线圈盘以及烹饪器具的制作方法

本申请涉及家用电器，具体涉及一种线圈盘以及烹饪器具。

背景技术：

1、电磁炉是一种常见的用于烹饪及加热的家用电器。电磁炉在工作时，可以利用高频交流电通过线圈盘，以使其产生高频变化的磁场。高频变化的磁场可以在放置于电磁炉上的金属锅具底部产生涡流，以对金属锅具内的食物进行加热。

2、目前，电磁炉中的线圈盘根据线圈的绕制工艺不同可分为密绕线圈盘和疏绕线圈盘。疏绕线圈通常是指相邻两个金属线圈之间具有均匀的间隔。相关技术中，疏绕线圈通常采用双层绕线结构，即上层、下层均对应绕设金属线圈。

3、然而，相关技术中的双层疏绕线圈的方式容易导致加热不均匀，而影响电磁炉的实际使用效果，造成热量的损耗，并且锅具底部受热不均匀容易出现局部糊底的现象，从而一方面容易影响烹饪口感，另一方面也容易影响锅具的使用寿命。

技术实现思路

1、为了解决背景技术中提到的问题，本申请提供一种线圈盘以及烹饪器具，可以解决锅具底部受热不均的问题。

2、为了实现上述目的，本申请提供如下技术方案：

3、第一方面，本申请提供一种线圈盘，包括支架和线圈。支架具有内绕线区、外绕线区和中绕线区，所述内绕线区朝向所述支架的中心，所述外绕线区朝向所述支架的边缘，所述中绕线区位于所述内绕线区和所述外绕线区之间；

4、线圈包括内环线圈、外环线圈和单层的中环线圈，所述内环线圈位于所述内绕线区，所述外环线圈位于所述外绕线区，所述中环线圈位于所述中绕线区，所述中环线圈的线圈层数小于所述内环线圈和所述外环线圈的线圈层数。

5、本申请提供的线圈盘，通过将中绕线区的中环线圈的线圈层数设置的少于内环线圈和外环线圈的线圈层数的方式，可以在加热过程中减小中绕线区内的磁力线的密度，从而可以降低靠近中绕线区的温度与内绕线区或外绕线区的温度差，有利于提高锅底温度的均匀性，降低热量的损耗，提高用户体验感。

6、同时，线圈盘的加热均匀性提高，有利于提高锅具底部的受热均匀性，从而可以降低锅具糊底影响烹饪口感的可能性。同时，也有利于提高锅具的使用寿命。

7、在一种可能的实现方式中，所述内环线圈和所述外环线圈为双层线圈，所述中环线圈为单层线圈。

8、本申请实施例中，容易产生较高温度的中绕线区的线圈层数较少可以有利于降低中绕线区的磁力线密度，有利于降低中绕线区的最高温度，以较小中绕线区与内绕线区或外绕线区的温度差。

9、在一种可能的实现方式中，所述内环线圈、所述外环线圈和所述中环线圈的上表面齐平。

10、通过内环线圈、外环线圈和中环线圈的上表面齐平有利于提高线圈绕线的稳定性。此外，本申请实施例的内环线圈、外环线圈和中环线圈的上表面与锅具之间的距离相等，可以有利于提高锅具接受线圈盘产生的交变磁场的均匀性，从而有利于提高加热均匀性。

11、在一种可能的实现方式中，所述中环线圈的圈数为1圈至5圈。

12、通过设置单层的中环线圈的圈数为1圈至5圈，可以降低中环线圈的圈数值较大，导致中绕线区的温度低于内绕线区的温度或者低于外绕线区的温度，中绕线区的温度与内绕线区的温度或者与外绕线区的温度的差值依然较大，从而影响加热均匀性的可能性。同时，也可以降低中绕线区的温度较低导致加热功率降低、加热效率降低，从而影响用户体验感的可能性。

13、在一种可能的实现方式中，所述内环线圈的圈数均为1圈至6圈。

14、通过首先在内环线圈绕出至少1圈后再间隔中绕线区，然后再继续绕设外环线圈。因此，内环线圈先绕出至少1圈后可以具有较好的稳定性，以方便后续绕设外环线圈，有利于提高绕线工艺的稳定性。

15、在一种可能的实现方式中，所述中环线圈的内径大于或等于40毫米，所述圆环结构的外径小于或等于130毫米。

16、通过在内径大于或等于40毫米并且外径小于或等于130毫米的圆环结构的中绕线区上设置单层中环线圈，可以在内环线圈和外环线圈之间形成单层的隔离空间，以降低中绕线区的磁力线的切割效果，从而可以降低中绕线区与内绕线区和外绕线区的温度差，有利于提高加热均匀性。

17、在一种可能的实现方式中，所述中环线圈的内径大于或等于45毫米，所述圆环结构的外径小于或等于90毫米。

18、通过在内径大于或等于45毫米并且外径小于或等于90毫米的圆环结构的中绕线区上设置单层中环线圈，一方面可以有效解决中绕线区的温度高于内绕线区和外绕线区的温度导致的加热不均匀的问题，另一方面也可以降低中绕线区的温度低于内绕线区和外绕线区的温度导致的加热不均匀的问题。

19、在一种可能的实现方式中，所述内绕线区具有内绕线槽，所述外绕线区具有外绕线槽，所述中绕线区具有中绕线槽，所述内环线圈绕设在所述内绕线槽内，所述外环线圈绕设在所述外绕线槽内，所述中环线圈绕设在所述中绕线槽内。所述中绕线槽的部分区域的槽深小于所述内绕线槽的槽深或者所述外绕线槽的槽深。

20、通过内绕线槽可以约束位于其内部的内环线圈沿支架的径向发生运动。中绕线槽可以约束位于其内部的中环线圈沿支架的径向发生运动。外绕线槽可以约束位于其内部的外环线圈沿支架的径向发生运动。

21、通过中绕线槽的槽深较小的区域可以用于绕设单层的中环线圈，可以使中环线圈可以与内环线圈、外环线圈的上表面齐平。

22、在一种可能的实现方式中，所述中绕线槽的部分区域内设有支撑筋，以使所述中绕线槽的槽深小于所述内绕线槽的槽深或者所述外绕线槽的槽深。

23、本申请实施例的支撑筋可以用于支撑单层的中环线圈，以使中环线圈可以与上内线圈、上外线圈在同一平面内，有利于提高线圈的稳定性。

24、第二方面，本申请还提供一种烹饪器具，包括壳体和如上述实施例所述的线圈盘，所述线圈盘位于所述壳体内。

25、本申请的烹饪器具可以为锅具底部提供均匀的热量，以降低锅内食材发生糊锅现象甚至影响锅具使用寿命的可能性，可以有效提高用户体验感。

26、除了上面所描述的本申请实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外，本申请实施例提供的线圈盘以及烹饪器具所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将在具体实施方式中作进一步详细的说明。

技术特征：

1.一种线圈盘，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述内环线圈(121)和所述外环线圈(122)为双层线圈，所述中环线圈(123)为单层线圈。

3.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述内环线圈(121)、所述外环线圈(122)和所述中环线圈(123)的上表面齐平。

4.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述中环线圈(123)的圈数为1圈至5圈。

5.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述内环线圈(121)的圈数为1圈至6圈。

6.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述中环线圈(123)的内径大于或等于40毫米，所述中环线圈(123)的外径小于或等于130毫米。

7.根据权利要求5所述的线圈盘，其特征在于，所述中环线圈(123)的内径大于或等于45毫米，所述中环线圈(123)的外径小于或等于90毫米。

8.根据权利要求1至7任一项所述的线圈盘，其特征在于，所述内绕线区(x)具有内绕线槽(110a)，所述外绕线区(y)具有外绕线槽(110b)，所述中绕线区(z)具有中绕线槽(110c)，所述内环线圈(121)绕设在所述内绕线槽(110a)内，所述外环线圈(122)绕设在所述外绕线槽(110b)内，所述中环线圈(123)绕设在所述中绕线槽(110c)内，所述中绕线槽(110c)的部分区域的槽深小于所述内绕线槽(110a)的槽深或者所述外绕线槽(110b)的槽深。

9.根据权利要求8所述的线圈盘，其特征在于，所述中绕线槽(110c)的部分区域内设有支撑筋(112)，以使所述中绕线槽(110c)的槽深小于所述内绕线槽(110a)的槽深或者所述外绕线槽(110b)的槽深。

10.一种烹饪器具，其特征在于，包括：壳体和如权利要求1至9任一项所述的线圈盘，所述线圈盘位于所述壳体内。

技术总结
本申请提供一种线圈盘以及烹饪器具，涉及家电技术领域。线圈盘包括支架和线圈。支架具有内绕线区、外绕线区和中绕线区，内绕线区朝向支架的中心，外绕线区朝向支架的边缘，中绕线区位于内绕线区和外绕线区。线圈包括内环线圈、外环线圈和单层的中环线圈，内环线圈位于内绕线区，外环线圈位于外绕线区，中环线圈位于中绕线区。中环线圈的线圈层数小于内环线圈和外环线圈的线圈层数。本申请的线圈盘可以解决锅具底部受热不均的问题。

技术研发人员：袁勇,沈术平
受保护的技术使用者：浙江绍兴苏泊尔生活电器有限公司
技术研发日：20230608
技术公布日：2024/1/15