一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置

本技术涉及等离子体处理，更具体地说，本技术涉及一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置。

背景技术：

1、已知中国古代青铜器蕴含极高的研究价值，是中华民族极为珍贵的宝藏；由于大多数出土的青铜器存在不同程度的腐蚀，从而若保护不及时，则极易产生恶性膨胀的“青铜病”；其中，“氯化物”作为青铜病的主要根源，需要利用当前已研发的多种应对修复技术进行修复；常见的修复技术例如：机械法、过氧化氢氧化法、倍半碳酸钠转化法等；然而上述技术往往会对本就脆弱的青铜器造成不必要的损伤和腐蚀，迫切需要更为高效且无损伤的修复技术。

2、低温射频等离子体技术可在低压和低温下产生多种离子和自由基撞击青铜器表面的腐蚀层，发生系列反应，破坏或转化氯化物，实现对青铜器表面腐蚀层的高效原位修复；此外，简单的装置、低的耗气量以及功耗、低的处理温度、可选的等离子体种类也是其不可比拟的优势。

3、已知当前低温射频等离子体处理腐蚀的青铜器文物需要将其放置于气流流通腔体内，但是在实际使用时，受限于气流流通腔体有限的体积，该修复方式适合于小体积青铜器的修复处理，使其难以对大体积青铜器做到直接的原位修复处理，当前迫切需要对低温射频等离子体装置进行改进，使其满足对大型青铜器的直接原位高效修复，因此提出一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，作为进一步的改进。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的实施例提供一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其目的在于使用该装置能够用于原位修复大型青铜器表面的腐蚀层，从而解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，包括处理装置本体，所述处理装置本体包括：导电线圈、大容量扩散装置和气流流通腔体，所述导电线圈绕设在气流流通腔体的外表面，所述导电线圈的两端均连接有射频电源，所述气流流通腔体的两端分别开设有进气口和出气口，所述气流流通腔体的出气口端固定安装在大容量扩散装置的一侧，青铜器放置于所述大容量扩散装置的内部。

3、进一步地，所述气流流通腔体的内直径范围设置为10-20cm，所述气流流通腔体的长度范围设置为10-20cm，所述气流流通腔体内壁与外壁之间的厚度范围设置为0.5-1cm。

4、进一步地，所述气流流通腔体的形状设置为圆柱型。

5、进一步地，所述大容量扩散装置的体积范围设置为1m3 -5m3。

6、进一步地，所述大容量扩散装置的形状设置为圆柱体或立方体。

7、进一步地，所述大容量扩散装置远离气流流通腔体的一侧固定安装有气压计和抽气管。

8、进一步地，所述大容量扩散装置的顶部密封安装有箱门，所述大容量扩散装置内部密封气压范围至少设置为1-20pa。

9、本实用新型的技术效果和优点：

10、与现有技术相比，通过设置大容量扩散装置，极大扩展了等离子体的作用空间，可对大型青铜器腐蚀层进行原位高效的修复，减少大型青铜器表面的腐蚀产物，并规避了对青铜器的深层次损伤，极大拓展了低温射频等离子体在处理大型物件中的应用，彰显出极高的实用价值。

技术特征：

1.一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，包括处理装置本体(1)，其特征在于：所述处理装置本体(1)包括：导电线圈(11)、大容量扩散装置(12)和气流流通腔体(13)，所述导电线圈(11)绕设在气流流通腔体(13)的外表面，所述导电线圈(11)的两端均连接有射频电源(14)，所述气流流通腔体(13)的两端分别开设有进气口(131)和出气口(132)，所述气流流通腔体(13)的出气口(132)端固定安装在大容量扩散装置(12)的一侧，青铜器放置于所述大容量扩散装置(12)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述气流流通腔体(13)的内直径范围设置为10-20cm，所述气流流通腔体(13)的长度范围设置为10-20cm，所述气流流通腔体(13)内壁与外壁之间的厚度范围设置为0.5-1cm。

3.根据权利要求2所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述气流流通腔体(13)的形状设置为圆柱型。

4.根据权利要求1所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述大容量扩散装置(12)的体积范围设置为1m3-5m3。

5.根据权利要求4所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述大容量扩散装置(12)的形状设置为圆柱体或立方体。

6.根据权利要求1所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述大容量扩散装置(12)远离气流流通腔体(13)的一侧固定安装有气压计(15)和抽气管(16)。

7.根据权利要求1所述的一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，其特征在于：所述大容量扩散装置(12)的顶部密封安装有箱门(17)，所述大容量扩散装置(12)内部密封气压范围至少设置为1-20pa。

技术总结
本技术公开了一种便于修复大型青铜器的低温射频等离子体处理装置，具体涉及等离子体处理技术领域，包括处理装置本体，所述处理装置本体包括：导电线圈、大容量扩散装置和气流流通腔体，所述导电线圈绕设在气流流通腔体的外表面，所述导电线圈的两端均连接有射频电源，所述气流流通腔体的两端分别开设有进气口和出气口，所述气流流通腔体的出气口端固定安装在大容量扩散装置的一侧。本技术通过设置大容量扩散装置，极大扩展了等离子体的作用空间，可对大型青铜器腐蚀层进行原位高效的修复，减少大型青铜器表面的腐蚀产物，并规避了对青铜器的深层次损伤，极大拓展了低温射频等离子体在处理大型物件中的应用，彰显出极高的实用价值。

技术研发人员：李家星,王德
受保护的技术使用者：中国科学院合肥物质科学研究院
技术研发日：20230727
技术公布日：2024/2/1