔；在所述绝缘介质膜远离所述硅基背板的一侧沉积阳极膜层；通过化学机械抛光的方式，去除所述阳极膜层位于相邻所述曲面凹槽之间的部分，形成多个阳极。本发明实施例提供一种硅基显示面板的制作方法、硅基显示面板及扩展现实设备，以实现增加硅基显示面板的光提取效率，以及简化硅基显示面板的制作工艺。

技术研发人员：孙合成,季渊
受保护的技术使用者：南京昀光科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/12