一种荧光成像系统及其激发面光源的制作方法

文档序号:37369894发布日期:2024-03-22 10:22阅读:5来源:国知局
一种荧光成像系统及其激发面光源的制作方法

本发明涉及荧光分析领域,具体涉及荧光成像系统及其激发面光源。


背景技术:

1、免疫印迹westernblot成像系统,通常采用化学发光或者荧光方法,化学发光只能进行单一信号采集,荧光检测方法的主要优势在于,它可以同时检测多个蛋白质,并且其信号更加一致,因此与化学发光检测相比,也更有利于量化研究。荧光检测的激发光源通常用激光或者灯管,激光聚焦光斑小,单次只能进行点成像,使用场景有限,灯管可以进行面成像,发光均匀度也较好,但是开关延迟时间长,不适用于时间分辨荧光物质的荧光强度的测量。

2、可见,现有激发荧光物质发光的激发光源的使用场景有限。


技术实现思路

1、本发明主要提供一种荧光成像系统及其激发面光源,旨在让激发荧光物质发光的激发光源能在更多的使用场景下使用。

2、一实施例提供一种激发面光源,包括:

3、led灯珠阵列;

4、led驱动电路,用于驱动所述led灯珠阵列;

5、罩住所述led灯珠阵列的聚光罩,所述聚光罩顶部具有一开口,所述开口覆盖有滤光片和匀光片;所述滤光片用于过滤led灯珠阵列发出的激发光,过滤后的激发光用于激发样品中的荧光物质发出发射光;

6、控制装置,用于获取曝光信号波形,根据所述曝光信号波形生成光源开关波形,根据所述光源开关波形通过所述led驱动电路驱动所述led灯珠阵列连续地开启和关闭,使所述led灯珠阵列连续地开启和关闭符合所述光源开关波形;其中,所述曝光信号波形用于控制成像装置连续多次地进行曝光以采集所述样品中荧光物质发射光的强度,所述光源开关波形使得所述led灯珠阵列在成像装置开始曝光之前开启和关闭。

7、一实施例提供一种荧光成像系统,包括:

8、载物台,用于承载样品;所述样品具有多种荧光物质,所述荧光物质用于标记样品中的目标成分;

9、如上所述的激发面光源;

10、成像装置,用于检测样品的荧光物质发出的发射光的强度;

11、控制装置还用于:

12、控制所述激发面光源多次激发样品中的各个荧光物质发出发射光,所述多次激发样品中的各个荧光物质发出发射光时,控制所述成像装置按不同的曝光参数对所述发射光进行检测得到不同曝光参数对应的实际总荧光强度;其中,所述曝光参数包括曝光起始时刻和曝光终止时刻;对不同曝光参数对应的实际总荧光强度进行处理,得到样品中每种荧光物质的预设目标曝光参数对应的荧光强度。

13、依据上述实施例的荧光成像系统及其激发面光源,采用led灯珠阵列作为面光源的发光源,增大了光斑面积,在led驱动电路的驱动下开关延迟小,通过控制装置的控制,能让激发面光源的开关动作配合成像装置的曝光,方便了对荧光物质尤其是时间分辨荧光物质的检测,因此激发面光源能在更多的使用场景下使用。



技术特征:

1.一种激发面光源,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的激发面光源,其特征在于,所述控制装置还用于利用曝光信号波形对所述光源开关波形进行锁相。

3.如权利要求1所述的激发面光源,其特征在于,所述曝光信号波形的占空比为5%-50%之间的一个值,所述曝光信号波形的频率为100hz-1000hz之间的一个值。

4.如权利要求1所述的激发面光源,其特征在于,所述开口的面积大于或等于10cm x10cm,激发光经过所述匀光片之后的均匀度大于0.97。

5.如权利要求1所述的激发面光源,其特征在于,所述led灯珠阵列的基板采用铝基板。

6.如权利要求1所述的激发面光源,其特征在于,所述led驱动电路包括多颗恒流led驱动ic,每颗恒流led驱动ic用于驱动所述led灯珠阵列中的部分led灯珠。

7.如权利要求6所述的激发面光源,其特征在于,所述led灯珠为紫外光led灯珠;所述led灯珠阵列中led灯珠之间的行距和列距分别为2mm-20mm中的一个;所述过滤后的激发光的波段为紫外光波段。

8.一种荧光成像系统,其特征在于,包括:

9.如权利要求8所述的系统,其特征在于,所述控制装置对不同曝光参数对应的实际总荧光强度进行处理,得到样品中每种荧光物质的预设目标曝光参数对应的荧光强度,包括:

10.如权利要求9所述的系统,其特征在于,所述控制装置还用于将荧光物质的预设目标曝光参数对应的荧光强度代入到预设的荧光强度与浓度的曲线中,得到该荧光物质标记的目标成分的浓度。


技术总结
本发明提供的荧光成像系统及其激发面光源,采用LED灯珠阵列作为面光源的发光源,增大了光斑面积,在LED驱动电路的驱动下开关延迟小,通过控制装置的控制,能让激发面光源的开关动作配合成像装置的曝光,方便了对荧光物质尤其是时间分辨荧光物质的检测,因此激发面光源能在更多的使用场景下使用。

技术研发人员:阮永政,詹剑,周耀旗,尚万里,唐琳
受保护的技术使用者:深圳湾实验室
技术研发日:
技术公布日:2024/3/21
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