一种光学革的制作方法

文档序号:24550885发布日期:2021-04-06 12:03阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光学革,其特征在于,其包括:

压纹革层,其具有皮质视感和触感的复数纹理结构;

光学层,其具有微纳结构层和设置于所述微纳结构层上的镀膜层,所述微纳结构层包括复数凸起和/或凹下设置的微纳结构;

辅助革层,设置于所述压纹革层和所述光学层之间;

其中,所述光学层还包括基层,所述微纳结构层设置于所述基层和所述镀膜层之间;所述光学层还包括打底或辅助显色的着色层,所述镀膜层设置于所述微纳结构层和着色层之间。

2.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层设置于所述辅助革层的一侧,所述压纹革层远离所述辅助革层的一侧设置复数所述纹理结构;所述微纳结构层设置于所述辅助革层的另一侧,所述微纳结构层远离所述辅助革层的一侧设置所述复数微纳结构;所述微纳结构层设置于所述辅助革层和所述镀膜层之间。

3.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层包括pu层、pvc层或tpu层;所述辅助革层包括pu层、pvc层或tpu层。

4.根据权利要求1或2或3所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层和辅助革层叠加为两层或多层pu、pvc或tpu叠加。

5.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层和辅助革层之间具有界面,或者所述压纹革层和辅助革层之间没有界面,或者所述压纹革层和辅助革层之间通过粘胶层粘结。

6.根据权利要求1或2所述的光学革,其特征在于,所述基层为pet层、pi层、cpi层、pc层或pmma层其中之一者或复合层。

7.根据权利要求2所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括耐磨层,所述压纹革层设置所述耐磨层和辅助革层之间。

8.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括支架层或承载层,所述支架层或承载层用于支撑所述光学革的其他层次。

9.根据权利要求8所述的光学革,其特征在于,所述光学层具有所述支架层时,所述支架层为塑料支架、玻璃支架或金属支架,所述支架层为网格状支架或板状支架;所述光学革具有所述承载层时,所述承载层为塑料层、金属层、玻璃层或布层。

10.根据权利要求2所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层的厚度不小于50μm,所述辅助革层的厚度为50μm-2000μm。


技术总结
本实用新型揭示一种光学革,其包括压纹革层、光学层和辅助革层;压纹革层具有皮质视感和触感的复数纹理结构;光学层具有微纳结构层和设置于所述微纳结构层上的镀膜层,所述微纳结构层包括复数凸起和/或凹下设置的微纳结构;辅助革层设置于所述压纹革层和所述光学层之间,用于加强所述光学革的弹性。光学层还包括基层和着色层。光学层的光学效果可使压纹革层的皮质更加亮丽,颜色更加明亮,或者呈现随视觉变化的光影条纹,从而光学革呈现的皮质视感更为出众。

技术研发人员:洪莘;刘立冬;高育龙
受保护的技术使用者:昇印光电(昆山)股份有限公司
技术研发日:2020.04.21
技术公布日:2021.04.06
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