本技术涉及显示元件，尤其是涉及一种对准系统的采图设备和对准系统。
背景技术：
1、mini led电路板在生产过程中，需要对电路板上印刷防焊油墨，防焊油墨印刷后经过预烤、曝光、碱性显影、硬化后可以具有保护印刷电路板的能力，印刷前需要对电路板进行对位，对电路板上图形进行转移。
2、现有技术中，采用常规的单色环形光源或同轴光源来提供对准照明，由于样板铜箔较薄，防焊油墨较厚，且呈现白色，反光严重，油墨与靶点铜箔之间过度较平缓，常规对准系统在对位过程中无法进行靶点采图，或靶点采图模糊，导致对位失效或者对位精度较差，进而造成防焊机台拒曝率高，影响机台使用。
技术实现思路
1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种对准系统的采图设备，该对准系统的采图设备可以提高对准精度。
2、本实用新型进一步地提出了一种对准系统。
3、根据本实用新型实施例的对准系统的采图设备，包括：相机；成像镜头，所述成像镜头设置于所述相机的一侧；红外环形光源，所述红外环形光源设置于所述成像镜头远离所述相机的一侧，所述红外环形光源的波长为a，a满足关系式：a≥940nm。
4、由此，通过在成像镜头远离相机的一侧设置红外环形光源，红外环形光源的波长不低于940nm，具有高穿透性，可以穿透油墨将靶点的轮廓反射至成像镜头中，成像镜头可以将反射光还原并且形成更为清晰的图像，从而可以实现对准系统对靶点的对位，可以提高对准系统的对位精度。
5、根据本实用新型的一些实施例，所述红外环形光源的辐射度为b，b满足关系式：b≥60mw/cm2。
6、根据本实用新型的一些实施例，所述红外环形光源的直径为r，r满足关系式：r＞75mm。
7、根据本实用新型的一些实施例，所述红外环形光源照射至照射面上的均匀性为c，c满足关系式：c＞95％。
8、根据本实用新型的一些实施例，所述成像镜头的最小可分辨尺寸为l,l满足关系式：l≤1μm。
9、根据本实用新型的一些实施例，所述成像镜头的畸变率为d，d满足关系式：d＜0.006％。
10、根据本实用新型的一些实施例，所述成像镜头上设置有光圈，所述光圈上设置有通光孔，所述通光孔孔径可调。
11、根据本实用新型的一些实施例，所述相机的单个像元尺寸为e，e满足关系式：e≤2.2μm。
12、根据本实用新型的一些实施例，所述相机的最大可支持帧率为f，f满足关系式：f＞65fps。
13、根据本实用新型的对准系统，包括上述的对准系统的采图设备。
14、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
1.一种对准系统的采图设备(100)，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述红外环形光源(30)的辐射度为b，b满足关系式：b≥60mw/cm2。
3.根据权利要求2所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述红外环形光源(30)的直径为r，r满足关系式：r＞75mm。
4.根据权利要求3所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述红外环形光源(30)照射至照射面上的均匀性为c，c满足关系式：c＞95％。
5.根据权利要求1所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述成像镜头(20)的最小可分辨尺寸为l,l满足关系式：l≤1μm。
6.根据权利要求5所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述成像镜头(20)的畸变率为d，d满足关系式：d＜0.006％。
7.根据权利要求5所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述成像镜头(20)上设置有光圈，所述光圈上设置有通光孔，所述通光孔孔径可调。
8.根据权利要求1所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述相机(10)的单个像元尺寸为e，e满足关系式：e≤2.2μm。
9.根据权利要求8所述的对准系统的采图设备(100)，其特征在于，所述相机(10)的最大可支持帧率为f，f满足关系式：f＞65fps。
10.一种对准系统，其特征在于，包括：权利要求1-9中任一项所述的对准系统的采图设备(100)。