专利名称：像素级投影显示梯形校正系统的制作方法
技术领域：
本实用新型属于投影成像领域，具体为一种像素级投影显示梯形校正系统。
背景技术：
投影技术初早可以追溯到中国传统的皮影戏，通常意义上的投影技术起源于19 世纪早期，基于LCoS投影芯片的投影显示技术，结合了光学和成熟的半导体技术，是一种 有效实现大尺寸高分辨率显示的途径。基于光线直线传播的原理，显示芯片的图像通过投影单元放大后投影在目标屏幕 上，如果显示芯片和屏幕保持平行，那么根据三角形相似原理，屏幕上的显示图像是显示芯 片的等比例放大，但如果显示芯片和目标屏幕有一定角度，那么最终在屏幕上得到的图像 将是一个梯形的区域，为了在这种情况下在屏幕上得到规整化的图像，通常需要利用相关 的梯形校正技术。目前的投影显示梯形校正领域，通常只是通过电路上调整显示芯片上的图像为一 梯形区域，如中国专利200480003967. X、200510123106. 1，由于梯形校正区域只是单纯的做 了暗态显示输出处理，受限于投影显示芯片的特性，其暗态输出往往不能给出完全的消光 效果，结果在屏幕上出现很明显的梯形区，使得显示质量下降，影响人们的观赏效果。
发明内容针对现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种像素级投影显示梯形校 正系统的技术方案。所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于包括投影显示单元和像素级梯 形校正显示芯片，所述的投影显示单元能够变焦，其将投影显微芯片上的图像信息转化为 投影用光信息，并将该投影光以一定的仰角投射到屏幕表面；所述的像素级梯形校正显示 芯片在像素层面上产生适合上述投影显示单元的梯形校正后的输出图像信息，供投影显示 单元投射到屏幕上形成规整的输出图像。所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯形校正显示芯 片包括普通投影显示芯片和像素级梯形校正掩膜板，普通投影显示芯片上设置有梯形畸变 区和梯形显示区，像素级梯形校正掩膜板上设置有像素级梯形校正区。所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯形校正掩膜板 设为掩膜区域可调节的机构，即包括可调节掩膜区和控制可调节掩膜区大小的调控单元， 通过调节调控单元可以实现像素级梯形校正区大小的变化。所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯形校正显示芯 片包括一块普通投影显示芯片，其梯形畸变区通过在芯片上直接镀上消光的暗区实现像素 级梯形校正处理。所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯形校正显示芯 片在制作芯片时，直接在基板上制作梯形显示区。
3[0011]上述像素级投影显示梯形校正系统，在显示芯片上进行像素级校正，通过利用像 素级梯形校正掩膜板、直接在显示芯片的梯形校正区镀上消光的物质、或者在进行显示芯 片制作时直接制作成梯形显示区域，然后将图像信息显示在梯形校正后的显示芯片的显示 区域，经过以上处理后，投影单元再将显示芯片的图像信息按特定的角度投影在屏幕上后， 可以在屏幕上直接得到规整化的图像，消除了梯形校正区域对投影屏幕的影响，直接在一 定角度投影时得到规整化的输出图像。
图1是普通投影显示芯片一定角度投影时的屏幕显示；图2是像素级梯形校正显示芯片一定角度投影时的屏幕显示；图3是普通投影显示芯片和像素级梯形校正掩膜板构成的像素级梯形校正显示
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心片；图4是普通投影显示芯片和可调控像素级梯形校正掩膜板构成的像素级梯形校 正显示芯片；图5是普通投影显示芯片上镀消光层的像素级梯形校正显示芯片；图6是制作芯片时直接设成梯形区域的像素级梯形校正显示芯片。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明做进一步说明像素级投影显示梯形校正系统，包括投影显示单元和像素级梯形校正显示芯片， 所述的投影显示单元能够变焦，其将投影显微芯片上的图像信息转化为投影用光信息，并 将该投影光以一定的仰角投射到屏幕表面；所述的像素级梯形校正显示芯片在像素层面上 产生适合上述投影显示单元的梯形校正后的输出图像信息，供投影显示单元投射到屏幕上 形成规整的输出图像。图1为利用普通投影显示芯片1进行投影显示时的情况，可以看到，在一定仰角 时，在屏幕上得到的是一个梯形的显示区域，显示芯片上的图像上下的放大率不同，导致图 像的显示出现梯形畸变。图2为利用像素级梯形校正显示芯片进行投影显示时的情况，可以看到，由于将 显示芯片的显示区域进行了控制，尽管一定仰角时屏幕上纵向的放大率不一样，可是由于 显示芯片纵向的尺寸不一样，最终在屏幕上仍然得到一个规整化的显示图像，实现梯形校 正的效果。如图3所示，像素级梯形校正显示芯片包括普通投影显示芯片1和像素级梯形校 正掩膜板2，普通投影显示芯片1上设置有梯形畸变区11和梯形显示区12，像素级梯形校 正掩膜板2上设置有像素级梯形校正区21，通过直接覆盖，在一定仰角投影时，普通投影显 示芯片1上的梯形畸变区11只将投影显示的梯形显示区12投影显示在屏幕上，从而得到 规整化的投影显示输出。如图4所示，像素级梯形校正掩膜板2可以设为掩膜区域可调节 的机构，从而实现对一定仰角范围内的真接像素级梯形校正，包括可调节掩膜区22和控制 可调节掩膜区22大小的调控单元23，通过调节调控单元23可以实现像素级梯形校正区21 大小的变化，从而达到像素级梯形校正的目的，以适应不同抑角和投影距离的要求可以实现一定范围内仰角投影时，在屏幕上得到规整化输出。如图5所示，像素级梯形校正显示芯片还可以包括一块投影用显示芯片，其梯形 畸变区11通过在芯片上直接镀上消光的暗区实现像素级梯形校正处理，具体地，通过计算 得到一定仰角时像素级梯形校正区21的大小，然后利用涂消光物质的技术，在像素级梯形 校正区21进行处理，这样就可以得到像素级梯形校正显示芯片。如图6所示，像素级梯形校正显示芯片在制作芯片时，直接在基板上制作梯形显 示区12，其中梯形短边区像素较小，梯形长边区的像素较大，从梯形区短边到长边每一行的 像素数保持相等，这样可以保证投影图像的物理分辨率不损失，梯形较正输出后图像更加 细腻自然，芯片的物理像素可以不受影响，成像的分辨率不会下降，是最有效的像素级梯形 校正显示芯片。以上实施例仅为说明本实用新型的技术特征和可实施性，其目的在于使该领域的 技术人员能了解本发明的内容并予以实施。尽管已经参考具体实施例对本实用新型作了描 述，但是，不应将这些描述理解为一种限制情形，对于本领域的技术人员来说参考以上对本 实用新型的描述显然能够作出对公开实施例中的各种改进以及本实用新型的另外实施例， 因此，凡依本实用新型的构思所作出的变换，均属于本实用新型保护范围。
权利要求像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于包括投影显示单元和像素级梯形校正显示芯片，所述的投影显示单元能够变焦，其将投影显微芯片上的图像信息转化为投影用光信息，并将该投影光以一定的仰角投射到屏幕表面；所述的像素级梯形校正显示芯片在像素层面上产生适合上述投影显示单元的梯形校正后的输出图像信息，供投影显示单元投射到屏幕上形成规整的输出图像。
2.根据权利要求1所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯 形校正显示芯片包括普通投影显示芯片(1)和像素级梯形校正掩膜板(2)，普通投影显示 芯片(1)上设置有梯形畸变区(11)和梯形显示区(12)，像素级梯形校正掩膜板(2)上设置 有像素级梯形校正区(21)。
3.根据权利要求2所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯 形校正掩膜板(2)设为掩膜区域可调节的机构，即包括可调节掩膜区(22)和控制可调节掩 膜区(22)大小的调控单元(23)，通过调节调控单元(23)可以实现像素级梯形校正区(21) 大小的变化。
4.根据权利要求1所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯 形校正显示芯片包括一块普通投影显示芯片(1)，其梯形畸变区(11)通过在芯片上直接镀 上消光的暗区实现像素级梯形校正处理。
5.根据权利要求1所述的像素级投影显示梯形校正系统，其特征在于所述的像素级梯 形校正显示芯片在制作芯片时，直接在基板上制作梯形显示区(12)。
专利摘要本实用新型属于投影成像领域，具体为一种像素级投影显示梯形校正系统。其特征在于包括投影显示单元和像素级梯形校正显示芯片，所述的投影显示单元能够变焦，其将投影显微芯片上的图像信息转化为投影用光信息，并将该投影光以一定的仰角投射到屏幕表面；所述的像素级梯形校正显示芯片在像素层面上产生适合上述投影显示单元的梯形校正后的输出图像信息，供投影显示单元投射到屏幕上形成规整的输出图像。上述像素级投影显示梯形校正系统，在显示芯片上进行像素级校正，投影单元再将显示芯片的图像信息按特定的角度投影在屏幕上后，可以在屏幕上直接得到规整化的图像，消除了梯形校正区域对投影屏幕的影响。
文档编号H04N5/74GK201699870SQ201020250770
公开日2011年1月5日 申请日期2010年7月6日 优先权日2010年7月6日
发明者余飞鸿, 刘钦晓, 周建军, 张文字 申请人:杭州晶景光电有限公司