专利名称：敏射线树脂组合物及其改进其防干性蚀刻性能的方法
技术领域：
本发明涉及一个新的敏射线树脂组合物，以及改进该敏射线树脂组合物的防干性蚀刻性能的方法，特别涉及一个新的具有改进干性蚀刻性能的敏射线树脂组合物，以及一个用于改进敏射性树脂组合物的干性蚀刻性能的方法。本发明宜用于生产半导体，制备液晶显示板的液晶显示平面，以及生产电路衬底(基片)，例如热压头。
背景技术：
在许多的包括生产半导体集成电路，例如LSI(大规模集成电路)，制备液晶显示板的液晶显示平面，以及生产电路衬底(基片)，例如热压头的技术领域中，人们已广泛使用了光刻(照相平版印刷)技术去制备细元件和进行精细加工，在光刻技术中，人们已使用正性或负性的敏射线树脂去形成(光致)抗蚀图形。众所周知，对于正性树脂组合物，一个由碱溶性树脂和一个(苯)醌二叠氮化物所组成的组合物可以用作敏射线材料，对于这种组合物，人们已在许多文献中，如日本专利申请公告文献(JP-B)No.54-23570(美国专利No.3666473)；JP-B No.56-30850(美国专利No.4115128)，日本专利申请公开文献JP-A三者No.55-73045和JP-A No.61-205933中提示过许多这类组合的，例如，“(线型)酚醛清漆型树脂/(苯)醌二叠氮化物”。可以用已知的方法，例如旋转涂敷法，辊式涂敷法，地面涂敷法，热辊层压法或浸渍涂敷法将上述敏射线树脂组合物涂敷在一个硅衬底(基片)，或一个涂上金属如铝，钼或铬的衬底(基片)，或一个涂上金属氧化物膜，如ITO的衬底(基片)上，以便在其上面形成一层薄膜。然后用以UV(紫外线)为光源的射线，穿透用于电路衬底的掩模图案使其曝光。在曝光以后，使其显象以形成(光致)抗蚀图形，然后用上述抗蚀图形作为蚀刻掩模可以对上述衬底进行干性蚀刻的精细加工。在上述干性蚀刻过程中，作为掩模的(光致)抗蚀图形必须具有充分的抗干性蚀刻性能。另一方面，用于TFT(薄膜工艺(晶体管))的LCD板的大型号衬底也在不断地研发。从生产率(每单位时间的产出)的角度考虑，也需要大量的用于生产LCD板的具有高敏感性的敏射性树脂组合物。因此，人们强烈需求得到兼具有改进的抗干性蚀刻性能和高敏感性的敏射线树脂。
在上述需求中，为了得到改进的抗干性蚀刻性能一般采用具有高分子量的碱溶性树脂，或者从碱溶性树脂中除去一定范围的具有低分子量的组成，例如单体或二聚物(如下列文献所述JP-A60-97347和60-189739及日本专利第2590342号)。然而，由此也产生另一个问题，即在前者措施中会导致对敏感性的损害，而在后者措施中则会导致对敏感性和粘合性的损害。为了克服上述对敏感性的损害，需要加入一种被称为增强剂的物质以便获得更高的敏感性，或者加入一种低分子量组份或一种粘合增强剂以便改善粘合性。然而，惯用于这些工艺中的物质都是低分子量的分子，而且必须大量地加入以便能满足对敏感性的要求。因此，当人们采用具有高平均分子量的碱溶性树脂改进抗干性蚀刻性能时，也会由于加入了上述大量的低分子量分子而使其降低，其结果是即使采用了具有高分子量的碱溶性树脂，但是组合物的抗干性蚀刻性能比较其起始的敏射线树脂组合物，即其中的碱溶性树脂不具有高分子量的起始组合物，也没有显著地改进。因此，既要改进敏射线树脂组合物的抗干性蚀刻性能，又要保持其敏感性将是十分困难的。
此外，为了改进抗蚀刻性能人们提出了一个其中用含有β-萘酚的(线型)酚醛清漆型树脂作为缩合成份的组合物(例如，JP-A60-173544)和一个含有含萜烯的(线型)酚醛清漆型树脂的组合物(例如，JP-A9-160234)。
在包括上述的现有技术中，许多性能如抗蚀刻性能和敏感性都不能同时满足人们的需求。因此，人们强烈需求得到一种能够满足上述要求，即具有高敏感性，高清晰度以及特别优良抗蚀性能的敏射线树脂组合物。
本发明解决的问题由此，本发明的目的是提供一个能够显著地改进抗干性蚀刻性能的方法，该方法能够形成优美的图案同时又能保持起始敏射线树脂组合物的高敏感性及高清晰度，以及一个具有上述优良性能的敏射线树脂组合物。
解决上述问题的方法经过长期的研发，本申请人发现了实现本发明目的的途径即加入很少量的感光增强剂和具有特定平均分子重量的碱溶性树脂就能实现较高的敏感性，达到本发明的目的。
本发明涉及一个由碱溶性树脂，敏射线物质和作为感光增强剂的荧光材料所组成的敏射线树脂组合物，其中该组合物中的碱溶性树脂成份是一个其平均分子重量至少比较起始的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量高5％的碱溶性树脂，所述的起始的敏射线树脂组合物具有与上述的敏射线树脂组合物相同的组成以及相同的敏感性，但是不含有感光增强剂，而且含有具有不同的平均分子重量的碱溶性树脂。
在此我们进一步详述本发明。
本发明可以得到其抗干性蚀刻性能有显著改进而且具有与起始的敏射线树脂组合物相同的敏感性的敏射线树脂组合物，其理由如下首先，据本发明的敏射线树脂组合物使用了一个其平均分子重量比较起始的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高5％或10％，并以高于15％为宜的碱溶性树脂，该起始敏射线树脂组合物具有与本发明的敏射线树脂组合物相同的组成及相同的敏感性，但是不含有感光增强剂，而且使用了具有不同平均分子重量的碱溶性树脂。如果把上述的具有高分子量的碱溶性树脂用作碱溶性树脂，但不使用感光增强剂时，所形成的敏射线树脂组合物比较对照的碱溶性树脂具有改进了的抗干性蚀刻性能，但不适合于应用。因为，具有高分子量的碱溶性树脂使得组合物的敏感性显著地降低。另一方面，常规的感光增强剂的增强性能比较低，为了满足敏感性要求需要大量地加入增强剂，其结果势必降低了所组成的敏射线树脂组合物的抗干性蚀刻性能。在本发明中，由于加入了含有具有非常高的感光增强性能的荧光材料的感光增强剂使得所组成的敏射线树脂组合物的敏感性与采用对照碱溶性树脂的组合物的敏感性相同。由于作为感光增强剂的荧光材料具有很高的感光增强性能，因此加入特别少量的这种感光增强剂就足以，以致于该加入的感光增强剂对除了敏感性之外的其它性能的影响非常低的可以忽略不计。因此，可以制得其敏感性与对照的敏射线树脂组合物的敏感性相同的敏射线树脂组合物，而且不会降低其抗干性蚀刻性能。
在本发明中所用的碱溶性树脂可以具有与起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量不相同的平均分子重量，但可以具有与起始敏射线树脂组合物的单体组份相同的单体组份。因此，可以通过对起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的低分子组份(例如，单体和二聚物)进行分馏使得据本发明所用的碱溶性树脂的平均分子重量比较起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高于5％。本发明所用的碱溶性树脂也可以分别单独地从与起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的单体相同的单体制备出来，而且由该单体制备出来的树脂的平均分子重量比较起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高5％。
据本发明的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂可以是任一个在常规敏射线树脂组合物中惯用的碱溶性树脂，其中包括作为较佳实例的，通过至少一个(苯)酚和醛，如甲醛水的缩聚作用制得的(线型)酚醛清漆苯酚型树脂。
用于制备上述碱溶性(线型)酚醛清漆型树脂的(苯)酚类可以包括甲(苯)酚类，如邻甲酚，对甲酚和间甲酚；二甲苯酚类，如3,5-二甲苯酚，2,5-二甲苯酚，2,3-二甲苯酚和3,4-二甲苯酚；三甲基苯酚类，如2,3,4-三甲基苯酚，2,3,5-三甲基苯酚，2,4,5-三甲基苯酚和3,4,5-三甲基苯酚；叔丁基苯酚类，如2-叔丁基苯酚，3-叔丁基苯酚和4-叔丁基苯酚；甲氧基苯酚类，如2-甲氧基苯酚，3-甲氧基苯酚，4-甲氧基苯酚，2,3-二甲氧基苯酚，2,5-二甲氧基苯酚和3,5-二甲氧基苯酚；乙基苯酚类，如2-乙基苯酚，3-乙基苯酚，4-乙基苯酚，2,3-二乙基苯酚，3,5-二乙基苯酚，2,3,5-三乙基苯酚和3,4,5-三乙基苯酚；氯酚类，如邻氯酚，间氯酚，对氯酚和2,3-二氯酚；间苯二酚类，如间苯二酚，2-甲基间苯二酚，4-甲基间苯二酚和5-甲基间苯二酚；儿茶酚类，如5-甲基儿茶酚；焦棓酚类，如5-甲基焦棓酚；双酚类，如双酚A,B,C,D,E和F；羟甲基甲(苯)酚类，如2,6-二羟甲基对甲(苯)酚；以及萘酚类，如α-萘酚，β-萘酚，上述酚可以单独地或以混合方式加以使用。
用于制备上述碱溶性(线型)酚醛清漆型树脂的醛类可以包括水杨醛，仲甲醛，乙醛，苯甲醛，羟基苯甲醛，氯乙醛以及甲醛水，上述醛可以单独地或以混合方式加以使用。
如果本发明中所用的碱溶性树脂对任意的干性蚀刻情况具有足够的抗耐性，那么它就能满足要求。它也可以是一个据需要分馏去其中的低分子量组份的树脂。通过分馏除去(线型)酚醛清漆型树脂中的低分子量组份的方法可以包括使用两个彼此对低分子量组份具有不同的溶解度的溶剂的液-液分馏方法，离心除去低分子量组份的方法，以及薄膜蒸馏法。
在本发明中所用的敏射线物质是一个可以被其波长与敏射线物质的吸收区域相重叠的光线照射而发生化学变化的物质，即可以改变敏射线树脂组合物在水或有机溶剂中的溶解性。可以与碱溶性树脂一起使用的敏射线物质可以包括它含有(苯)醌二叠氮化物的化合物。可用于本发明的这种含有(苯)醌二叠氮化物的化合物可以是任一个已知的惯用于(苯)醌二叠氮化物(线型)酚醛清漆型抗蚀剂的敏射线物质。
上述含有(苯)醌二叠氮化物的化合物最好是一个由萘醌二叠氮化物磺酰氯，如1,2-萘醌二叠氮化物-5-磺酰氯和1,2-萘醌二叠氮化物-4-磺酰氯，或苯醌二叠氮化物磺酰氯与一个具有能够与上述酰基氯进行缩合反应的功能基团的低分子或高分子化合物进行反应制得的化合物。上述能够与酰基氯进行缩合反应的功能基团可以是羟基，氨基等。其中特别优选羟基。
含有能够与酰基氯进行缩合作用的羟基的化合物可以是氢醌；间苯二酚；羟基二苯(甲)酮，如2,4-二羟基二苯(甲)酮，2,3,4-三羟基二苯(甲)酮，2,4,6-三羟基二苯(甲)酮，2,4,4’-三羟基二苯(甲)酮，2,3,4,4’-四羟基二苯(甲)酮，2,2’4,4’-四羟基二苯(甲)酮和2,2’,3,4,6’-五羟基二苯(甲)酮；羟基苯基(链)烷烃，如二(2,4-二羟基苯基)甲烷，二(2,3,4-三羟基苯基)甲烷和二(2,4-二羟基苯基)丙烷；羟基三苯基甲烷类，如4,4’,3”,4”-四羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷和4,4’,2”,3”,4”-五羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷。它们可以单独地或以混合方式加以使用。上述含有醌二叠氮化物的敏射线物质的用量通常是，相对于100重量份的碱溶性树脂，占有5-50，或10-40重量份。在据本发明的敏射线树脂组合物中也可以使用一个含有由碱溶性树脂与醌二叠氮化物所组成的反应生成物的敏射线物质。
另一方面，在据本发明的敏射线树脂组合物中将荧光材料用作感光增强剂，虽然本发明的理论尚不清楚，但是在本发明中只使用少量的荧光材料却能获得较高的敏感性，其理由应该如下述众所周知，敏射线物质的感光速率是随照射光线的波长而变化的，例如，人们已知一种物质，当用g-线，h-线和i-线光线照射时，那么该敏射线物质的感光速率按g-线，h-线和i-线的顺序降低。因此，当我们使用这种敏射线物质时，就可以考虑将i-线的光能转变成相对应于g-线或h-线的光能，以便改进受i-线照射时的抗蚀剂的感光性。在这种能量传递中，这种能量传递现象可以通过选择对于光源的波长和敏射线物质的吸收波长相适应的荧光材料加以利用。作为一个能量传递现象的模式，可以提及Foerster型的能量传递模式(Foerster,Th.,Naturwiss,33,第166-171页，1946年)。上述Foerster型能量传递模式的特征在于，虽然使用了一种荧光材料，但是从一个供体剂一个受体的激发能的传递却没有通过荧光。如果能量传递是通过荧光进行的话，那么被激发的荧光材料的激发能量将由于从该物质上发射出荧光而有所丧失。然而，在Foerster型能量传递中，从一个供体到一个受体的激发能的传递过程是在没有能造成任何激发能的丧失的发射荧光的情况下进行的。在引用Foerster型的能量传递现象的模式中，提示了在植物中的光合天线染色体系，在这个体系中太阳光的短波射线通过若干步骤的波长转变过程转变成为位于光合作用中的中央吸收峰的长波长的能量。在这个体系中的激发能的传递效率几乎是100％。在漫长的演变过程中，在光合天线染色体系中的激发能的传递逐渐选定了最有效的过程，其中在没有通过荧光的情况下进行传递。从上述事实可以看出，没有通过荧光作用的Foerster型的能量传递比较通过荧光作用的激发能的传递具有高得多的效率。此外，在通过荧光作用的激发能的传递与没有通过荧光作用的激发能的传递之间的最显著的区别在于体系中的荧光材料的浓度。如果通过荧光作用实施激发能的传递时(例如，JP-A62-81634)，那么加入的荧光材料的量比本发明的加入量远大得多。在没有通过荧光作用进行激发能的传递的体系中，正如在本发明中所示的非常低的浓度含量的情况下，就不会发生能的传递，因此不能有效地利用激发能。
在本发明中可用作感光增强剂的荧光材料包括有机的荧光材料，如萘及其衍生物，例如1-羟基萘，1-甲基萘，2,3-二甲基萘，1-氨基萘，2-氟萘，2-氯萘及1,7-二苯基萘；蒽及其衍生物，例如9-甲基蒽，9,10-二甲基蒽，9-氰基蒽，1-氨基蒽，9-苯基蒽，9,10-二苯基蒽，9,10-二氯蒽，9,10-二萘基蒽，9-乙烯基蒽及9-(对乙烯基苯基)-10-苯基蒽；菲及其衍生物，例如3,4’-苯并菲及2-苯基菲；芘及其衍生物，例如1,3,6,8-四苯基芘，联芘及邻亚苯基芘；苝及其衍生物，例如苯并苝；芴及其衍生物，例如1-甲基芴及1,2-苯并芴；咔唑及其衍生物，例如N-甲基咔唑，N-甲基苯并咔唑，N-苯基咔唑及N-乙烯基咔唑；联苯及其衍生物，例如4-甲基苯基联苯，3,3’-二甲基联苯，4-甲氧基联苯，4,4’-二甲基联苯，4,4’-二羟基联苯，4-苄基联苯，4-乙烯基联苯及八甲基联苯；对三联苯及其衍生物，例如4-甲基三联苯，2-甲基对三联苯，3,3”-二甲基三联苯，4-(3,3-二甲基丁氧基)对三联苯及2,2’-亚甲基-对三联苯；对四联苯及其衍生物，例如3’,3”'-二甲基-对四联苯，四甲基对四联苯及4-(3-乙基丁氧基)对四联苯；吲哚及其衍生物，例如2-苯基吲哚，1-甲基-2-苯基吲哚，1-N-丁基-2-二苯基吲哚，1,2-二苯基吲哚及1-联苯-2-吲哚；吖啶及其衍生物；并四苯及其衍生物，以及红荧烯及其衍生物；_及其衍生物。根据所用的照射光线的波长和敏射线物质的吸收波长范围结合选用上述物质。它们可以单独地或以两个或更多的结合形式加以使用。相对于100重量份的敏射线物质，所选用的上述荧光材料的量可以是0.0001-1.0重量份，并以0.0005-0.5重量份为宜。
根据本发明的敏射线树脂组合物所用的溶剂可以包括(1,2-亚)乙(基)二醇单烷基醚，例如乙二醇单甲基醚及乙二醇单乙基醚；乙二醇单烷基醚醋酸酯，例如乙二醇单甲基醚醋酸酯及乙二醇单乙基醚醋酸酯；丙二醇单烷基醚，例如丙二醇单甲基醚及丙二醇单乙基醚；丙二醇单烷基醚醋酸酯，例如丙二醇单甲基醚醋酸酯及丙二醇单乙基醚醋酸酯；乳酸酯类，例如乳酸甲酯及乳酸乙酯；芳香烃，例如甲苯及二甲苯；酮类，例如甲基乙基酮，2-庚酮及环己酮；酰胺类，例如N，N-二甲基乙酰胺及N-甲基吡咯烷酮；以及内酯类，例如γ-丁内酯。这些溶剂可以单独地或以两个或更多的结合形式加以使用。
染料，粘合助剂及表面活性剂等也可以根据需要加入到本发明的敏射线树脂组合物中。上述染料可以包括甲基紫，结晶紫，孔雀绿等；上述粘合助剂可以包括烷基咪唑啉，丁酸，烷基酸，多羟基苯乙烯，聚乙烯甲基醚，叔丁基(线型)酚醛清漆，环氧硅烷，环氧聚合物，硅烷等；上述表面活性剂包括非离子型表面活性剂，例如聚乙二醇类及其衍生物，即聚丙二醇或聚氧乙烯月桂基醚，含氟表面活性剂，例如FluoradTM(Sumitomo3M公司)，MegafacTM(Dainippon Ink化学公司)SulflomTM(Asahi玻璃公司)或有机硅氧烷表面活性剂，如KP341(Shin-Etu化学公司)。
如上所述，本发明的敏射线树脂组合物包含有碱溶性树脂，敏射线物质和作为感光增强剂的荧光材料，其中该碱溶性树脂的平均分子重量比较起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高5％，由此可以改进该敏射线树脂组合物的抗干性蚀刻性能。通过改进其抗干性蚀刻性能方法所制得的本发明的敏射线树脂组合物宜用于生产半导体，制备LCD板的液晶显示平面以及生产电路衬底(基片)，例如热压头。
本发明的最佳实施例现在我们用实施例进一步详述本发明，这些实施例并不构成对本发明的任何限制。
实施例1把100重量份的已除去其中的单体及二聚物的，经聚苯乙烯标准测定其平均分子重量为6800的(线型)酚醛清漆型树脂，15重量份的作为敏射线物质的由2,3,4,4’-甲羟基二苯(甲)酮与1,2-萘并醌二叠氮-5-磺酰氯以及1,2-萘并醌二叠氮化物-4-磺酰氯所组成的混合酯类，以及0.0025重量份的作为感光增强剂的9,10-二氯蒽荧光材料(相对于每100重量份的敏射线物质)一起溶解于丙二醇单甲基醚醋酸酯中。向上述生成的溶液中加入300ppm的氟基表面活性剂FluoradTMF-472(Sumitomo 3M公司)以防止所谓的辉纹的出现，即在旋转涂敷中在(光致)抗蚀薄膜上形成放射状皱纹，将上述溶液搅拌并在0.2μm滤器中过滤以制备本发明的敏射线树脂组合物，将上述组合物旋转涂敷在4英寸的硅圆片上，并放在热盘上在100℃中焙烤90秒以形成其厚度为1.5μm的(光致)抗蚀薄膜。通过具有许多谱线宽和间隔宽的图案的测试图将上述(光致)抗蚀薄膜曝光，其中的线和间隔宽度分别是1∶1，并采用i-线步进器(LD-5015iCW，日立公司制造)，并且用2.20％(重量)的含水四甲基氢氧化铵溶液在23℃温度中显象60秒钟。经过显影后，该图案的敏感性被估为曝光能量值(E0)，其中的5μm线一间隔的清晰度1∶1。其结果如表1所示。
此外，用上述同样的方法制备1.5μm厚的敏射线树脂涂膜。然后，在其组成为C2F6∶CHF3∶He=16∶24∶100的气体中，在离子蚀刻装置(RIE-10N，由Samuco公司制备)中的分别为90,100,110,120,130和140W的条件下进行5分钟的干性蚀刻，经蚀刻后，观测该涂膜的表面情况，其结果显示于表2中。
用下列标准评估经蚀刻后的涂膜的表面情况。B级别以上的涂膜才可实用。
A级别没有变化B级别变绿C级别云斑，混浊D级别碳化实施例2实施如同实施例1的试验步骤，但是所用的(线型)酚醛清漆树脂是一个已除去其中的单体及二聚物，并经聚苯乙烯标准测定其平均分子重量为7100的(线型)酚醛清漆树脂，而且相对于每100重量份的敏射线物质所用的9,10-二氯蒽荧光材料量是0.005重量份，该试验结果都显示于表1和表2中。
实施例3实施如同实施例1的试验步骤，但是所用的(线型)酚醛清漆树脂是一个已除去其中的单体及二聚物，并经聚苯乙烯标准测定其平均分子重量为7400的(线型)酚醛清漆树脂，而且相对于每100重量份的敏射线物质所加入的9,10-二氯蒽荧光材料量是0.0075重量份，该试验结果都显示于表1和表2中。
比较例1实施如同实施例1的试验步骤，但是没有加入感光增强剂，该试验结果都显示于表1和表2中。
比较例2实施如同实施例2的试验步骤，但是没有加入感光增强剂，该试验结果都显示于表1和表2中。
比较例3实施如同实施例3的试验步骤，但是没有加入感光增强剂，该试验结果显示于表1和表2中。
比较例4实施如同实施例1的试验步骤，但是所用的(线型)酚醛清漆树脂是一个已除去其中的单体及二聚物，并经聚苯乙烯标准测定其平均分子重量为6400的酚醛清漆树脂，而且没有加入感光增强剂，该试验结果都显示于表1和表2中。
比较例5实施如同实施例1的试验步骤，但是作为感光增强剂的邻甲(苯)酚代替了荧光材料，而且其加入量是每100重量份的敏射线物质为40重量份，该试验结果都显示于表1和表2中。
表1
表2
对表1中的各试验例的平均分子重量和感光性的比较，以及对表2中的抗蚀刻性能的比较，特别是在110W与120W蚀刻条件下的抗蚀刻性能的比较，我们可以看到根据本发明的组合物能得到更高的敏感性而且没有损害抗蚀刻性能，因为根据本发明组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量比较起始敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高5％，而且本发明组合物中加入了很少量的荧光材料也能改进其敏感性。
本发明的效果根据本发明的敏射线树脂组合物不但能形成优良的图案，而且能显著改进抗干性蚀刻性能同时又能保持高敏感性及高清晰度。因此，根据本发明的敏射线树脂组合物具有重要的用途，并宜用于生产半导体装置以及液晶显示装置。
权利要求
1．一个含有碱溶性树脂，敏射线物质与作为感光增强剂的荧光材料的敏射线树脂组合物，其中的碱溶性树脂的平均分子重量比较与上述敏射线树脂组合物具有相同组份与相同敏感性的，但不含有感光增强剂，而且含有不同平均分子重量的碱溶性树脂的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少高5％。
2．根据权利要求1的敏射线树脂组合物，其中所加入的荧光材料的量，相对于100重量份的敏射线物质为0.0001-1.0重量份。
3．用于含有碱溶性树脂，敏射线物质与作为感光增强剂的荧光材料的敏射线树脂组合物的改进抗干性蚀刻性能的方法，其中使该组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量比较与上述敏射线树脂组合物具有相同组份与相同敏感性的，但不含有感光增强剂，而且含有不同平均分子重量的碱溶性树脂的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂的平均分子重量至少提高5％。
4．根据权利要求3的用于敏射线树脂组合物的改进抗干性蚀刻性能的方法，其中使荧光材料的加入量，相对于100重量份的敏射线物质为0.0001-1.0重量份。
全文摘要
一个能够显著改进敏射线树脂组合物的防干性蚀刻性能的方法,其中能形成优良的图案,同时保持高敏感性和高清晰度,以及一个由此制得的敏射线树脂组合物。该敏射线树脂组合物包含有碱溶性树脂,敏射线物质以及荧光材料,该荧光材料的加入量是相对于每100重量份的敏射线物质为0.0001—1.0重量份,其中该碱溶性树脂的平均分子重量比较与上述敏射线树脂组合物具有相同敏感性的,但不含有感光增强剂的敏射线树脂组合物中的碱溶性物质的平均分子重量至少高5%。
文档编号H05K3/00GK1313962SQ00801036
公开日2001年9月19日 申请日期2000年6月5日 优先权日1999年6月8日
发明者高桥修一 申请人:克拉瑞特国际有限公司