专利名称：光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种传送式摄像装置，具体涉及ー种光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置。
背景技术：
目前，在对生产线上的被检测件进行检测时，均采用摄像装置直接对被检测体进行拍摄并上传检测的方式，但生产线所处的环境较为复杂，光线不断变化，或光线不稳定，易对成像结果产生影响，从而导致检测结果不准确的问题。
发明内容本实用新型提供ー种光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，主要解决了 现有线上产品进行检测时，检测精度差，易受外部环境影响的问题。本实用新型的具体技术解决方案如下该光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，包括成像装置，成像装置固定设置于摄像箱上，摄像箱罩在用于运送被检测体的检测线上；摄像箱内设置有可控光源，传送带上设置有光强传感器。上述检测线上设置有位置传感器和位移传感器，位置传感器设置于摄像箱被检测体进ロ ー侧，位移传感器于摄传送带上用于测量传送带相对移动距离及速度。上述可控光源包括两个，两个可控光源对称设置于摄像箱底部，并与被检测体平行，可控光源与传送带之间设置有挡光板；光强传感器包括两个，两个光强传感器对称设置于传送带两侧，感光面朝向成像装置的镜头。上述摄像箱是弧形光反射罩，摄像箱内壁上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层；挡光板靠近可控光源一侧上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层或灰色粗噪涂层，挡光板靠近传送带ー侧上设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层；传送带表面设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层。上述摄像箱被检测体进口上和出口上均设置有挡光帘，挡光帘、摄像箱和传送带形成密闭空间。上述摄像箱位于挡光板靠近可控光源ー侧的底面上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层，摄像箱位于挡光板靠近传送带ー侧的底面上设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层；上述成像装置垂直设置于被检测件正上方，固定于摄像箱上。上述成像装置是ー个或多个摄像头。本实用新型的优点在于全封闭光学拍摄环境，有着反馈可控的光照系统，以及快门触发时间的精确控制，保证了拍摄光学背景的高度一致性，对高精度机器视觉处理提供了坚实的物理基础。
图I为本实用新型外部结构示意图；图2为本实用新型内部剖视图；附图明细101 :弧形光反射罩；102 :挡光板；501 :机械传送带；401 :被检测体；301 :图像传感器；602 :位置传感器；603 :位移传感器；202 光强传感器；201 可控光源；701 :白色粗糙涂层；702 -黒色粗糙涂层。
具体实施方式
以下结合附图及具体实施例对本实用新型进行详述该光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置包括成像装置(图像 传感器)，成像装置是ー个或多个摄像头，成像装置固定设置于摄像箱上，摄像箱的顶端开孔，成像装置的位置优选垂直设置于被检测件正上方，其镜头由此开孔进入摄像箱；摄像箱罩在用于运送被检测体的检测线上；检测线上设置有位置传感器和位移传感器，位置传感器设置于摄像箱被检测体进ロー侧，位移传感器于摄像箱被检测体出ロー侧。当被测体被传送带传经位置传感器的时候，位置传感器产生触发信号，这个信号发送至摄像位置控制器，摄像位置控制器开始计算信息，摄像位置控制器从位移传感器处得到当前得位移信息，计算后触发成像装置在拍摄位置进行拍摄，完成图像采样过程。摄像箱内设置有可控光源，传送带上设置有光强传感器。其中可控光源优选为两个，两个可控光源对称设置于摄像箱底部，并与被检测体平行，可控光源与传送带之间设置有挡光板；光强传感器优选为两个，两个光强传感器对称设置于传送带两侧，感光面朝向成像装置的镜头。可控光源通过光源驱动器驱动(PWM电流源)，光线通过白色漫反射面投到被测体表面，摄像箱内的光强传感器实时采样光强強度，并反馈此信息给光强控制器，控制器通过和预设值进行比较，实时调整光源驱动器电流，来改变光源亮度，保证摄像箱内光照恒定；同时，摄像箱被检测体进口上和出口上均设置有挡光帘，挡光帘、摄像箱和传送带形成密闭空间，进ー步保证了摄像箱内光照恒定。摄像箱的底面涂层分部分，以2块挡光板为分割，在挡光板里面涂成黑色粗噪面(吸收入射光线)，挡光板外侧的底面则涂成白色粗噪面；挡光板靠近可控光源一侧上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层或灰色粗噪涂层，挡光板靠近传送带ー侧上设置有用于吸收光线的黒色粗噪涂层；传送带表面设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层。摄像箱可以优选弧形光反射罩，摄像箱内壁上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层，该涂层能很好的漫反射光线，又不会在被测面上产生光亮斑。
权利要求1.ー种光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，包括成像装置，其特征在于所述成像装置固定设置于摄像箱上，摄像箱罩在用于运送被检测体的检测线上；摄像箱内设置有可控光源，传送带上设置有光强传感器。
2.根据权利要求I所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述检测线上设置有位置传感器和位移传感器，位置传感器设置于摄像箱被检测体进ロ ー侧，位移传感器于摄传送带上用于测量传送带相对移动距离及速度。
3.根据权利要求2所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述可控光源包括两个，两个可控光源对称设置于摄像箱底部，并与被检测体平行，可控光源与传送带之间设置有挡光板；光强传感器包括两个，两个光强传感器对称设置于传送带两侧，感光面朝向成像装置的镜头。
4.根据权利要求3所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述摄像箱是弧形光反射罩，摄像箱内壁上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层；挡光板靠近可控光源一侧上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层或灰色粗噪涂层，挡光板靠近传送带一侧上设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层；传送带表面设置有用于吸收光线的黒色粗噪涂层。
5.根据权利要求4所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述摄像箱被检测体进口上和出口上均设置有挡光帘，挡光帘、摄像箱和传送带形成密闭空间。
6.根据权利要求5所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述摄像箱位于挡光板靠近可控光源ー侧的底面上设置有用于反射光线的白色粗噪涂层，摄像箱位于挡光板靠近传送带ー侧的底面上设置有用于吸收光线的黑色粗噪涂层。
7.根据权利要求I至6任一所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述成像装置垂直设置于被检测件正上方，固定于摄像箱上。
8.根据权利要求7所述的光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，其特征在于所述成像装置是ー个或多个摄像头。
专利摘要本实用新型提供一种光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，主要解决了现有线上产品进行检测时，检测精度差，易受外部环境影响的问题。该光学背景及几何位置全控制的传送式摄像装置，包括成像装置，成像装置固定设置于摄像箱上，摄像箱罩在用于运送被检测体的检测线上；摄像箱内设置有可控光源，传送带上设置有光强传感器。全封闭光学拍摄环境，有着反馈可控的光照系统，以及快门触发时间的精确控制，保证了拍摄光学背景的高度一致性，对高精度机器视觉处理提供了坚实的物理基础。
文档编号H04N5/232GK202602783SQ20122002228
公开日2012年12月12日 申请日期2012年1月18日 优先权日2012年1月18日
发明者陆大为, 吴思, 林庆帆 申请人:陆大为, 吴思