专利名称：一种具有防核辐射功能的“e”形一次反射光路结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构。在核辐射源照射的情况下，裸露在射线下的摄像监视仪器都会由于元器件的电离辐射效应和位移辐射效应而受到损伤，导致视频信号严重变形或无信号，无法正常工作，井随之产生设备永久性损坏。本实用新型涉及摄像监视仪器如何在屏蔽材料防护下正常展开视频图像监视的设计方法，属于“核科学与技木”技术领域。
背景技术：
核辐射，是原子核从ー种结构或一种能量状态转变为另ー种结构或另ー种能量状态过程中所释放出来的微观粒子流。核辐射是由Y射线、α射线、β射线、中子等构成，对电子摄像设备的损伤主要是电离辐射，它可以使电荷耦合器件(CCD)等引起电离或激发， 导致设备故障。所以采取必要的防护屏蔽措施，是正常持久监视涉核目标的前提和基础。由于电子摄像器材通常都是用光学镜头直接面对目标物体，而核辐射中损伤效应最強的伽马射线和快中子却是直线式放射，穿透式通过，所以对电子摄像器材的损伤是不可避免的。传统对摄像监视设备的防核辐射方法，都是采用对电荷耦合器件的抗辐射加固；这种方法涉及精密电子元器件加工，条件苛刻、成本高，而且防护效果不稳定，不能满足对涉核设施设备的长时间视频监控需求。实际需要时，在普通摄像设备的基础上，进行巧妙的屏蔽结构设计，即能达到很好的防核辐射效果。本实用新型利用光学反射与折射原理和核辐射屏蔽材料防护技术的组合，实现了电子摄像器材对核辐射的防护。根据光学的反射与折射原理，设计反射结构，评估两次光学反射的能量与折射能量损失关系，对成像效果进行测试，确定光路结构，这种结构的优点是核辐射中的伽马射线和快中子，直接穿透镜面，不被反射；而光脉冲却可以近乎完全的被镜面反射(经过一次反射，仅有2%的能量损失)；核辐射屏蔽材料防护技术，是利用我们对不同原子序数材料的核辐射屏蔽性能进行测试和综合评估，选择实用性强、防护效果好的核辐射屏蔽材料。综合两者的检测結果，能够实现对涉核目标的近距离视频监控。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供ー种具有防核辐射功能的“Ε”形一次反射光路结构，以实现在强核辐射的条件下，电子摄像器材能够在屏蔽材料的防护下正常工作，得到清晰稳定的图像。本实用新型ー种具有防核辐射功能的“Ε”形一次反射光路结构，其特征在于该结构具体包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻，其中所述的屏蔽框架为“Ε”形钢结构固定架，其中，所述的‘ ”形屏蔽框架是由上屏蔽框、中间屏蔽框、下屏蔽框以及侧屏蔽框组成，并使整个屏蔽框架被分成两个侧面有开ロ的屏蔽空间——上屏蔽空间及下屏蔽空间；所述的镜面反射面为两个，位于上屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框上侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角，位于下屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框下侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角，使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直；光源和电子摄像机分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻安装在屏蔽框架外部；所述的电子摄像机及光源的背面及侧面设置有屏蔽层，其中所述的电子摄像机及光源的侧面是指正对着辐射源的一面；正对辐射源的一面的屏蔽层与背面的屏蔽层的厚度之比是8 I。所述的电子摄像机和光源的背面及侧面设置的屏蔽层均为钨镍合金屏蔽层与聚こ烯屏蔽层复合的方式。本实用新型ー种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构，优点及功效在于
(I)结构巧妙。直接用屏蔽层对核辐射进行防护，电子摄像机通过镜面反射监视涉核目标体。(2)适应亮度范围广。在有光线的条件下，电子摄像机通过镜面反射获取成像，在无光线夜暗条件下，通过光敏电阻感知，自动开启近红外光源，经过两次镜面反射照射涉核目标，电子摄像机正常获取图象。(3)应用效果好。通过应用単位试验证明，防护能力强、效果好。(4)适合具有强核辐射特征的目标体的事故前后的监视和记录。
图I所示为本实用新型实施例的结构示意图图中标号如下I、电子摄像机 2、光源 3、镜面反射经4、钨镍合金屏蔽层5、聚こ烯屏蔽层61、上屏蔽框62、下屏蔽框 63、中间屏蔽框64、侧屏蔽框 7、光敏电阻
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型的技术方案做进ー步的说明。本实用新型ー种具有防核辐射功能的‘ ”形一次反射光路结构，其结构示意图如图I所该结构具体包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻，其中所述的屏蔽框架为“E”形钢结构固定架，其中，所述的‘ ”形屏蔽框架是由上屏蔽框61、中间屏蔽框63、下屏蔽框62以及侧屏蔽框64组成，并使整个屏蔽框架被分成两个侧面有开ロ的屏蔽空间——上屏蔽空间及下屏蔽空间；所述的镜面反射面3为两个，位于上屏蔽空间的镜面反射面3分别与中间屏蔽框63上侧及侧屏蔽框64相邻并成45度夹角，位于下屏蔽空间的镜面反射面3分别与中间屏蔽框63下侧及侧屏蔽框64相邻并成45度夹角，使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直；光源2和电子摄像机I分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻7安装在屏蔽框架外部；所述的电子摄像机I及光源2的背面及侧面设置有屏蔽层，其中所述的电子摄像机及光源的侧面是指正对着辐射源的一面；正对辐射源的一面的屏蔽层与背面的屏蔽层的厚度之比是8 : I。所述的电子摄像机和光源的背面及侧面设置的屏蔽层均为钨镍合金屏蔽层4与聚こ烯屏蔽层5复合的方式。
权利要求1. 一种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构，其特征在于该结构具体包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻，其中所述的屏蔽框架为“E”形钢结构固定架，其中，所述的“E”形屏蔽框架是由上屏蔽框、中间屏蔽框、下屏蔽框以及侧屏蔽框组成，并使整个屏蔽框架被分成两个侧面有开口的屏蔽空间一上屏蔽空间及下屏蔽空间；所述的镜面反射面为两个，位于上屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框上侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角，位于下屏蔽空间的镜面反射面分别与中间屏蔽框下侧及侧屏蔽框相邻并成45度夹角，使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直；光源和电子摄像机分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻安装在屏蔽框架外部；所述的电子摄像机及光源的背面及侧面设置有屏蔽层，其中所述的电子摄像机及光源的侧面是指正对着辐射源的一面；正对辐射源的一面的屏蔽层与背面的屏蔽层的厚度之比是8 I ;在所述的电子摄像机和光源的背面及侧面设置的屏蔽层均为钨镍合金屏蔽层与聚乙烯屏蔽层复合的方式。
专利摘要本实用新型涉及一种具有防核辐射功能的“E”形一次反射光路结构，包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机、光源及光敏电阻，屏蔽框架为“E”形钢结构固定架，由上屏蔽框、中间屏蔽框、下屏蔽框以及侧屏蔽框组成；所述的镜面反射面为两个，使得每个屏蔽空间内的入射光线经一次反射后与反射光线垂直；光源和电子摄像机分别安装在上屏蔽空间及下屏蔽空间内、光敏电阻安装在屏蔽框架外部；所述的电子摄像机及光源的背面及侧面设置有屏蔽层。本实用新型结构巧妙、适应亮度范围广、应用效果好，适合具有强核辐射特征的目标体的事故前后的监视和记录。
文档编号H04N5/225GK202406195SQ20122001869
公开日2012年8月29日 申请日期2012年1月16日 优先权日2012年1月16日
发明者危建辉, 战培飞, 李曙光, 菅强, 陈敏 申请人:赵小鹏