一种保密性阅卷机的制作方法

文档序号:20240174发布日期:2020-03-31 18:06阅读:184来源:国知局
一种保密性阅卷机的制作方法

本实用新型涉及电子阅卷技术领域,尤其涉及一种保密性阅卷机。



背景技术:

随着教学智能化的发展,将纸质试卷扫描上传至电脑终端的线上阅卷方式越来越普遍,阅卷智能化成为未来教学发展的新趋势,智能阅卷不仅能实现传统的阅卷功能,同时还能够对不同的试卷进行分析,利用阅卷仪采集学生的考试数据并通过数据分析能够不断调整学生的学习习惯、优化教师的授课教学方式,提高教学质量。

但是,由于试卷存放及运输问题,使得试卷扫描时容易发生折皱或折边,造成扫描不清晰,影响扫描效果。而在后续教师阅卷困难时,需要重新查找原纸质试卷,费时费力,增加了教师不必要的教学负担。



技术实现要素:

为解决背景技术中存在的技术问题,本实用新型提出一种保密性阅卷机。

本实用新型提出的一种保密性阅卷机,包括:下机壳、上机壳、扫描头、展平机构;

下机壳顶部设有试卷容纳槽,所述试卷容纳槽底部设有水平设置的试卷支撑面,上机壳位于下机壳上方,上机壳底部设有安装槽,所述安装槽内设有水平延伸的滑轨,扫描头位于所述安装槽内且可滑动安装在滑轨上,所述试卷容纳槽和所述安装槽配合形成扫描空间;

展平机构包括第一电机、第一展平辊、第二电机和第二展平辊,第一展平辊和第二展平辊水平设置在所述安装槽内且二者可转动安装在上机壳上,滑轨位于第一展平辊和第二展平辊之间,第一电机与第一展平辊连接用于驱动第一展平辊转动,第二电机与第二展平辊连接用于驱动第二展平辊转动。

优选地,第一展平辊和第二展平辊平行设置。

优选地,第一展平辊和第二展平辊分别位于滑轨两端。

优选地,第一展平辊和第二展平辊垂直于滑轨设置。

优选地,所述试卷支撑面上设有定位凸起。

本实用新型中,所提出的保密性阅卷机,下机壳的试卷容纳槽底部设有水平设置的试卷支撑面,上机壳底部安装槽内设有水平延伸的滑轨,扫描头位于所述安装槽内且可滑动安装在滑轨上,所述试卷容纳槽和所述安装槽配合形成扫描空间;展平机构的两个展平辊水平设置在安装槽内且二者可转动安装在上机壳上。通过上述优化设计的保密性阅卷机,在上下机壳内形成相对封闭的扫描空间,扫描前通过两侧展平辊将试卷进一步向两侧展平,保证扫描时试卷的平整,从而保证扫描清晰度。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种保密性阅卷机的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,图1为本实用新型提出的一种保密性阅卷机的结构示意图。

参照图1,本实用新型提出的一种保密性阅卷机,包括:下机壳1、上机壳2、扫描头3、展平机构;

下机壳1顶部设有试卷容纳槽,所述试卷容纳槽底部设有水平设置的试卷支撑面,上机壳2位于下机壳1上方,上机壳2底部设有安装槽,所述安装槽内设有水平延伸的滑轨21,扫描头3位于所述安装槽内且可滑动安装在滑轨21上,所述试卷容纳槽和所述安装槽配合形成扫描空间;

展平机构包括第一电机、第一展平辊4、第二电机和第二展平辊5,第一展平辊4和第二展平辊5水平设置在所述安装槽内且二者可转动安装在上机壳2上,滑轨21位于第一展平辊4和第二展平辊5之间,第一电机与第一展平辊4连接用于驱动第一展平辊4转动,第二电机与第二展平辊5连接用于驱动第二展平辊5转动。

本实施例的保密性阅卷机的具体工作过程中,首先将待扫描试卷放在下机壳内的容纳槽内,将上机壳与下机壳盖合,使得两个展平辊压在试卷上,通过展平辊反向转动,将试卷向两侧展平,然后通过扫描头沿滑轨滑动,实现对试卷的逐次扫描。

在本实施例中,所提出的保密性阅卷机,下机壳的试卷容纳槽底部设有水平设置的试卷支撑面,上机壳底部安装槽内设有水平延伸的滑轨,扫描头位于所述安装槽内且可滑动安装在滑轨上,所述试卷容纳槽和所述安装槽配合形成扫描空间;展平机构的两个展平辊水平设置在安装槽内且二者可转动安装在上机壳上。通过上述优化设计的保密性阅卷机,在上下机壳内形成相对封闭的扫描空间,扫描前通过两侧展平辊将试卷进一步向两侧展平,保证扫描时试卷的平整,从而保证扫描清晰度。

在展平机构的具体实施方式中,第一展平辊4和第二展平辊5平行设置。

为了保证展平效果,第一展平辊4和第二展平辊5分别位于滑轨21两端,压紧试卷两端空白部分,从而进行展平。

在进一步具体实施方式中,第一展平辊4和第二展平辊5垂直于滑轨21设置,使得试卷沿滑轨方向展平,防止其沿滑轨方向出现褶皱,保证扫描清晰度。

在其他具体实施方式中,所述试卷支撑面上设有定位凸起6,通过在试卷上设置与定位凸起配合的凹槽,在试卷放置过程中,通过试卷上的凹槽与定位凸起配合,保证试卷放置方向,防止试卷放错或放反,保证扫描的试卷图像朝向相同。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1