一种单面离型复合膜及其挤出复合工艺的制作方法

本发明涉及高分子复合膜技术领域，特别涉及一种单面离型复合膜及其挤出复合工艺。

背景技术：

离型膜是指表面具有分离性的薄膜，多用做包装材料或广泛应用于建筑、装修、喷涂等领域。但在实际应用中，目前常用的离型膜多存在以下缺陷：

由于离型膜的制作流程一般是在高分子薄膜上淋聚乙烯膜，然后再涂覆一层含硅离型剂或非硅离型剂，其制造过程必须经过淋膜、涂覆两道独立生产工序，质量控制难度大，容易出现离型剂固化及干燥不充分致使在使用过程中离型剂转移及溶剂挥发等质量问题，导致生产效率低、良品率低且生产成本高等问题。

为此，在申请号为201410725616.5的发明专利中公开了一种离型剂及其离型纸和离型膜，虽然其在淋膜料中添加了特定比例的具有离型功能的化合物或聚合物，从而合并了淋膜和离型剂涂覆两个步骤，但在实际生产中，该具备离型功能化合物的加入会导致淋膜层与基材层不具备或者只具备很低的粘合强度，大大降低了成型后离型膜的模切及使用效果。

技术实现要素：

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种单面离型复合膜，该复合膜中共挤膜层的内层具有良好的粘合性、外层具有良好的离型能力，能较好地满足单面离型复合膜在应用中的性能需求。

本发明的另一目的在于提供上述单面离型复合膜的挤出复合工艺，该制作工艺简单、制造成本较低。

本发明的技术方案为：一种单面离型复合膜，包括依次连接的离型层、粘接层和基材层，离型层和粘接层采用共挤方式一次成型为共挤膜层。

所述离型层的主要成分及其重量份数如下：

低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯或高密度聚乙烯中的一种或多种共53～98份；

碳酸钙填料0～30份；

色母粒0～10份；

离型剂2～7份。

作为一种优选方案，所述离型层的主要成分及其重量份数如下：

低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯或高密度聚乙烯中的一种或多种共54～98份；

碳酸钙填料0～30份；

色母粒0～10份；

硅油、固体硅粉或非硅离型剂中的一种或多种2～6份。

作为另一种优选方案，所述离型层的主要成分及其重量份数为：

低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯或高密度聚乙烯中的一种或多种共53～97份；

碳酸钙填料0～30份；

色母粒0～10份；

硅油、固体硅粉或非硅离型剂中的一种或多种3～7份。

所述粘接层的主要成分为低密度聚乙烯(ldpe)、线性低密度聚乙烯(lldpe)、高密度聚乙烯(hdpe)、乙烯-丙烯酸共聚物(eaa)或乙烯-甲基丙烯酸共聚物(emaa)中的一种或多种。

所述基材层为布基材、纸基材或薄膜基材中的一种。

上述单面离型复合膜的挤出复合工艺，包括以下步骤：

(1)设置第一挤出机和第二挤出机，且第一挤出机和第二挤出机共同连接分配器，分配器再连接共挤模头；

(2)将制作离型层的原料进行混合，并送入第一挤出机；同时，将制作粘接层的原料送入第二挤出机；

(3)第一挤出机和第二挤出机通过分配器和共挤模头同时挤出成型离型层和粘接层，挤出过程中同时复合形成共挤膜层，成型后共挤膜层的内层为粘接层，外层为离型层；

(4)基材放出后，利用复合装置所提供的压力，将基材与共挤膜层的内层进行复合，再冷却定型后形成单面离型复合膜。

进一步地，所述离型层和粘接层之间还设有填充层，离型层、填充层和粘接层采用共挤方式一次成型为共挤膜层。

所述填充层采用无机填料，包括碳酸钙、滑石粉或高岭土中的一种或多种，填充层为一层或多层。无机填料的填充量可根据单面离型复合膜的实际硬度要求进行调整。

当填充层为一层时，上述单面离型复合膜的挤出复合工艺，包括以下步骤：

(1)设置第一挤出机、第二挤出机和第三挤出机，且第一挤出机、第二挤出机和第三挤出机共同连接分配器，分配器再连接共挤模头；

(2)将制作离型层的原料进行混合，并送入第一挤出机；同时，将制作填充层的原料送入第二挤出机，将制作粘接层的原料送入第三挤出机；

(3)第一挤出机、第二挤出机和第三挤出机通过分配器和共挤模头同时挤出成型离型层、填充层和粘接层，挤出过程中同时复合形成共挤膜层，成型后共挤膜层的内层为粘接层，外层为离型层；

(4)基材放出后，利用复合装置所提供的压力，将基材与共挤膜层的内层进行复合，再冷却定型后形成单面离型复合膜。

所述填充层为多层时，每个填充层对应设置一台第二挤出机，将第一挤出机、多台第二挤出机和第三挤出机共同连接分配器，分配器再连接共挤模头。其制作过程中，每台第二挤出机对应挤出一层填充材料，将多台挤出机共同连接同一分配器和共挤模头，最终实现共挤成型。

上述单面离型复合膜中，在离型层和基材层之间加入粘接层，该粘接层可在不影响离型层离型效果的基础上与基材产生较好的粘接。由于离型层和粘接层所采用的主要材料均为聚乙烯(包括低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯或高密度聚乙烯)，且二者经由分配器后于同一共挤模头中熔融混合挤出，熔体交会时间相对较长，利于离型层和粘接层的分子链在界面上相互渗透、缠结，从而保证了离型层和粘接层之间具备很高的剥离强度，使用过程中不会发生分层现象；此外，除了基材层之外的其他层结构均采用共挤方式加工成型，该一步法离型膜制备工艺消除了现有的淋膜-涂覆两步法制备工艺过程中存在的有机溶剂挥发问题及溶剂残留问题。

本发明相对于现有技术，具有以下有益效果：

本单面离型复合膜中，其共挤膜层的内层具有良好的粘合性、外层具有良好的离型能力，能较好地满足单面离型复合膜在应用中的性能需求，该共挤膜层不仅可以实现与基材的良好粘接，并具备优良的离型效果，经过试验检测，其离型力可达30g/25mm，与基材的剥离力大于0.3n/15mm。

本单面离型复合膜的挤出复合工艺中，利用分配器和共挤模头的配合，将除了基材层之外的其他层结构均采用共挤方式加工成型，该生产工艺简单，生产效率高，且消除了现有的淋膜-涂覆两步法制备工艺过程中存在的有机溶剂挥发问题及溶剂残留问题。

附图说明

图1为实施例1单面离型复合膜的结构示意图。

图2为实施例1单面离型复合膜制作时的工艺原理图。

图3为实施例2单面离型复合膜的结构示意图。

图4为实施例2单面离型复合膜制作时的工艺原理图。

上述各图中，各附图标记所示部件如下：1为离型层，2为粘接层，3为基材层，4为填充层，5为第一挤出机，6为第二挤出机，7为放卷机构，8为复合装置，9为第三挤出机，10为分配器，11为共挤模头。

具体实施方式

下面结合实施例，对本发明作进一步的详细说明，但本发明的实施方式不限于此。

实施例1

本实施例一种单面离型复合膜，如图1所示，包括依次连接的离型层1、粘接层2和基材层3，其中，各层结构的主要成分及其重量份数如下：

离型层：采用线性低密度聚乙烯97份、硅油0.5份、粉状离型剂2.5份混合；

粘接层：采用线性低密度聚乙烯65份、低密度聚乙烯35份混合；

基材层：采用涤纶网格布。

该单面离型复合膜的挤出复合工艺如图2所示，具体过程为：

(1)设置第一挤出机5和第二挤出机6，且第一挤出机和第二挤出机共同连接分配器10，分配器再连接共挤模头11；

(2)将制作离型层的原料进行混合，并送入第一挤出机；同时，将制作粘接层的原料送入第二挤出机；

(3)第一挤出机和第二挤出机通过分配器和共挤模头同时挤出成型离型层和粘接层，挤出过程中同时复合形成共挤膜层，成型后共挤膜层的内层为粘接层，外层为离型层；

(4)基材由放卷机构7放出后，利用复合装置8所提供的压力，将基材与共挤膜层的内层进行复合，再冷却定型后形成单面离型复合膜。

其中，分配器及共挤模头均采用现有共挤设备中通用的分配器及t型模头即可。

对所制得的单面离型复合膜进行检测，其离型力为351g，剥离强度为1n/15mm。

对比例1

采用单层挤出，以ldpe+4％硅油为挤出料，挤出层和布基材的结构为离型层和基材布相结合，经过检测，其剥离强度≤0.2n/15mm，剥离强度太低，易离层，不利于后期应用(如胶带制作等)。

实施例2

本实施例一种单面离型复合膜，如图3所示，包括依次连接的离型层1、填充层4、粘接层2和基材层3，其中，各层结构的主要成分及其重量份数如下：

离型层：采用线性低密度聚乙烯97份、硅油0.5份、粉状离型剂2.5份混合；

填充层：采用线性低密度聚乙烯27份、低密度聚乙烯50份、填充料19份、色母料4份混合；

粘接层：采用线性低密度聚乙烯65份、低密度聚乙烯35份混合；

基材层：采用涤纶网格布。

该单面离型复合膜的挤出复合工艺如图4所示，具体过程为：

(1)设置第一挤出机5、第二挤出机6和第三挤出机9，且第一挤出机、第二挤出机和第三挤出机共同连接分配器10，分配器再连接共挤模头11；

(2)将制作离型层的原料进行混合，并送入第一挤出机；同时，将制作填充层的原料送入第二挤出机，将制作粘接层的原料送入第三挤出机；

(3)第一挤出机、第二挤出机和第三挤出机通过分配器和共挤模头同时挤出成型离型层、填充层和粘接层，挤出过程中同时复合形成共挤膜层，成型后共挤膜层的内层为粘接层，外层为离型层；

(4)基材由放卷机构7放出后，利用复合装置8所提供的压力，将基材与共挤膜层的内层进行复合，再冷却定型后形成单面离型复合膜。

其中，分配器及共挤模头均采用现有共挤设备中通用的分配器及t型模头即可。

对所制得的单面离型复合膜进行检测，其离型力为351g，剥离强度为1n/15mm。

对比例2

不采用双层共挤，仅挤出涂覆ldpe，没有硅油，制作的胶带结构为ldpe和基材布相结合，经检测，其剥离强度约为1n/15mm。但ldpe一侧的离型力为700g，离型效果差，不利于后期应用，如制作胶带时会导致卸卷力过大且使用过程中胶带不易从胶带卷剥离。

如上所述，便可较好地实现本发明，上述实施例仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；即凡依本发明内容所作的均等变化与修饰，都为本发明权利要求所要求保护的范围所涵盖。